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正文內(nèi)容

材料分析測(cè)試復(fù)習(xí)題及答案(編輯修改稿)

2024-09-01 08:35 本頁(yè)面
 

【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 光時(shí)間僅需數(shù)秒鐘。1用愛(ài)瓦爾德團(tuán)解法證明布拉格定律解:在倒易空間中,畫(huà)出衍射晶體的倒易點(diǎn)陣,以倒易原點(diǎn)0*為端點(diǎn)做入射波的波矢量k(00*),該矢量平行于入射束的方向,長(zhǎng)度等于波長(zhǎng)的倒數(shù),即K=1/入以0為中心,1/入為半徑做一個(gè)球(愛(ài)瓦爾德球),根據(jù)倒易矢量的定義0*G=g,于是k’k=*G作垂線,垂足為D,因?yàn)間平行于(hkl)晶面的法向Nhkl,所以O(shè)D就是正空間中(hkl)晶面的方面,若它與入射束方向夾角為斯塔,則O*D=OO*sin(斯塔)即g/2=ksin(斯塔)。g=1/d k=1/入 所以2dsin(斯塔)=入 圖為163上的1何為零層倒易面和晶帶定理?說(shuō)明同一晶帶中各晶面及其倒易矢量與晶帶軸之間的關(guān)系。解:由于晶體的倒易點(diǎn)陣是三維點(diǎn)陣,如果電子束沿晶帶軸[uvw]的反向入射時(shí),通過(guò)原點(diǎn)O的倒易平面只有一個(gè),我們把這個(gè)二維平面叫做零層倒易面. 因?yàn)榱銓拥挂酌嫔系牡挂酌嫔系母鞯挂资噶慷己途лSr=[uvw]垂直,=0即hu+kv+lw=0這就是晶帶定理. 1說(shuō)明多晶、單晶及非晶衍射花樣的特征及形成原理。解:多晶體的電子眼奢華樣式一系列不同班靜的同心圓環(huán)單晶衍射花樣是由排列得十分整齊的許多斑點(diǎn)所組成的非晶態(tài)物質(zhì)的衍射花樣只有一個(gè)漫散中心斑點(diǎn)單晶花樣是一個(gè)零層二維倒易截面,其倒易點(diǎn)規(guī)則排列,具有明顯對(duì)稱(chēng)性,且處于二維網(wǎng)絡(luò)的格點(diǎn)上。因此表達(dá)花樣對(duì)稱(chēng)性的基本單元為平行四邊形。單晶電子衍射花樣就是(uvw)*0零層倒易截面的放大像。多晶試樣可以看成是由許多取向任意的小單晶組成的。故可設(shè)想讓一個(gè)小單晶的倒易點(diǎn)陣?yán)@原點(diǎn)旋轉(zhuǎn),同一反射面hkl的各等價(jià)倒易點(diǎn)(即(hkl)平面族中各平面)將分布在以1/dhkl為半徑的球面上,而不同的反射面,其等價(jià)倒易點(diǎn)將分布在半徑不同的同心球面上,這些球面與反射球面相截,得到一系列同心園環(huán),自反射球心向各園環(huán)連線,投影到屏上,就是多晶電子衍射圖。非晶的衍射花樣為一個(gè)圓斑1制備薄膜樣品的基本要求是什么,具體工藝過(guò)程如何?雙噴減薄與離子減薄各用于制備什么樣品?解:要求:1).薄膜樣品的組織結(jié)構(gòu)必須和大塊樣品相同,在制備的過(guò)程中,這些組織結(jié)構(gòu)不發(fā)生變化。2).樣品相對(duì)電子束而言必須有足夠的“透明度”,因?yàn)橹挥袠悠纺鼙浑娮邮高^(guò),才有可能進(jìn)行觀察分析。3).薄膜樣品應(yīng)有一定的強(qiáng)度和剛度,在制備的、夾持和操作過(guò)程中,在一定的機(jī)械力作用下不會(huì)引起變形或損壞。氧化和腐蝕會(huì)是樣品的透明度下降,并造成多種假象。工藝過(guò)程:1).~。導(dǎo)電樣品用電火花線切割法;對(duì)于陶瓷等不導(dǎo)電樣品可用金剛石刃內(nèi)圓切割機(jī)。2).樣品薄片的預(yù)先減薄。有兩種方法:機(jī)械閥和化學(xué)法。3).最終減薄。金屬試樣用雙噴電解拋光。對(duì)于不導(dǎo)電的陶瓷薄膜樣品,可采用如下工藝。首先用金剛石刃內(nèi)切割機(jī)切片,再進(jìn)行機(jī)械研磨,最后采用離子減薄。金屬試樣用雙噴電解拋光。不導(dǎo)電的陶瓷薄膜樣品離子減薄。17. 什么是衍射襯度?它與質(zhì)厚襯度有什么區(qū)別?答:由于樣品中不同位相的衍射條件不同而造成的襯度差別叫衍射襯度。它與質(zhì)厚襯度的區(qū)別:(1) 、質(zhì)厚
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