ecvd工藝培訓(xùn)ppt課件-展示頁
2025-01-19 15:32本頁面
【正文】 優(yōu)良的表面鈍化效果 高效的光學(xué)減反射性能（厚度和折射率匹配） 低溫工藝（有效降低成本） Si3N4膜的作用 : 減少光的反射 :良好的折射率和厚度可以促進(jìn)太陽光的吸收。但是 PECVD沉積氮化硅的化學(xué)計量比會隨工藝不同而變化， Si/N變化的范圍在 。 原理： PECVD是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。各腔體直接有閘門閥隔開。PECVD工藝培訓(xùn) 彭文磊 目 錄 1 總述 2 PECVD設(shè)備簡介 3 PECVD的基本原理與工藝 4 PECVD檢測介紹 5 注意事項 PECVD工序在太陽電池制造中的位置 清洗制絨 磷擴(kuò)散形成 pn結(jié) 腐蝕，去磷硅玻璃 PECVD 沉積 SiNx 印刷 燒結(jié) 測試 分選包裝 二廠 PECVD設(shè)備介紹 設(shè)備廠家：上下料設(shè)備 —— 臺達(dá) PE設(shè)備 —— ROTHamp。RAU P
環(huán)評公示相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號-1