【正文】 ，過量的曝光會使圖形電鍍的線條變細，使印制蝕刻的線條變粗，反之，曝光不足使圖形電鍍的線條變粗，使印制蝕刻的線條變細。當曝光不足時，單體聚合的不徹底，在顯影過程中，膠膜溶漲變軟，線條不清晰，色澤暗淡，甚至脫膠，在電鍍前處理或電鍍過程中，膜起翹、滲鍍、甚至脫落。當誘導期一過，單體的光聚合反應很快進行，膠膜的粘度迅速增加，接近于突變的程度，這就是光敏單體急驟消耗的階段，這個階段在曝光過程中所占的時間比例是很小的。因為光強度大，分辨率高，而且曝光時間短，照相底版受熱變形的程度也小。氙燈不適應于干膜的曝光。 國產(chǎn)干膜的光譜吸收曲線表明，光譜吸收區(qū)為 310—440nm(毫微米 )。 平行曝光機構(gòu)造 任何一種干膜都有其自身特有的光譜吸收曲線，而任何一種光源也都有其自身的發(fā)射光 譜曲線。 壓膜要點 A B A B A A 粘塵機原理 : 粘塵機的主要作用 : 通過間接粘塵方法 ,除掉磨刷過的板面上的板面銅粉及灰塵 ,使板面更清潔 ,達到壓膜無塵的銅粉粒的效果 . C 粘塵機結(jié)構(gòu)圖 ◎曝光 曝光即在紫外光照射下，光引發(fā)劑吸收了光能分解成游離基，游離基再引發(fā)光聚合單體 進行聚合交聯(lián)反應，反應后形成不溶于稀堿溶液的體型大分子結(jié)構(gòu)。 完好的貼膜應是表面平整、無皺折、無氣泡、無灰塵顆粒等夾雜。 傳送速度： 與貼膜溫度有關(guān)，溫度高，傳送速度可快些，溫度低則將傳送速度調(diào)慢。貼膜溫度過高，干膜圖像變脆，耐鍍性能差，貼 膜溫度過低，干膜與銅表面粘附不牢，在顯影或電鍍過程中，膜易起翹甚至脫落。 溫度： 根據(jù)干膜的類型、性能、環(huán)境溫度和濕度的不同而略有不同。 壓膜要點 壓力： 新安裝的貼膜機，首先要將上下兩熱壓輥調(diào)至軸向平行，然后來用逐漸加大壓力的 辦法進行壓力調(diào)整，根據(jù)印制板厚度調(diào)至使干膜易貼、貼牢、不出皺折。連續(xù)貼膜生產(chǎn)效率高，適合于 大批量生產(chǎn)，小批量生產(chǎn)可采用單張貼法，以減少干膜的浪費。 貼膜通常在貼膜機上完成，貼膜機型號繁多，但基本結(jié)構(gòu)大致相同： 貼膜可連續(xù)貼，也可單張貼。 壓膜機可分手動及自動兩種，有收集聚烯類隔層的捲輪，乾膜主輪，加熱輪，抽風設(shè)備等四主要部份，進行連續(xù)作業(yè) . 其示意圖如右 : 貼膜時，先從干膜上剝下聚乙烯保護膜，然后在加熱加壓的條件下將干膜抗蝕劑粘貼在覆銅箔板上。 貼膜前板面的干燥很重要。清潔處理后，最好立即貼膜，如放置時間超過四個小時，應重新進行清潔處理。板面清潔處理 后，流水浸濕，傾斜45176。 電解清洗主要用于貼干膜或涂覆液體光致抗蝕劑前的撓性基板、多層板內(nèi)層薄板及薄型 印制板基板的表面清潔處理，它雖然具有諸多優(yōu)點，但對銅箔表面環(huán)氧膩污點清洗無效，廢水處理成本也較高。 ，以增大基板表面積。 電解清洗能使基板產(chǎn)生一個微觀的比較均勻的粗糙表面，大大提高比表面，增強干膜與基板表面的粘合力，這對生產(chǎn)高密度、細導線的導電圖形是十分有利的。 但化學處理需監(jiān)測化學溶液成分的變化并進行調(diào)整，對廢舊溶液需進行處理，增加了廢物 處理的費用。然后用酸性溶液去除氧 化層和原銅基材上為防止銅被氧化的保護涂層，最后再進行微蝕處理以得到與干膜具有優(yōu)良 粘附性能的充分粗化的表面。 其不足是浮石粉對設(shè)備的機械部分易損傷。 浮石粉刷板機是將浮石粉懸濁液噴到板面上用尼龍刷進行擦刷： a． 尼龍刷與浮石粉漿液相結(jié)合進行擦刷； b． 刷洗除去板面的浮石粉； c． 高壓水洗； d． 水 洗； e． 干燥。研究表明，用這類刷板機清潔處理板面有 些缺欠，如在表面上有定向的擦傷，有耕地式的溝槽，有時孔的邊緣被撕破形成橢圓孔，由于 磨刷磨損刷子高度不一致而造成處理后的板面不均勻等。 *在使用刷輥式刷板機的過程中，為防止尼龍絲過熱而熔化，應不斷向板面噴淋自來水進行 冷卻和潤濕。其缺點是由于尼龍絲較細容易撕裂，使用壽命短。 兩種刷子相比較各有其優(yōu)缺點。 硬毛型刷子的刷體是用含有碳化硅磨料的直徑為 0． 6mm的尼龍絲編繞而成的。 磨料刷輥式刷板機 磨料刷輥式刷板機裝配的刷子通常有兩種類型，壓縮型刷子和硬毛型刷子。其處理方法有機械清洗、化學清洗及電解清洗。為增大干 膜與基板表面的接觸面積，還要求基板有微觀粗糙的表面。 五、制程工藝制作 采用干膜進行圖像轉(zhuǎn)移的 制程 工藝流程為： 基板清潔處理 → 壓膜 → 曝光 → 顯影 → 修 板 貼干膜前板面包括覆銅箔板基板和孔金屬化后預鍍銅的基板。通常采用丙酮、酒精作溶劑。如加入孔雀石綠、蘇丹三等色料 使干膜呈現(xiàn)鮮艷的綠色、蘭色等。如甲氧基酚、對苯二酚等均可作為熱阻聚劑。常用的增粘劑如苯并三氮唑。三乙二醇雙醋酸脂可作為增塑劑。干膜光致抗蝕劑通常使用安息香醚、叔丁基恿醌等作光引發(fā)劑。多元醇烯酸酯類及甲基丙烯酸酯類是廣泛應用的聚合單體，例如季戊四醇三丙烯酸酯是較好的 光聚合單體。 粘結(jié)劑通常是酯化或酰胺化的聚苯乙烯 —— 順丁烯二酸酐樹脂 (聚苯丁樹脂 )。 1)粘結(jié)劑 (成膜樹脂 ) 作為光致抗蝕劑的成膜劑，使感光膠各組份粘結(jié)成膜，起抗蝕劑偽骨架作用，它在光致聚合過程中不參與化學反應。儲存期從出廠之日算起不小于六個月，超過儲存期按技術(shù)要求 檢驗合格者仍可使用。 技術(shù)要求規(guī)定，干膜應儲存在陰涼而潔凈的 室內(nèi)，防止與化學藥品和放射性物質(zhì)一起存放。 檢驗常識 干膜在儲存過程中可能由于溶劑的揮發(fā)而變脆，也可能由于環(huán)境溫度的影響而產(chǎn)生熱聚合，或因抗蝕劑產(chǎn)生局部流動而造成厚度不均勻 (即所謂冷流 )，這些都嚴重影響干