后清洗生產(chǎn)培訓(xùn)(編輯修改稿)
2025-03-28 20:28 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 34橡膠圈較小 2051141橡膠圈正常 刻蝕液完全吸附 刻蝕槽前后硅片狀態(tài)比較 此為生產(chǎn) mono125150硅片時圖片 硅片剛進入刻蝕槽 硅片刻蝕后，邊緣水印為反應(yīng)生成的水 刻蝕槽影響刻蝕效果的因素 ? 一、抽風 :抽風在很大程度上會影響到刻蝕槽液面波動，而刻蝕槽任何的液面波動，對在液面上運行的硅片都有很大影響； ? 二、傳動速度 :傳動速度決定硅片通過刻蝕槽的時間，也就是決定硅片刻蝕的反應(yīng)時間； ? 三、滾軸和內(nèi)槽槽邊高度（水平） :滾軸高度決定硅片通過刻蝕槽時的高度，而內(nèi)槽槽邊高度（水平）決定刻蝕槽液面的大致高度，兩者的高度差距只有在合理范圍內(nèi)，硅片才能吸附到刻蝕液； ? 四、滾軸水平：滾軸水平， 5道軌道內(nèi)運行的硅片才能與刻蝕液水平面平行，只有平行于水平面，硅片吸附刻蝕液才均勻，也即刻蝕均勻，無過刻或刻不通現(xiàn)象； ? 五、硅片覆蓋率：硅片覆蓋率也就是硅片之間的間距，它決定硅片間液面形狀?？涛g槽是通過液體的張力將刻蝕液吸附于硅片上，但硅片間間隙過小，液體就會浸漫到硅片上面，破壞擴散面。同時，過高的覆蓋率還會使刻蝕槽液面升高。 Rinse 1 一號洗槽采用循環(huán)水噴淋，上下各兩道水刀沖洗硅片兩面后，風刀吹去硅片上面殘液（水源為 rinse 2溢流水）。 上水刀 下水刀 風刀 17 Alkaline rinse 上水刀 上水刀 風刀 堿槽溶液流向圖（槽截面） 泵 過濾器 硅片運行平面 堿液流動方向 冷卻水流動方向 槽壁 噴淋頭 槽內(nèi)液面 高于溢流口的溶液從溢流管排掉 F Rinse 2 二號洗槽采用循環(huán)水噴淋，上下各兩道水刀沖洗硅片兩面后，風刀吹去硅片上面殘液（水源為 rinse 3溢流水） 。 上水刀 下水刀 風刀 HF bath 氫氟酸槽采用 5%HF溶液噴淋浸泡，上下各四道水刀沖洗硅片兩面后，風刀吹去硅片上面殘液． 氫氟酸循環(huán)噴淋使反應(yīng)充分 HF bath去PSG 硅片完全浸泡在溶液里 氫氟酸槽溶液流向圖（槽截面） 過濾器 泵 硅片運行平面 氫氟酸液流動方向 內(nèi)槽液面 外槽液面 F 噴淋頭 Rinse 3 三號洗槽采用循環(huán)水噴淋（水源為純水噴霧落進槽內(nèi)水） ，上下各兩道水刀沖洗硅片兩面后，上下各一道純水噴霧器清洗硅片兩面（流量 400l／
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