【正文】 新的平均極差 R和控制限，并畫下來，使所有點(diǎn)均處于受控狀態(tài)。 b 由于出現(xiàn)特殊原因而從 R 圖中去掉的子組，也應(yīng)從 X圖中去掉。 修改后的 R 和 X 可用于重新計(jì)算均值的試驗(yàn)控制限， X 177。 A2R 。 注：排除代表不穩(wěn)定條件的子組并不僅是“丟棄壞數(shù)據(jù)”。而是排除受已知的特殊原因影響的點(diǎn)。并且一定要改變過程，以使特殊原因不會(huì)作為過程的一部分重現(xiàn)。 34 分析均值圖上的數(shù)據(jù)點(diǎn) 341 超出控制限的點(diǎn)： a 一點(diǎn)超出任一控制限通常表明存在下列情況之一或更多： a1 控制限或描點(diǎn)時(shí)描錯(cuò) a2 過程已更改，或是在當(dāng)時(shí)的那一點(diǎn)（可能是一件獨(dú)立的 事件）或是一種趨勢的一部分。 a3 測量系統(tǒng)發(fā)生變化（例如：不同的量具或 QC） 不受控制的過程的均值（有一點(diǎn)超過控制限） 受控制的過程的均值 UCL LCL X LCL UCL X 342 鏈 有下列現(xiàn)象之表明過程已改變或出現(xiàn)某種趨勢： 連續(xù) 7點(diǎn)在平均值一側(cè)或 6點(diǎn)連續(xù)上升或下降 a 與過程均值有關(guān)的鏈通常表明出現(xiàn)下列情況之一或兩者 。 a1 過程均值已改變 a2 測量系統(tǒng)已改變（漂移，偏差，靈敏度） 注：標(biāo)注這些使人們作出決定的點(diǎn)，并從該點(diǎn)做一條參考線延伸到 鏈的開始點(diǎn)，分析時(shí)應(yīng)考慮開始出現(xiàn)變化趨勢或變化的時(shí)間。 不受控制的過程的均值（長的上升鏈） 不受控制的過程的均值（出現(xiàn)兩條高于和低于均值的長鏈） UCL X LCL UCL X LCL 343 明顯的非隨機(jī)圖形 a 非隨機(jī)圖形例子：明顯的趨勢；周期性；數(shù)據(jù)點(diǎn)的分布在整個(gè) 控制限內(nèi) ， 或子組內(nèi)數(shù)據(jù)間有規(guī)律的關(guān)系等 。 b 一般情況 ， 各點(diǎn)與 X的距離：大約 2/3的描點(diǎn)應(yīng)落在控制限的 中間 1/3的區(qū)域內(nèi) ， 大約 1/3的點(diǎn)落在其外的 2/3的區(qū)域； 1/20的 點(diǎn)應(yīng)落在控制限較近之處 （ 位于外 1/3的區(qū)域 ） 。 c 如果顯著多余 2/3以上的描點(diǎn)落在離 R很近之處 （ 對(duì)于 25子組 ， 如果超過 90%的點(diǎn)落在控制限的 1/3區(qū)域 ） ， 則應(yīng)對(duì)下列情況的 一種或更多進(jìn)行調(diào)查： c1 控制限或描點(diǎn)計(jì)算錯(cuò)描錯(cuò) c2 過程或取樣方法被分層 ， 每個(gè)子組系統(tǒng)化包含了從兩個(gè)或 多個(gè)具有完全不 同的過程均值的過程流的測量值 （ 如：從 幾組軸中 ， 每組抽一根來測取數(shù)據(jù) 。 c3 數(shù)據(jù)已經(jīng)過編輯 (極差和均值相差太遠(yuǎn)的幾個(gè)子組更改刪除） d 如果顯著少余 2/3以上的描點(diǎn)落在離 R很近之處（對(duì)于 25子組， 如 果有 40%的點(diǎn)落在控制限的 1/3區(qū)域），則應(yīng)對(duì)下列情況的一 種或更多進(jìn)行調(diào)查： d1 控制限或描點(diǎn)計(jì)算錯(cuò)描錯(cuò) 。 d2 過程或取樣方法造成連續(xù)的分組中包含了從兩個(gè)或多個(gè)不 同的過程流的測量值（這可能是由于對(duì)可調(diào)整的過程進(jìn)行 過度 控制造成的，這里過程改變是對(duì)過程數(shù)據(jù)中隨機(jī)波 動(dòng)的響應(yīng)）。 注：如果存在幾個(gè)過程流，應(yīng)分別識(shí)別和追蹤。 UCL X LCL UCL X LCL 均值失控的過程（點(diǎn)離過程均值太近） 均值失控的過程（點(diǎn)離控制限太近） ? e1 一點(diǎn)遠(yuǎn)離中心線并超過 3σ ? e2 連續(xù) 7點(diǎn)位于中心線一側(cè) ? e3 連續(xù) 6點(diǎn)上升或下降 ? e4 連續(xù) 14點(diǎn)圍繞中心線交替上下變化 ? e5 2/3的點(diǎn)距中心線的距離超過 2σ ? e6 4/5的點(diǎn)距中心線的距離超過 1σ ? e7 連續(xù) 15個(gè)點(diǎn)排列在中心線 1σ范圍內(nèi) ? e8 連續(xù) 8個(gè)點(diǎn)距中心線的距離大于 1σ 35 識(shí)別并標(biāo)注所有特殊原因（均值圖） a 對(duì)于均值數(shù)據(jù)內(nèi)每一個(gè)顯示處于失控狀態(tài)的條件進(jìn)行一次過 程操作分析，從而確定產(chǎn)生特殊原因的理由，糾正該狀態(tài)， 防止再發(fā)生。 b 應(yīng)及時(shí)分析問題，例如：出現(xiàn)一個(gè)超出控制限的點(diǎn)就立即開 始分析過程原因。 36 重新計(jì)算控制限（均值圖） 在進(jìn)行首次過程研究或重新評(píng)定過程能力時(shí)，要排除已發(fā)現(xiàn) 并解決了的特殊原因的任何失控點(diǎn)，然后重新計(jì)算并描畫過程 均值 X 和控制限，使所有點(diǎn)均處于受控狀態(tài)。 4 過程能力分析 ? 進(jìn)行過程能力分析 ,須滿足以下條件下方可： ? 收集數(shù)據(jù)的制程處于穩(wěn)定狀態(tài)； ? 制程輸出特性的單個(gè)測量值構(gòu)成近似服從正態(tài)分布； ? 充分了解顧客對(duì)制程輸出特性的要求 (規(guī)格限 )； 4 過程能力分析 ? 術(shù)語 ? Cpk過程能力指數(shù)：是指工序在一定時(shí)間里，處于控制狀態(tài) (穩(wěn)定狀態(tài) )下的實(shí)際加工能力。 ? Ppk 過程性能指數(shù)：是指考慮過程有特殊原因引起的偏差時(shí)，樣本數(shù)據(jù)的過程性能。 4 過程能力分析 ? 計(jì)算樣本標(biāo)準(zhǔn)差和過程的標(biāo)準(zhǔn)偏差 ? 樣本標(biāo)準(zhǔn)差 ? 式中： Xi為單值讀數(shù)， X為所有單值讀數(shù)的均值， n為所有單值讀數(shù)的個(gè)數(shù) ? 過程的標(biāo)準(zhǔn)偏差 ? 式中： R為平均極差， d2為隨每組樣本容量變化的常數(shù)，見下表： ?????nis nXXi12 1/)(??2?dR?? 4 過程能力分析 ? 計(jì)算 Pp\Ppk和 Cp\Cpk 4 過程能力分析 ? Cpk與 Ppk的差異 4 過程能力分析 ? 評(píng)價(jià)過程能力 ? 在過程穩(wěn)定情況下，評(píng)價(jià)初始過程能力的準(zhǔn)則： 4 過程能力分析 ? 評(píng)價(jià)過程能力 ? 對(duì)于穩(wěn)定過程，評(píng)價(jià)過程能力的準(zhǔn)則： 4 過程能力分析 ? 練習(xí)：對(duì)之前的練習(xí)作過程能力計(jì)算和分析 ? Cp ? 前提：假設(shè)過程中心與目標(biāo)中心重合，只考慮組內(nèi)變差 ? 只能衡量離散性 ? Cpk ? 前提：考慮中心偏移 ? 包含離散性與一致性，是一個(gè)質(zhì)量指標(biāo) ? Pp ? 前提：假設(shè)過程中心與目標(biāo)中心重合，考慮組內(nèi)及組間變差 ? 只能衡量離散性 ? Ppk ? 前提：考慮中心偏移，考慮組內(nèi)及組間變差 4 過程能力分析 ? 為什么 Cp與 Pp接近？ ? 初始階段抽樣頻繁，組間變差比較小 謝謝觀看 /歡迎下載 BY FAITH I MEAN A VISION OF GOOD ONE CHERISHES AND THE ENTHUSIASM THAT PUSHES ONE TO SEEK ITS FULFILLMENT REGARDLESS OF OBSTACLES. BY FAITH I BY FAITH