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正文內(nèi)容

acf材料簡要介紹(編輯修改稿)

2025-01-16 10:09 本頁面
 

【文章內(nèi)容簡介】 250 500 750 1000 Time (hr)二 .製程壓力 接觸阻抗25MPa50MPa100MPa200MPa250MPa50~150 MPa85 ?C,85%RHAU Optronics Corp.ACF與與 COG製程品質(zhì)之關(guān)係製程品質(zhì)之關(guān)係Connection resistance (?)86420 0 5 10 15Number of particle (per Bump)一 .導(dǎo)電粒子數(shù) 接觸阻抗86420 0 5 10 15t = 0 hrt = 500 hrs40?C 100 ?C每個 gold bump導(dǎo)電粒子數(shù)須大於 5顆AU Optronics Corp.ACF與與 COG製程品質(zhì)之關(guān)係製程品質(zhì)之關(guān)係二 .導(dǎo)電粒子變形量 接觸阻抗Connection resistance (?)Deformation (%)8 6420 0 20 40 60 80t0=5μm tBumpBumpGlassGlassDeformation= t0t t0?100%每個導(dǎo)電粒子壓著變形量須大於 20%AU Optronics Corp.ACF與與 COG製程品質(zhì)之關(guān)係製程品質(zhì)之關(guān)係三 .導(dǎo)電粒子變形量 判別標(biāo)準(zhǔn)AU Optronics Corp.ACF與與 COG製程品質(zhì)之關(guān)係製程品質(zhì)之關(guān)係四 .ACF厚度 接觸阻抗Connec
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