液態(tài)感光至抗蝕刻及圖形轉(zhuǎn)移工藝-文庫吧資料
2025-06-30 04:44本頁面
【正文】 常為6～8級?！ ?．曝光（Exposuring） 液態(tài)感光至抗蝕劑經(jīng)UV光（300～400nm）照射后發(fā)生交聯(lián)聚合反應(yīng)，受光照部分成膜硬化而不被顯影液所影響?！ 』顒愉N釘定位系統(tǒng)包括照相膠卷沖孔器和雙圓孔脫銷定位器，其方法是：先將正面，反面兩張底版藥膜相對對準(zhǔn)，用膠卷沖孔器在有效圖形外任意沖兩個定位孔，任取一張去編鉆孔程序，就可以利用鉆床一次性鉆孔，印制板金屬化孔及預(yù)鍍銅后，便可用雙圓孔脫銷定位器定位曝光。重氮片呈棕色或桔紅色半透明狀態(tài)，可以保證較好的重合對位精度。定位的方法有目視定位、活動銷釘定位，固定銷釘定位等多種方法。 4．定位（Fixed Postion） 隨著高密度互連技術(shù)（HDI）應(yīng)用不斷擴(kuò)大，分辨率和定位度已成為PCB制造廠家面臨的重大挑戰(zhàn)?！ 。?）預(yù)烘后，涂膜到顯影擱置時間最多不超過48hr，濕度大時盡量在12hr內(nèi)曝光顯影?！ 。?）若采用烘箱，一定要帶有鼓風(fēng)和恒溫控制，以使預(yù)烘溫度均勻。 ?。?）不要使用自然干燥，且干燥必須完全，否則易粘底片而至曝光不良。所以，預(yù)烘恰當(dāng)，顯影和去膜較快，圖形質(zhì)量好。 控制好預(yù)烘的溫度（Temperature）和時間（Time）很重要。5℃，時間約20～30分鐘。這種一先一后預(yù)烘，使兩面濕膜預(yù)固化程度存在差異，顯影的效果也難保證完全一至。5℃，10～15分鐘；第二面預(yù)烘溫度為80177。預(yù)烘的方式最常用的有烘道和烘箱兩種?！ ?．預(yù)烘（Precuring） 預(yù)烘是指通過加溫干燥使液態(tài)感光至抗蝕劑膜面達(dá)到干燥，以方便底片接觸曝光顯影制作出圖形?！ ?）因液態(tài)感光至抗蝕劑含有溶劑，作業(yè)場所必須換氣良好。 3）涂膜時盡量防止油墨進(jìn)孔?！ ?）網(wǎng)印時若感光至涂覆層膜太厚，是因?yàn)榻z網(wǎng)目數(shù)太??；膜太薄，那可能是絲網(wǎng)目數(shù)太大所至?！ ⊥扛膊僮鲿r應(yīng)注意以下幾方面 1）若涂覆層有針孔，可能是感光至抗蝕劑有不明物，應(yīng)用丙酮洗凈且更換新的抗蝕劑。 工作條件：無塵室黃光下操作，室溫為23～25℃，相對濕度為55177?！ 『熌煌扛惨策m宜大規(guī)模生產(chǎn)，也能均勻控制涂覆層厚度，但設(shè)備要求高，且只能涂完一面后再涂另一面，影響生產(chǎn)效率。此法受到多數(shù)中小廠家的歡迎。但不易雙面同時涂覆，生產(chǎn)效率低，膜的均勻一至性不能完全保證。其方法有多種，如離心涂覆、浸涂、網(wǎng)印、簾幕涂覆、滾涂等?！ ∽⒁猓呵鍧嵦幚砗蟮陌遄討?yīng)戴潔凈手套拿放，并立即涂覆感光膠，以防銅表面再氧化。 檢查方法：采用水膜試驗(yàn)，水膜破裂試驗(yàn)的原理是基于液相與液相或者液相與固相之間的接口化學(xué)作用。20～40℃ 經(jīng)過化學(xué)處理的銅表面應(yīng)為粉紅色。2%V/V 溫度： 170～200g/l H2SO4(98%)40～60℃ 微蝕（Microetehing）： NaS2O8 10～20g/l 溫度： 典型的化學(xué)前處理工藝： 去油→清洗→微蝕→清洗→烘干 去油： Na3PO4 40～60g/l Na2CO3 40～60g/l NaOH 磨完板后最好進(jìn)行防氧化處理?！ ∷ 海?～3kg/cm2?！ ∧猃埶ⅲ∟ylon Brush):500～800目，大部分采用600目?！ 2SO4: %。 前處理的
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