電子顯微鏡ppt課件(2)-資料下載頁(yè)
2025-05-04 06:57本頁(yè)面
【正文】 n m 作用體積內(nèi)逸出表面的二次電子數(shù)量增多。根據(jù)上述原理畫出二次電子形貌襯度的示意圖二次電子形貌襯度示意圖 43 對(duì)于實(shí)際樣品，表面形貌要比上面襯度的情況復(fù)雜得多，但形成二次電子襯度的原理是相同的。實(shí)際樣品中二次電子的激發(fā)過(guò)程示意圖實(shí)際樣品中二次電子的激發(fā)過(guò)程示意圖 a)凸出尖端 b)小顆粒 c)側(cè)面 d)側(cè)面 1）凸出的尖棱，小粒子以及比較陡的斜面處 SE產(chǎn)額較多，在熒光屏上這部分的亮度較大。 2）平面上的 SE產(chǎn)額較小，亮度較低。 3）在深的凹槽底部盡管能產(chǎn)生較多二次電子，使其不易被控制到，因此相應(yīng)襯度也較暗。 44 （ 2）表面形貌襯度像的應(yīng)用 A 斷口分析 材料斷口的微觀形貌往往與其化學(xué)成分、顯微組織、制造工藝及服役條件存在密切聯(lián)系，所以斷口形貌的確定對(duì)分析斷裂原因常常具有決定性作用。 沿晶斷口 韌窩斷口 45 解理斷口 復(fù)合材料斷口 46 1018號(hào)鋼在不同溫度下的斷口形貌 47 B 三維形貌的觀察和分析 在多相結(jié)構(gòu)材料中，特別是在某些共晶材料和復(fù)合材料的顯微組織和分析方面，由于可以借助于掃描電鏡景深大的特點(diǎn)，所以完全可以采用深浸蝕的方法，把基體相溶去一定的深度，使得欲觀察和研究的相顯露出來(lái)，這樣就可以在掃描電鏡下觀察到該相的三維立體的形態(tài)，這是光學(xué)顯微鏡和透射電鏡無(wú)法做到的。 48 C 斷裂過(guò)程的動(dòng)態(tài)研究 有的型號(hào)的掃描電鏡帶有較大拉力的拉伸臺(tái)裝置，這就為研究斷裂過(guò)程的動(dòng)態(tài)過(guò)程提供了很大的方便。在試樣拉伸的同時(shí)既可以直接觀察裂紋的萌生及擴(kuò)展與材料顯微組織之間的關(guān)系，又可以連續(xù)記錄下來(lái)，為科學(xué)研究提供最直接的證據(jù)。 49 雙相鋼 50 復(fù)合材料 51 ZnO納 米 線 的二次 電 子 圖 像 多孔氧化鋁模板制備的金納米線的形貌（ a）低倍像（ b）高倍像 納米材料形貌分析 52 原子序數(shù)襯度及其應(yīng)用 ? 原子序數(shù)襯度 是對(duì)樣品微區(qū)原子序數(shù)或化學(xué)成分變化敏感的物理信號(hào)作為調(diào)制信號(hào)得到的一種顯示微區(qū)化學(xué)成分差別的像襯度。 ? 背散射電子產(chǎn)額隨樣品中元素原子序數(shù)的增大而增加，因而樣品上原子序數(shù)較高的區(qū)域產(chǎn)生較強(qiáng)的信號(hào)，在背散射電子像上顯示較高的襯度，這樣就可以根據(jù)背散射電子像亮暗襯度來(lái)判斷相應(yīng)區(qū)域原子序數(shù)的相對(duì)高低，對(duì)金屬及其合金進(jìn)行顯微組織分析。
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