【導(dǎo)讀】鍍鍍鍍銅銅銅系系系列列列產(chǎn)產(chǎn)產(chǎn)品品品。鍍鍍鍍銅銅銅中中中間間間體體體。1,SP在酸銅鍍液中作為晶粒細(xì)化劑，提高電流密度，與M，2,15℃~40℃范圍內(nèi)用量為~；生白霧，也會(huì)造成低區(qū)不亮，可加入少量N或電解處理。霧，低位效果好等優(yōu)點(diǎn)；整平劑的結(jié)合產(chǎn)物，該工藝特別適用于線(xiàn)路板電鍍。

　　

【正文】 件在低電流密度區(qū)發(fā)暗發(fā)黑。 QT 去銅粉處理銅雜質(zhì)，比用低電流電解處理法和提高 pH值沉淀法省卻了長(zhǎng)時(shí)間的電解時(shí)間和大量的金屬鎳消耗，如每月或每次大處理鍍鎳液前定量地加入 QT 去銅粉~，將使因銅雜質(zhì)過(guò)高所造成的發(fā)暗發(fā)黑弊病得到有效消除。這對(duì)銅 鎳 鉻一步法中鍍鎳液的長(zhǎng)期性維護(hù)是一種穩(wěn)定，可靠，又快速簡(jiǎn)單有效的好辦法。 鍍液含量： ~：根據(jù)鐵離子確定 包裝： 1000g 塑袋 BKSS 初級(jí) 柔軟飽滿(mǎn)白亮劑 性狀：白色粉狀結(jié)晶體 含量： % 作用與機(jī)理： 初級(jí)光亮劑，電鍍鎳之輔助光亮劑，提高鍍層的延展性，具有抗雜和增白作用，本品為強(qiáng)酸性，加堿逆水溶解并調(diào) pH為 4~5 后使用。 鍍液含量： 20~200mg/L 消耗量： 3~5g/KAh 包裝： 20kg 防盜塑桶 DOSS 鍍鎳增柔劑 性狀：白色粉末 含量： 98% 作用與機(jī)理： DOSS 能夠明顯改善鍍層的柔軟性，在光亮劑含量較高的情況下能夠保證鍍層的質(zhì)量，減少脆性，從而使光亮劑的使用范圍更寬，鍍層穩(wěn)定。 DOSS 適用于任何形式的電鍍鎳及化學(xué)鍍鎳。 鍍液含量： ~： 2~5g/KAh 包裝： 20kg 防盜塑桶 MT80 琥珀酸酯鈉鹽 Succinic acid sodium 性狀：無(wú)色液體 含量： 25% 作用與機(jī)理： 在鍍鎳槽液中，加入適量的 MT80 能消除針孔，麻點(diǎn)，提高整平性能，且具有優(yōu)異的滲透性和潤(rùn)濕性能；在酸性鍍銅工藝中也可使用。 鍍液含量： ~2g/L 消耗量： 150~200ml/KAh 包裝： 20kg 防盜塑桶 VS 乙烯基磺酸鈉 Vinyl sulfonate 性狀：淡黃色液體 含量： 25% 作用與機(jī)理： 在光亮鍍鎳液中，加入 VS 能提高鍍液的深鍍能力和整MAP 二甲胺基丙炔 性狀： 淡黃色透明液體 含量： 80% 作用與機(jī)理： MAP 是炔胺類(lèi)化合物，是鎳光劑中最常用的中間體，作為整平、快速出光劑，其亮度黑亮、高雅，通常與 BEO、 PPS、 Jiangsu Mengde 16 平能力。通常與糖精， SAS， PPS，等配合使用，一般作為輔助光亮劑。 鍍液含量： ~： 10~20ml/KAh 包裝： 20kg 防盜塑桶 PVSS、 COSS、 PME 等輔助光亮劑配合使用。 鍍液含量： ~: 1~3g/KAh 包裝： 20kg 防盜塑桶 PA 丙炔醇 性狀：無(wú)色至淡黃色液體 含量： 99% 作用與機(jī)理： 在光亮鍍鎳中，加入 PA 能增強(qiáng)陰極極化效應(yīng)，從而達(dá)到快速出光的效果及整平良好的鍍層．但過(guò)量地加入會(huì)使鍍層發(fā)脆且結(jié)合力差．通常需與糖精．炔醇類(lèi)等次級(jí)光亮劑中間體配合使用 。 鍍液含量： ~: 1~3g/KAh 包裝： 20kg 防盜塑桶 TCA 水合三氯乙醛 Trichloroacetaldehyde monohydrate 性狀：無(wú)色或淡黃色結(jié)晶 含量： 98% 作用與機(jī)理： 電鍍半光亮鎳的電位差調(diào)節(jié)劑，能除鍍液中活性硫，提高電位差。 鍍液含量： ~： 3~5g/L 包裝： 20kg 防盜塑桶 BPMD 乙氧基炔醇復(fù)合物 性狀：棕紅色液體 含量： 98% 作用與機(jī)理： BPMD 是多種炔醇與乙氧基化物在特定條件下縮合而成，只需與 PPS或 PPSOH 配合，即可成為性能優(yōu)良的鎳光劑，該產(chǎn)品特別適合自配。 鍍液含量： ~： BBI 雙苯磺酰亞胺 性狀： 白色粉末 含量： 98% 作用與機(jī)理： 用于鍍鎳初級(jí)光亮劑中，取代部分糖精，用量大約是糖精的五分之一，是特效的鍍鎳白光劑。 鍍液含量： BSI 糖精鈉 性狀： 白色結(jié)晶體 含量： 98% 作用與機(jī)理： 用于配制鍍鎳的柔軟劑，從而增加鍍層的柔軟性 。 鍍液含量： ~： 2~5g/KAh UESS 鍍鎳走位，去雜劑 性狀： 棕紅色固體 含量： 98% 作用與機(jī)理： UESS 會(huì)改變鎳缸中銅，鋅雜質(zhì)的電位，將雜 質(zhì)共沉積，無(wú)需電解，過(guò)濾，同時(shí)可增加鍍層的白亮度 ，提高深孔走位能力。 鍍液含量： ~： ~POPS 丙炔醇醚丙烷磺酸鈉溶液 Pnopynoloxopropane sulfonal sodium soluction HDM 二甲基乙炔二醇 Dimethyl hexyldiol 性狀： 橙黃色透明液體 含量： 50% 作用與機(jī)理： 電鍍鎳低區(qū)光亮劑，整平劑。能增強(qiáng)低區(qū)的光亮，整平性，與 PS 合用，效果更佳。 性狀：無(wú)色或淡 黃色透明液體 作用與機(jī)理： 電鍍鎳的半光亮劑，整平劑，提高半光亮鎳的整平效果，脆性小。 鍍液含量： ~： 1~3g/L 鍍液含量： ~ATPN 羧乙基異硫脲嗡鹽 Carboxyl isothiurea 性狀：白色粉末 含量： 98% 作用與機(jī)理： 提高低電流區(qū)遮蓋能力，雜質(zhì)容忍劑。能提高低區(qū)深鍍能力，同時(shí)具有抗雜效果，用量過(guò)多會(huì)導(dǎo)致失光。 鍍液含量： ~： 1g/KAh HBOPSNa 丁炔醇醚丙烷磺酸鹽 性狀：棕紅色透明液體 含量： 50% 作用與機(jī)理： 電鍍鎳低區(qū)光亮劑，填平劑。能增強(qiáng)低區(qū)的光亮性和填平性，與 PS 合用效果更佳。 鍍液含量： ~ATP s羧乙基異硫脲氯化物 Caboxy ethylisothiuronium chloride 性狀：無(wú)色至淡黃色粉末 含量： 85% IUS 異硫脲 丙酸鹽 性狀： 無(wú)色至淡黃色透明液體 含量： 50% 作用與機(jī)理： Jiangsu Mengde 17 作用與機(jī)理： 提高低電流區(qū)遮蓋能力，雜質(zhì)容忍劑。溶于熱水，能提高低區(qū)深鍍能力，同時(shí)具有抗雜效果，用量過(guò)多會(huì)導(dǎo)致失 光。 鍍液含量： ~： 鎳走位劑，抗雜劑。提高走位能力，具較強(qiáng)的除雜效果。 鍍液含量： ~： 2g/KAh EHS 羧乙基磺酸鈉 Sodium hydroxyl ethylene sulfonate 性狀：無(wú)色至淡黃色液體 含量： 45% 作用與機(jī)理： 電鍍鎳的輔助光亮劑，增加鍍層延展性及分散能力，對(duì)鍍層 可以產(chǎn)生一定的白亮效果。 鍍液含量： ~SSO3 羥丙基硫代硫酸鈉 Hydroxy propyl2mercaptodisultfonic acid sodium 性狀：無(wú)色至淡黃色液體 含量： 60% 作用與機(jī)理： 電鍍鎳中提高低電流遮蓋能力，雜質(zhì)容忍劑。能提高低區(qū)深鍍能力，同時(shí)具有抗雜效果。 鍍液含量： ~： 2g/KAh ? 鍍鍍鍍 鎳鎳鎳 光光光 澤澤澤 劑劑劑 NI3000 高性能鎳光澤劑 NI3000 bright nickel plating process 鍍液組成及操作條件 用途及特性 原料及操作條件 范圍 標(biāo)準(zhǔn) (開(kāi)缸 ) NiSO4． 6H2O 240~300g/L 270 g/L NiCl2． 6H2O 45~75 g/L 60 g/L H3B03 37~53 g/L 45 g/L NI3000 開(kāi)缸劑 8~12ml/L 10 ml/L NI3000 補(bǔ)加劑 ~ ml/L ml/L 潤(rùn)濕劑 MT80 1~2 ml/L ml/L 溫度（℃） 49~60 55 pH 值 ~ 電流密度 ~過(guò)濾 連續(xù)循環(huán) 連續(xù)循環(huán) 消耗量： NI3000 開(kāi)缸劑 消耗量很少，電鍍數(shù) KAh后可適當(dāng)補(bǔ)充。補(bǔ)加劑需與開(kāi)缸劑配合使用，大約加 2~3 次補(bǔ)加劑加 1次開(kāi)缸劑，光亮劑的消耗量為 220~280ml/KAh。 1， 均鍍能力強(qiáng)，低電區(qū)覆蓋力極強(qiáng)。 2， 鍍層柔韌色澤白亮美觀(guān)。 3， 出光速度快，高填平，沉積速度快。 4， 操作簡(jiǎn)單，單一光劑添加，易于控制，雜質(zhì)容忍度極高。 5， 適合作為鍍鉻，古銅，金 ，銀等金屬之光亮鎳底層。 NI88 高性能鎳光澤劑（直上 鎳） NI88 bright nickel plating process 鍍液組成及操作條件 用途及特性 原料及操作條件 范圍 標(biāo)準(zhǔn) NiSO4． 6H2O 240~300g/L 270 g/L NiCl2． 6H2O 45~75 g/L 60 g/L H3B03 37~53 g/L 45 g/L NI88 開(kāi)缸劑 8~12ml/L 10 ml/L NI88 補(bǔ)加劑 ~1 ml/L ml/L 潤(rùn)濕劑 MT80 1~2 ml/L ml/L 溫度（℃） 49~60 55 pH 值 ~ 1， 均鍍能力強(qiáng)，低電區(qū)覆蓋力極強(qiáng)，特別適用于直上鎳； 2， 鍍層柔韌色澤白亮美觀(guān)； 3，出光快速，高填平，沉積速度快； 4，操作簡(jiǎn)單，單一光劑添加，易于控制，雜質(zhì)容忍度極高。 6， 適合作為鍍鉻，古銅，金，銀等金屬之光亮鎳底層。 Jiangsu Mengde 18 電流密度 ~過(guò)濾 連續(xù)循環(huán) 連續(xù)循環(huán) 消耗量： NI88 開(kāi)缸劑消耗量很少，電鍍數(shù) KAh 后可適當(dāng)補(bǔ)充。補(bǔ)加劑需與開(kāi)缸劑配合使用，大約加 2~3 次補(bǔ)加劑加1 次開(kāi)缸劑，光亮劑的消耗量為 220~280ml/KAh。 清鎳 6高性能鍍鎳光澤劑 6 nickel quick and flate nickel plating brightener 鍍液組成及操作條件 用途及特性 硫酸鎳 240~300g/L 氯化鎳 50~60 g/L 硼酸 40~50 g/L 清鎳 6主光劑 A劑（淡黃色液體） ~1 g/L 清鎳 6柔軟劑 B 劑（白色液體） 8~12 g/L 潤(rùn)濕劑 MT80 1~2ml/L pH ~ 溫度 50~60℃ 電流密度 ~4A/dm2 攪拌條件 陰極移動(dòng)或空氣攪拌 消耗量： 主光劑 A： 100~150ml/KAh 柔軟劑 B： 80~120 ml/KAh 需較佳柔軟度，可按此消耗比例補(bǔ)充。 1. 本光亮劑出光速度快，深鍍能力強(qiáng)，柔軟性好，整平性特強(qiáng)； 2. 本光亮劑無(wú)論高，低電流密度區(qū)均可獲得光亮奪目的白亮鍍層，無(wú)高區(qū)燒焦及低區(qū)漏鍍現(xiàn)象，光亮范圍廣； 3. 本光亮劑更適合于復(fù)雜件電鍍，對(duì)鍍液中各種雜質(zhì)容忍極高。 清鎳 3快速高整平鍍鎳光澤劑 3 nickel quick and flate nickel plating brightener 鍍液組成及操作條件 用途及特性 硫酸鎳 240~300g/L 氯化鎳 50~60 g/L 硼酸 40~50 g/L 清鎳 3主光劑 A 劑 （淡黃色液體） ~清鎳 3柔軟劑 B 劑 （白色液體） 8~12 g/L 潤(rùn)濕劑 EHS 或 MT80 1~2ml/L pH ~ 溫度 50~60℃ 電流密度 ~4A/dm2 攪拌條件 陰極移動(dòng)或空氣攪拌 消耗量： 主光劑 A： 100~150ml/KAh 柔軟劑 B： 80~120 ml/KAh 1. 本光亮劑出光速度快，深鍍能 力強(qiáng)，柔軟性好，整平性特強(qiáng)； 2. 本光亮劑無(wú)論高，低電流密度區(qū)均可獲得光亮奪目的白亮鍍層，無(wú)高區(qū)燒焦及低區(qū)漏鍍現(xiàn)象，光亮范圍廣； 3. 本光亮劑更適合于復(fù)雜件電鍍，對(duì)鍍液中各種雜質(zhì)容忍極高。 Jiangsu Mengde 19 需較佳柔軟度，可按此消耗比例補(bǔ)充。 產(chǎn)品包裝： 以上產(chǎn)品均為 20 公斤塑桶包裝，屬非危險(xiǎn)品應(yīng)儲(chǔ)存在避光室內(nèi)。 化學(xué)鍍鎳磷合金光劑 Electroless nickel phosphorus alloy brightener 鍍液組成及操作條件 用途及特性 硫酸鎳 20g/L 次磷酸鈉 23g/L 乳酸 16g/L 丁二酸 8 g/L 乙酸鈉 15 g/L 丙酸 2 g/L 檸檬酸 8 g/L 硫脲 g/L