chap5物理氣相沉積-文庫吧資料
2025-01-12 14:19本頁面
【正文】 在對固體表面轟擊時 ， 入射離子在與固體表面原子的碰撞過程中將發(fā)生能量和動量的轉(zhuǎn)移 ， 并能將固體表面的原子濺射出來 。 ? (2)電子束蒸發(fā)的優(yōu)點： ?l 膜純度高 ， 鈉離子玷污少 ?l 光刻腐蝕方便 ?l 鍍膜層均勻 ?l 節(jié)約大量鎢絲和鋁源 ?l 應用范圍廣 ?l 鋁膜晶粒致密均勻 15 ? ? 利用高功率的連續(xù)或脈沖激光作為能源對蒸發(fā)材料進行加熱 。因而把贓物也蒸發(fā)上去了； 4）襯底加熱溫度較高，并且取片過快； 5）擴散泵抽氣率不高，在蒸發(fā)時，各部分加熱后放出的氣體未及時抽走； 6）真空系統(tǒng)中出現(xiàn)慢性漏氣。 13 （ 2）鋁層表面氧化 蒸鋁后出現(xiàn)鋁層發(fā)黃或發(fā)灰，這說明表面被氧化及其他合金物出現(xiàn)，楊畫冊鋁層 不僅難以光刻核鍵合，而且影響器件性能。 如果太厚 ， 電極圖形看不清 ， 增加了光刻難度 。 ? 蒸發(fā)中出現(xiàn)的質(zhì)量問題： ? （ 1） 鋁層厚度控制不合適 ? 鋁層厚度是蒸鋁工藝中一個主要的參數(shù) 。 ? （ 3） 基板及加熱：放置襯底 ， 對襯底加熱裝置及測量裝置 。當然這不是絕對的，碰撞肯定也有的，只不過這種碰撞幾率小到可以忽略不計。這就是要想源材料的原子或分子所走的路程越長，就必須將淀積室抽成高真空。例如當 P=1mmHg時， L=5*105cm。 8 ? 原子的平均自由程與氣體壓強成反比。真空度越高，淀積室內(nèi)氣體分子越少，使得蒸發(fā)材料的原子或分子所走的路程就越長。如蒸鋁要比蒸金要求更低的本底真空度。所以， PVD法要求正式淀積之前，必須徹底地抽除淀積室內(nèi)的殘留氣體，即在低氣壓（又稱本底真空度）下，才能開始淀積。當一個系統(tǒng)中殘留 1Pa的空氣時，由理想氣體狀
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