液晶材料與技術(shù)(12)——lcd工藝技術(shù)討論—陣列-文庫吧資料
2025-01-25 01:27本頁面
【正文】 D斷線。而在低速刻蝕時(shí)，如圖 8. 3(b)所示，藥液在光 刻膠和對(duì)象膜層之間的浸入量較多。 液晶材料與技術(shù) 51 高速刻蝕對(duì)線寬的控制性較好， 低速刻蝕對(duì)形狀的控制性較好。 ? 若對(duì)刻蝕形狀要求高，應(yīng)選擇刻蝕速率較低的方式 (浸潤和浸泡 )。否則，氣泡被吸附在膜層上，具有與 Mask相似的功能，從而容易導(dǎo)致刻蝕殘余發(fā)生 。 液晶材料與技術(shù) 48 濕刻方式 ? 濕刻的刻蝕方式主要有 3種 :噴淋方式、浸潤方式和浸泡方式 。這一階段指的是在對(duì)象物質(zhì)表面，藥液與刻蝕對(duì)象之間的化學(xué)反應(yīng)階段。通過浸潤可加快這一過程，使藥液移送的速度加快。 液晶材料與技術(shù) 47 濕刻過程 ? (1)刻蝕液的移送。 ? 但是基本上都是利用 強(qiáng)酸 ，如磷酸 (H3PO4) ，硝酸 (HNO3) ，鹽酸 (HCl) ，冰醋酸 (CH3COOH)等 及其混合物對(duì)金屬的溶解和氧化還原過程，實(shí)現(xiàn)金屬膜的圖形化。 液晶材料與技術(shù) 44 刻蝕 ? 針對(duì)金屬膜、絕緣膜以及漏極、源極用膜層等，按光刻膠圖形有選擇地去除，以得到所需要的圖形。 液晶材料與技術(shù) 43 ? 因顯影時(shí)膠膜會(huì)發(fā)生軟化、膨脹而影響膠膜的抗蝕能力，在顯影后必須用適當(dāng)?shù)臏囟群姹翰ＡЩ逡猿ニ?，增?qiáng)膠膜與玻璃的黏附性以保證刻蝕的精 度。 ? 這種方式生產(chǎn)效率高，適合大批量生產(chǎn)，但需要采用短時(shí)間即可完成顯影的光刻膠，大型玻璃基板不適合采用這種方式顯影。 ? 而且，藥液循環(huán)使用同樣會(huì)出現(xiàn)劣化，從而造成顯影圖形線條不合格，需要定期檢查。 液晶材料與技術(shù) 41 ? (2)浸漬（ dip，浸泡）顯影 ? 把玻璃基板放入浸漬槽中，往復(fù)運(yùn)動(dòng)，以實(shí)現(xiàn)顯影。一種是與光刻膠配套的專用顯影液，另一種是一定濃度的堿液氫氧化鉀或氫氧化鈉 (KOH或 NaOH)。 ? 將曝光后的玻璃基板放入顯影槽中，搖擺的噴頭將顯影液噴灑在玻璃基板的光刻膠面上，過一定的時(shí)間后顯出圖形，再通過水洗，將顯影液沖掉。 陣列段的曝光機(jī)全球只有佳能和尼康能制造，一條月產(chǎn)能 6萬片的 8代線，陣列段曝光機(jī)總售價(jià)高達(dá)數(shù)億美元 。日本企業(yè)擁有絕對(duì)的競爭優(yōu)勢，市場占有率通常都超過 40%，而在核心領(lǐng)域，市場占有率超過 70%。 液晶材料與技術(shù) 36 液晶材料與技術(shù) 37 ? TFTLCD生產(chǎn)線投資中大約 55%的投入是設(shè)備；其次是土木工程，大約占 20%，因?yàn)槭菬o塵室，所以占的比例比較高；再其次是土地成本，大約占 10%。 ? 在生產(chǎn)線上為了產(chǎn)品管理和工程管理，需要制作玻璃基板的產(chǎn)品管理信息，如批次編號(hào)、產(chǎn)品系列編號(hào)、生產(chǎn)日期等，如圖 。隨著分辨率的提升，鏡面投影曝光機(jī)使用開始普及。 ? 而接近式曝光的價(jià)格要低得多，解析度和重合精度也比較差，產(chǎn)能相對(duì)較大。 ? 由于使用的是小型掩膜板，因此掩膜板的價(jià)格相對(duì)來說比較便宜。 液晶材料與技術(shù) 28 29 ? （ 3）透鏡步進(jìn)式分割曝光 ? 經(jīng)由 透鏡成像 ，但由于受到所使用投影透鏡有限直徑的限制，一次曝光不能完成對(duì)大型玻璃基板的全面圖形曝光。 ? 由光源發(fā)出的光照射掩膜板，通過掩膜板的光在一對(duì)凹面鏡和凸面鏡，以及臺(tái)形發(fā)射鏡的聯(lián)合反射作用下，最終將掩膜圖形轉(zhuǎn)寫在玻璃基板上。 ? 多用于圖形尺寸精度要求較為寬松的彩色濾光片和簡單矩陣型 LCD的制作。 ? 掩膜板和玻璃基板之間設(shè)有微細(xì)間隙 （ proximity gap) 液晶材料與技術(shù) 25 26 ? 接近式曝光由于是一次曝光，生產(chǎn)效率高，裝置比較簡單、價(jià)格便宜。 ? 曝光工程對(duì)于 LCD的顯示性能及價(jià)格等有決定性的影響。 液晶材料與技術(shù) 21 ? 圖 液晶材料與技術(shù) 22 ? 除水干燥 ： ? 基板洗凈經(jīng)風(fēng)刀干燥后，表面仍有水分存在，為防止光刻膠涂敷前水分附著帶來的影響，首先進(jìn)行干燥處理，然后根據(jù)表面膜層的要求有選擇地進(jìn)行黏著強(qiáng)化劑涂敷，以增加光刻膠與基板的密著性。 ? 光刻膠經(jīng)過預(yù)先的狹縫刮涂后，表面并不均勻，而且四周還有空白，需要通過旋轉(zhuǎn)進(jìn)一步處理，以達(dá)到所需要求。 液晶材料與技術(shù) 17 18 ? （ 3）利用毛細(xì)管現(xiàn)象涂布法 ? CAP涂布：利用噴嘴細(xì)管的毛細(xì)管現(xiàn)象，在涂布時(shí)使位于光刻膠槽中的噴嘴上升，是光刻膠經(jīng)過毛細(xì)管噴嘴涂布與玻璃基板上。 液晶材料與技術(shù) 16 ? （ 2）狹縫涂布法 ? 利用具有高精細(xì)度狹縫的噴嘴將光刻膠噴出，噴嘴和玻璃基板之間設(shè)定一定的間隙（ gap),在噴嘴移動(dòng)并保持該間隙的同時(shí)，將光刻膠涂布在玻璃基板上。 ? 旋涂設(shè)備增設(shè)一個(gè)與基板同時(shí)旋轉(zhuǎn)的旋涂內(nèi)筒，并由內(nèi)筒蓋封閉。 ? 而且，甩出來的光刻膠與固定的旋涂筒碰撞而返回，以及在玻璃基板端部回流的光刻膠等會(huì)在玻璃基板上再附著，這些都會(huì)成為顆粒污染的來源。 液晶材料與技術(shù) 11 ? （ 1）甩膠（旋涂）涂布法 ? 固定筒型旋涂法、旋轉(zhuǎn)筒型涂布法。 液晶材料與技術(shù) 10 光刻膠涂布工程 ? 光刻膠涂布方法有： ? （ 1） 甩膠涂布（ spincoating),又稱旋轉(zhuǎn)涂布，
教學(xué)課件相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號(hào)-1