【正文】 新的平均極差 R和控制限，并畫下來，使所有點均處于受控狀態(tài)。 b 由于出現(xiàn)特殊原因而從 R 圖中去掉的子組，也應(yīng)從 X圖中去掉。 修改后的 R 和 X 可用于重新計算均值的試驗控制限， X 177。 A2R 。 注：排除代表不穩(wěn)定條件的子組并不僅是“丟棄壞數(shù)據(jù)”。而是排除受已知的特殊原因影響的點。并且一定要改變過程，以使特殊原因不會作為過程的一部分重現(xiàn)。 34 分析均值圖上的數(shù)據(jù)點 341 超出控制限的點： a 一點超出任一控制限通常表明存在下列情況之一或更多： a1 控制限或描點時描錯 a2 過程已更改，或是在當時的那一點（可能是一件獨立的 事件）或是一種趨勢的一部分。 a3 測量系統(tǒng)發(fā)生變化（例如：不同的量具或 QC） 不受控制的過程的均值（有一點超過控制限） 受控制的過程的均值 UCL LCL X LCL UCL X 342 鏈 有下列現(xiàn)象之表明過程已改變或出現(xiàn)某種趨勢： 連續(xù) 7點在平均值一側(cè)或 6點連續(xù)上升或下降 a 與過程均值有關(guān)的鏈通常表明出現(xiàn)下列情況之一或兩者 。 a1 過程均值已改變 a2 測量系統(tǒng)已改變（漂移，偏差，靈敏度） 注：標注這些使人們作出決定的點，并從該點做一條參考線延伸到 鏈的開始點，分析時應(yīng)考慮開始出現(xiàn)變化趨勢或變化的時間。 不受控制的過程的均值（長的上升鏈） 不受控制的過程的均值（出現(xiàn)兩條高于和低于均值的長鏈） UCL X LCL UCL X LCL 343 明顯的非隨機圖形 a 非隨機圖形例子：明顯的趨勢；周期性；數(shù)據(jù)點的分布在整個 控制限內(nèi) ， 或子組內(nèi)數(shù)據(jù)間有規(guī)律的關(guān)系等 。 b 一般情況 ， 各點與 X的距離：大約 2/3的描點應(yīng)落在控制限的 中間 1/3的區(qū)域內(nèi) ， 大約 1/3的點落在其外的 2/3的區(qū)域； 1/20的 點應(yīng)落在控制限較近之處 （ 位于外 1/3的區(qū)域 ） 。 c 如果顯著多余 2/3以上的描點落在離 R很近之處 （ 對于 25子組 ， 如果超過 90%的點落在控制限的 1/3區(qū)域 ） ， 則應(yīng)對下列情況的 一種或更多進行調(diào)查： c1 控制限或描點計算錯描錯 c2 過程或取樣方法被分層 ， 每個子組系統(tǒng)化包含了從兩個或 多個具有完全不 同的過程均值的過程流的測量值 （ 如：從 幾組軸中 ， 每組抽一根來測取數(shù)據(jù) 。 c3 數(shù)據(jù)已經(jīng)過編輯 (極差和均值相差太遠的幾個子組更改刪除） d 如果顯著少余 2/3以上的描點落在離 R很近之處（對于 25子組， 如 果有 40%的點落在控制限的 1/3區(qū)域），則應(yīng)對下列情況的一 種或更多進行調(diào)查： d1 控制限或描點計算錯描錯 。 d2 過程或取樣方法造成連續(xù)的分組中包含了從兩個或多個不 同的過程流的測量值（這可能是由于對可調(diào)整的過程進行 過度 控制造成的，這里過程改變是對過程數(shù)據(jù)中隨機波 動的響應(yīng)）。 注：如果存在幾個過程流，應(yīng)分別識別和追蹤。 UCL X LCL UCL X LCL 均值失控的過程（點離過程均值太近） 均值失控的過程（點離控制限太近） ? e1 一點遠離中心線并超過 3σ ? e2 連續(xù) 7點位于中心線一側(cè) ? e3 連續(xù) 6點上升或下降 ? e4 連續(xù) 14點圍繞中心線交替上下變化 ? e5 2/3的點距中心線的距離超過 2σ ? e6 4/5的點距中心線的距離超過 1σ ? e7 連續(xù) 15個點排列在中心線 1σ范圍內(nèi) ? e8 連續(xù) 8個點距中心線的距離大于 1σ 35 識別并標注所有特殊原因（均值圖） a 對于均值數(shù)據(jù)內(nèi)每一個顯示處于失控狀態(tài)的條件進行一次過 程操作分析，從而確定產(chǎn)生特殊原因的理由，糾正該狀態(tài)， 防止再發(fā)生。 b 應(yīng)及時分析問題，例如：出現(xiàn)一個超出控制限的點就立即開 始分析過程原因。 36 重新計算控制限（均值圖） 在進行首次過程研究或重新評定過程能力時，要排除已發(fā)現(xiàn) 并解決了的特殊原因的任何失控點，然后重新計算并描畫過程 均值 X 和控制限，使所有點均處于受控狀態(tài)。 4 過程能力分析 ? 進行過程能力分析 ,須滿足以下條件下方可： ? 收集數(shù)據(jù)的制程處于穩(wěn)定狀態(tài)； ? 制程輸出特性的單個測量值構(gòu)成近似服從正態(tài)分布； ? 充分了解顧客對制程輸出特性的要求 (規(guī)格限 )； 4 過程能力分析 ? 術(shù)語 ? Cpk過程能力指數(shù)：是指工序在一定時間里，處于控制狀態(tài) (穩(wěn)定狀態(tài) )下的實際加工能力。 ? Ppk 過程性能指數(shù)：是指考慮過程有特殊原因引起的偏差時，樣本數(shù)據(jù)的過程性能。 4 過程能力分析 ? 計算樣本標準差和過程的標準偏差 ? 樣本標準差 ? 式中： Xi為單值讀數(shù)， X為所有單值讀數(shù)的均值， n為所有單值讀數(shù)的個數(shù) ? 過程的標準偏差 ? 式中： R為平均極差， d2為隨每組樣本容量變化的常數(shù)，見下表： ?????nis nXXi12 1/)(??2?dR?? 4 過程能力分析 ? 計算 Pp\Ppk和 Cp\Cpk 4 過程能力分析 ? Cpk與 Ppk的差異 4 過程能力分析 ? 評價過程能力 ? 在過程穩(wěn)定情況下，評價初始過程能力的準則： 4 過程能力分析 ? 評價過程能力 ? 對于穩(wěn)定過程，評價過程能力的準則： 4 過程能力分析 ? 練習：對之前的練習作過程能力計算和分析 ? Cp ? 前提：假設(shè)過程中心與目標中心重合，只考慮組內(nèi)變差 ? 只能衡量離散性 ? Cpk ? 前提：考慮中心偏移 ? 包含離散性與一致性，是一個質(zhì)量指標 ? Pp ? 前提：假設(shè)過程中心與目標中心重合，考慮組內(nèi)及組間變差 ? 只能衡量離散性 ? Ppk ? 前提：考慮中心偏移，考慮組內(nèi)及組間變差 4 過程能力分析 ? 為什么 Cp與 Pp接近？ ? 初始階段抽樣頻繁，組間變差比較小 謝謝觀看 /歡迎下載 BY FAITH I MEAN A VISION OF GOOD ONE CHERISHES AND THE ENTHUSIASM THAT PUSHES ONE TO SEEK ITS FULFILLMENT REGARDLESS OF OBSTACLES. BY FAITH I BY FAITH