核磁共振氫譜應(yīng)用于高分子化學(xué)-資料下載頁
2025-07-19 20:16本頁面
【正文】 b— o— sil無定型硅石表面吸附的 1／ |單分子層的聚丙烯酸異丙酯 3及某些界面水解過程中分子的移動等 . 含氯、含硅高分子材料的研究 ?含氯或含硅高分子是重要的聚合物材料。固體FNMR譜帶較寬．須使樣品以比 3c樣品更高的速度旋轉(zhuǎn)，才能使峰變窄。目前 MAS速度已可達(dá) 23kl。高速旋轉(zhuǎn)加上多次脈沖相結(jié)合，便可得到滿意的固體 F39。NMR譜，可以用來表征含氟高聚物及排列序列 m]、等離子體沉積含氟材料等 _]。用于聚氮酯材料發(fā)泡的氟氯碳在發(fā)泡材料中分別以氣相及聚合物相存在它們的共振峰的化學(xué)位移有明顯的區(qū)別氣相中 F峰比聚合物相中的 F峰處于較高場的位置，若 MAS速度降至 2kHz時， NMR譜中漢出現(xiàn)氣相 F的共振。 高分子材料的 NMR成像技術(shù) ? 用成像技術(shù)探測材料內(nèi)部的缺陷或損傷已成為 NMR領(lǐng)域最重要的成就之一口 ]。核磁共振成像技術(shù) (簡稱 MR1)已成功地用來研究擠塑或發(fā)泡材料，粘合劑作用，孔狀材料中孔徑分布等。高分子材料內(nèi)部的缺陷或氣泡的位置，在浸漬了水后，便可由 NMR成像技術(shù)確定下來。 NMPL成像經(jīng)計算機(jī)模擬放大后，得到尼龍棒中有一孔洞的圖像。整個NMR成象測定用了 15rain。擠塑過程中空氣的混入，或物料未充分塑化流動不暢，可能是造成管狀孔洞的原因。NMR成像技術(shù)，可以被用來改進(jìn)加工條件，提高制品的質(zhì)量。 NMR成像技術(shù)在高分子材料研究中的應(yīng)用前景是難以估量的。迅速發(fā)展的固體 NMR技術(shù)，包括 — 維、二維、三維的 NMR測試方法及 NMR成像技術(shù)，已成為研究固體高分子材料的有力的工具。日新月異的 NMR波譜技術(shù)，可以提供關(guān)于固體高分子鏈的化學(xué)結(jié)構(gòu)、分子排列與形態(tài)、構(gòu)象與構(gòu)型等的詳細(xì)數(shù)據(jù)，甚至可無破壞地使材料內(nèi)部的缺陷成像。研究固體 NMR技術(shù)所測得的數(shù)據(jù)，可以確定高分子的結(jié)構(gòu)與性能之間的關(guān)系。 ?由上可見， 1HNMR在高分子化學(xué)中的應(yīng)用是廣泛的、具有很強的實用性！因此，我們要好好掌握這一個分析知識，這樣將對我們在該領(lǐng)域的發(fā)展提供很大的幫助！
電大資料相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號-1