【正文】
? n區(qū)與 p區(qū)的平衡電子濃度分別為: ? 結(jié)接觸電勢(shì)差與摻雜濃度、溫度、禁帶寬度等有關(guān) 00e x p F n ini EEnnkT???? ???? 0 0e x p F p ipiEEnnkT???? ????? ?0001ln nF n F pn EEp k T??? ? 0 0 0 201 l n l nn ADD F n F pik T n k T NNV E Eq q p q n? ? ? ?? ? ? ?? ? ? ?? ? ? ?? ( 24分)一個(gè)硅 PN結(jié)( T=300K), P區(qū)的摻雜濃度為 NA= 1x1015cm3, N區(qū)的摻雜濃度ND= 3 NA,使用雜質(zhì)全部電離和載流子全部耗盡假設(shè), ? (1) 計(jì)算室溫下 PN結(jié)的接觸電勢(shì)差 VD; ? (2) 定性畫出 PN結(jié)的電場(chǎng)分布、電荷分布。 ? (3) 若溫度 T增加、材料的禁帶寬度 Eg增加, VD將分別如何變化? ? (4) 若此結(jié)構(gòu)是 N+N結(jié),即 N+區(qū)一側(cè) ND+=3 NA,N區(qū)一側(cè) ND= NA,計(jì)算此時(shí)的 VD。( 2021) ? ? 0 0 0 201 l n l nn ADD F n F pik T n k T NNV E Eq q p q n? ? ? ?? ? ? ?? ? ? ?? ? ? ?? 1寫出理想 PN結(jié)的 JV特性關(guān)系公式(肖克萊方程)。并在半對(duì)數(shù)坐標(biāo)下( X軸為 V,Y軸為 ln( J/J0),定性畫出該曲線。若此 PN結(jié)為實(shí)際的 PN結(jié),應(yīng)做哪些改動(dòng)?為什么?( 2021)