透射電子顯微分析ppt課件-wenkub.com
2025-01-01 21:08 本頁面
【正文】 然而，也正是由于這個(gè)原因，相位襯度可以用于 薄樣品的原子結(jié)構(gòu)成像 。 70 Si晶體 [111]倒聚束衍射花樣 面心立方晶體 [111]會(huì)聚束衍射花樣的示意圖 71 3．高分辨電子顯微術(shù) ? 衍襯成像 ：利用電子束 振幅變化 的單束 (透射束或某一衍射束 )成像，可用于揭示 ≥。 如：利用 加熱臺(tái) 加熱樣品觀察其相變過程 利用 應(yīng)變臺(tái) 拉伸樣品觀察其形變和斷裂過程 69 2．會(huì)聚束衍射分析 ? 會(huì)聚束電子衍射 (CBED)是電子顯微鏡中最早實(shí)現(xiàn)的電子衍射方式(Kossel和 Mollenstedt， 1939)，遠(yuǎn)早于前面所講的選區(qū)電子衍射(Lepoole， 1947)。衍射束強(qiáng)度越大，直射束強(qiáng)度就越小。用小的光闌（ θ?。?襯度大；降低電壓 V，能提供高襯度 )(1121222222220AtZAtZVeNG t???? ??)( 11122212 tAtANG aaA ??????59 衍射襯度成像光路圖 對(duì)晶體樣品，電子將發(fā)生相干散射即衍射。 51 雙噴電解拋光裝置原理圖 適用樣品： 1）不易于腐蝕的裂紋端試樣 2）非粉末冶金試樣 3）組織中各相電解性能相差不大 的材料 4）不易于脆斷、不能清洗的試樣 52 離子減薄裝置原理示意圖 1）不導(dǎo)電的陶瓷樣品 2）要求質(zhì)量高的金屬樣品 3）不宜雙噴電解的金屬 與合金樣品 適用樣品： 53 第三節(jié) 透射電鏡基本成像操作及像襯度 一、成像操作 （ a）明場(chǎng)像 (b)暗場(chǎng)像 (c)中心暗場(chǎng)像 成像操作光路圖 直射束成像 衍射束成像 衍射束成像 54 55 a) 明場(chǎng)像 b) 暗場(chǎng)像 析出相 (ZrAl3)在鋁合金基體中分布衍襯像 56 二、像襯度 像襯度 ：圖像上不同區(qū)域間明暗程度的差別。用刀片劃成小方格，將玻璃片斜插入水杯中，在水面上下空插，膜片逐漸脫落，用銅網(wǎng)將方形膜撈出，待觀察。 ? （ 2）必須具有代表性，能真實(shí)反映所分析材料的特征。 ? 菊池線的位置對(duì)晶體取向的微小變化非常敏感。主要有： ? 高階勞埃區(qū)電子衍射譜 ? 菊池花樣 (Kikuchi Pattern) ? 二次衍射斑點(diǎn) ? 超點(diǎn)陣斑點(diǎn) ? 孿晶（雙晶）衍射斑點(diǎn)等。 ? （ 2） 已知相機(jī)常數(shù) C，則按 d＝ C／ R，由各衍射環(huán)之 R，可求出各相應(yīng)晶面的 d值 。 29 多晶電子衍射花樣的標(biāo)定 ? 對(duì)于同一物相、同一衍射花樣各圓環(huán)而言，（ C2/a2）為常數(shù)，有 R12： R22： … ： Rn2=N1： N2： … ： Nn ? 此即指各衍射圓環(huán)半徑平方（由小到大）順序比等于各圓環(huán)對(duì)應(yīng)衍射晶面 N值順序比。 (c) [001]。 A39。 成像操作 ：若使 中間鏡的物平面與物鏡的像平面重合 則得到 顯微像 。 由于越尖銳處槍體的電子脫出能力越大，因此只有槍尖部位才能發(fā)射 電子。 組成 ：電子槍和聚光鏡 鎢絲 熱電子源 電子源
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