液態(tài)感光至抗蝕刻及圖形轉(zhuǎn)移工藝-展示頁(yè)
2025-07-03 04:44本頁(yè)面
【正文】 方法有：機(jī)械研磨法、化學(xué)前處理法及兩者相結(jié)合之方法。一般溫度≤25℃，相對(duì)濕度≤60%，無(wú)塵室黃光下操作，使用壽命為3天，最好24hr內(nèi)使用完。如：臺(tái)灣精化公司產(chǎn)GSP1550、臺(tái)灣緹穎公司產(chǎn)APR700等，此類(lèi)皆屬于單液油墨，可用簡(jiǎn)單的網(wǎng)印方式涂覆，用稀堿水顯影，用酸性或弱堿性蝕刻液蝕刻。因此，工作場(chǎng)地必須通風(fēng)良好?！ 〉?，濕膜厚度（Thickness）均勻性不及干膜，涂覆之后的烘干程度也不易掌握好增加了曝光困難．故操作時(shí)務(wù)必仔細(xì)。5%，陰涼處密封保存，貯存期(Storage Life):4～6個(gè)月。 i）濕膜屬單液油墨容易存貯保管，一般放置溫度為20177?！ ）由于是液態(tài)濕膜，可撓性強(qiáng)，尤其適用于撓性板（Flexible Printed Board）制作。濕膜是液態(tài)膜，不起翹、滲鍍、線路整齊，涂覆工序到顯形工序允許擱置時(shí)間可達(dá)４８ｈｒ，解決了生產(chǎn)工序之間的關(guān)聯(lián)矛盾，提高了生產(chǎn)效率。從而保證了產(chǎn)質(zhì)量量。再則濕膜薄可達(dá)5～10ｕｍ，只有干膜的1/3左右，而且濕膜上層沒(méi)有覆蓋膜（在干膜上層覆蓋有約為25ｕｍ厚的聚酯蓋膜），故其圖形的解像度、清晰度高?！ ）濕膜涂布方式靈活、多樣，工藝操作性強(qiáng)，易于掌握。解像度(Resolution)大大提高，傳統(tǒng)油墨解像度為200ｕm，濕膜可達(dá)40ｕm。與傳統(tǒng)抗蝕油墨及干膜相比具有如下特點(diǎn)： a）不需要制絲網(wǎng)模版。本文就PCB圖形轉(zhuǎn)移中液態(tài)感光至抗蝕劑及其制作工藝進(jìn)行淺析。其工藝方法有很多，如絲網(wǎng)印刷（Screen Printing）圖形轉(zhuǎn)移工藝、干膜（Dry Film）圖形轉(zhuǎn)移工藝、液態(tài)感光至抗蝕劑（Liquid Photoresist）圖形轉(zhuǎn)移工藝、電沈積光至抗蝕劑（ED膜）制作工藝以及激光直接成像技術(shù)（Laser Drect Image）。液態(tài)感光至抗蝕刻及圖形轉(zhuǎn)移工藝PCB制造工藝（Technology）中，無(wú)論是單、雙面板及多層板（MLB），最基本、最關(guān)鍵的工序之一是圖形轉(zhuǎn)移，即將照相底版（Artwork）圖形轉(zhuǎn)移到敷銅箔基材上。圖形轉(zhuǎn)移是生產(chǎn)中的關(guān)鍵控制點(diǎn)，也是技術(shù)難點(diǎn)所在。當(dāng)今能取而代之干膜圖形轉(zhuǎn)移工藝的首推液態(tài)感光至抗蝕劑圖形轉(zhuǎn)移工藝，該工藝以膜薄，分辨率(Resolution)高，成本低，操作條件要求低等優(yōu)勢(shì)得到廣泛應(yīng)用。 一．液態(tài)感光至抗蝕劑（Liquid Photoresist） 液態(tài)感光至抗蝕劑（簡(jiǎn)稱(chēng)濕膜）是由感旋光性樹(shù)脂，配合感光劑、色料、填料及溶劑等制成，經(jīng)光照射后產(chǎn)生光聚合反應(yīng)而得到圖形，屬負(fù)性感光聚合型。采用底片接觸曝光成像（Contact Printig），可避免網(wǎng)印所帶來(lái)的滲透、污點(diǎn)、陰影、圖像失真等缺陷?！ ）由于是光固化反應(yīng)結(jié)膜，其膜的密貼性、結(jié)合性、抗蝕能力（Etch Resistance）及其抗電鍍能力比傳統(tǒng)油墨好。 d）與干膜相比，液態(tài)濕膜與基板密貼性好，可填充銅箔表面輕微的凹坑、劃痕等缺陷。如：在曝光時(shí)間為4S/7K時(shí)，干膜的解像度為75ｕｍ，而濕膜可達(dá)到40ｕｍ?！ ）以前使用干膜常出現(xiàn)的起翹、電鍍滲鍍、線路不整齊等問(wèn)題?！ ）對(duì)于當(dāng)今日益推廣的化學(xué)鍍鎳金工藝，一般干膜不耐鍍金液，而濕膜耐鍍金液?！ ）濕膜由于本身厚度減薄而物d料成本降低，且與干膜相比，不需要載體聚酯蓋膜（Polyester Cover sheet
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