proe曲面進(jìn)階(二)(編輯修改稿)
2024-08-14 12:38 本頁(yè)面
【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 orizontal vector trajectory)，定義剖面 x軸的走向 (即控制造型 )。 Normal Trajectory: 控制剖面掃描式的垂直方向。(Nrm To Origin Traj。 Pivot Dir。 Norm to Traj) Nrm To Origin Traj :剖面原點(diǎn)落在第一條軌跡綫 (即 Origin Trajectory）上，且剖面垂直 Origin Trajectory作掃描 。 Pivot Dir:剖面垂直 Pivot Direction作掃描，而剖面原點(diǎn)落在 Origin Trajectory上。有三種方式： Plane (剖面永遠(yuǎn)垂直此平面 )； Crv/Edge/Axis(剖面垂直直綫、直邊或中心軸 )； Csys(垂直 x、 y、 z軸 ) Normal To Traj:剖面 原點(diǎn)落在第一條軌跡綫上，而 始終垂直另一條軌跡綫 )。 剖面在掃描時(shí)的外形變化除了受到 Xvector Trajectory的 3D曲綫控制外，也可用下列兩種方式來(lái)控制。 Relation搭配 trajpar參數(shù)控制剖面參數(shù)的變化：trajpar是從 0到 1的一個(gè)變量。 eg. sd=trajpar+1 Relation搭配基準(zhǔn)圖形 (Datum graph)及 trajpar參數(shù)來(lái)控制剖面參數(shù)的變化?；靖袷绞牵? sd=evalgraph(“graph_name”,x_value) Evalgraph:為 pro/e默認(rèn)，意義是由基準(zhǔn)圖形取得對(duì)應(yīng)于 x_value的 y值 graph_name：為 Datum graph名字 x_value：代表 Sweep的行程 特殊：可用 sin、 cos、 tan、 ctan取代 evalgraph 剖面在掃描過(guò)程中 ,剖面有 3種變化形式： ：在 Sweep過(guò)程中，剖面的 x軸軸向受到 Xvector Trajectory所控制，造成 x軸旋轉(zhuǎn)。 ：在 Sweep過(guò)程中，剖面的某個(gè)點(diǎn)位于 Origin Trajectory或Xvector Trajectory上，因此剖面隨著軌跡綫的變化而作放大或縮小。 ： 在 Sweep過(guò)程中，剖面的尺寸參數(shù)受到 Relations的控制而變化。 Swept Blend Swept Blend使用一條軌跡綫與幾個(gè)剖面來(lái)創(chuàng)造一個(gè)實(shí)體或曲面特徵，這種特徵同時(shí)具有 Sweep與Blend的效果 。 種類 剖 面 軌跡綫 特 點(diǎn) Blend 至少兩個(gè) 無(wú) 無(wú)須軌跡綫，且剖 面的邊數(shù)須
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