x射線衍射儀與能譜儀綜合介紹-展示頁
2025-05-05 13:10本頁面
【正文】 全反射 X射線能譜 ? 分析應(yīng)用的特點－粉末樣品測試示意 全反射 X射線能譜 ? 分析應(yīng)用的特點－液體樣品制備與測試 懸浮液樣品可以沉積在樣品托上，對于溶液或高純液體，用加內(nèi)標(biāo)元素可進(jìn)行定量測量，測定限可達(dá) ng/g量級或者更低。單個的微量樣品（顆粒，長條等）也可以用類似的方法直接制樣。典型的方法是，使用小勺或無塵紙轉(zhuǎn)移幾微克（ 181。 X射線能譜分析應(yīng)用特點 ? 樣品前處理簡單（固體、粉末、薄片） ? 適用分析的元素范圍廣（一般 Na～ U） ? 多元素同時分析，檢出限 ppm級 ? 分析快速，幾分鐘完成測試 ? 耗材、附件及周邊設(shè)備簡單 XRF9－結(jié)構(gòu) XRF9－原理框架 XRF9－臺式 X射線熒光能譜儀 ? 先進(jìn)的多光束可調(diào)節(jié)系統(tǒng) ? 高分辨率探測器 ? 采用 XYZ三維運(yùn)動樣品臺 ? 大型樣品分析室 ? CCD攝像及自動定位系統(tǒng) ? 自動調(diào)節(jié)雙層六通道濾光系統(tǒng) XRF9－配置規(guī)格 ? 高壓電源： 50kV/1mA（ SPELLMAN進(jìn)口） ? X光管： Ag靶（國產(chǎn)， Mo/W/Rh可選） ? 濾光片： 6通道自動調(diào)節(jié) ? 樣品臺： 120mm*120mm 三維運(yùn)動控制 ? 探測器： SiPIN（ AMPTEK進(jìn)口） ? 信號處理系統(tǒng)： PX4 （ AMPTEK進(jìn)口） ? 數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)： XRF9 ? 防護(hù)機(jī)柜：連鎖防護(hù) XRF9－技術(shù)指標(biāo) 項目 指標(biāo) 穩(wěn)定性 3％ 重復(fù)性 5％ 激發(fā)功率 50W 探測器分辨率 149eV X射線輻射劑量 1μSv/h 代表元素檢出限（ ppm，塑料基體） Cr： Br： 2 . Cd： Hg： Pb： 5 代表元素檢出限（ ppm，鋁基體） Cr： Mn： 、 Sr： Sn： Pb： 4 主機(jī)重量 45kg 輸入條件 AC 220V/5A， 0~40℃ ，濕度 80% XRF9－功能指標(biāo) ? 測量時間： 60～ 300s ? 測量對象：塊狀固體、固體粉末、液體 ? 元素分析范圍 ： Al～ U ? 同時分析元素數(shù)量： 30 ? 含量分析范圍 ： 1ppm~99% ? 樣品三維運(yùn)動控制精度： 1mm ? 樣品監(jiān)視鏡頭數(shù)量： 3（俯視、側(cè)視、放大） ? 樣品臺尺寸： 400(L) 100(W) 100(H)mm XRF9－軟件 ? 樣品運(yùn)動控制 ? 能譜獲取系統(tǒng) ? 圖譜處理系統(tǒng) ? 定性 ? 能量及強(qiáng)度校準(zhǔn) ? 定量方法建立（靈敏度、標(biāo)準(zhǔn)曲線） ? 輸出文件版面格式設(shè)計 XRF9－軟件 XRF9－軟件 XRF9－安全設(shè)計 ? 樣品室與照射工作艙獨立 ? 樣品室開關(guān)操作具備感應(yīng)觸點 ? 射線光閘連鎖控制 ? 指示燈提示 XRF9－樣品前處理 樣品形態(tài) 處理 前處理裝置 粉狀試樣 不處理（裝入容器中） 壓力機(jī)加壓成型 熔化、玻璃珠化 模塊壓機(jī) 玻璃珠試樣制作裝置 液體樣品 濾紙取樣干燥 干燥裝置 塊狀樣品 不處理（平坦處放置測定部位） 有機(jī)體樣品 表面研磨、切削 硝化處理 研磨機(jī) 硝化裝置 XRF9－應(yīng)用領(lǐng)域 ? 塑料外殼、電路板等聚合物中 Br、 Cl、 Pb、 Hg、 Cd測定 ? 陶瓷、焊錫等其他樣品的 Cd、 Pb、 Hg、 Br、 Cr的測定 ? 礦石、金屬冶煉、銅陽極、鑄鐵、金銀首飾、寶石鑒定 ? 石油元素檢測、各種催化劑、陶瓷材料 ? 血液、體液、毛發(fā)、藥品等微量元素分析 ? 工業(yè)排放污水、土壤中重金屬測量 ? 水泥、鋼材元素分析 XRF7－便攜 X射線能譜儀 ? X射線能譜儀器的構(gòu)成（小型便攜） XRF7－便攜 X射線能譜儀 ? X射線能譜儀器的構(gòu)成（小型便攜） XRF7技術(shù)指標(biāo) ? 元素分析范圍：鋁 (Al)～鈾 (U) ? 元素含量分析范圍： 1 % ? 測量時間： 300秒 ?
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