【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 42：相當(dāng)于 322 步 322* = 反應(yīng)盤(pán)垂直極限位置距離杯底尚有 ，符合要求。 17 樣本盤(pán)垂直極限位置 05 5E 最高點(diǎn)距大底板為 254mm，樣本盤(pán)試管底部距大底板約為 133mm，因此樣本針在樣本盤(pán)上的極限行程為 254133=121mm。 05 5E：相當(dāng)于 734 步 734* = 反應(yīng)盤(pán)垂直極限位置距離杯底尚有約 ，符合要求。 18 排樣本方式 01 00 01 為低位， 00 無(wú)作用 01：液面檢測(cè)方式吸樣 02：固定高度吸樣 03：隨量跟蹤方式吸樣 19 清洗時(shí)間 0F 00 0F 為低位， 00 無(wú)作用 15*20=300ms 20 樣本針容積和電機(jī)步數(shù)換算系數(shù) 00 00 未使用 21 樣本盤(pán)一圈總步數(shù) 09 30 9*128+3*16=1152+48=1200 步 22 樣本盤(pán)內(nèi)圈總杯數(shù) 1E 00 1*16+14=30 個(gè) 23 樣本盤(pán)外圈總杯數(shù) 1E 00 1*16+14=30 個(gè) 24 樣本針正向旋轉(zhuǎn)極限位置 41 48 等同于“反應(yīng)盤(pán)區(qū)域外邊界水平” 25 樣本針?lè)聪蛐D(zhuǎn)極限位置 01 2A 等同于“樣本盤(pán)區(qū)域外邊界水平位置” 26 吸空氣量 00 00 未使用 27 多吸樣本量 01 10 50ul 相當(dāng)于 2400步 1*128+16=144 步 , 相當(dāng)于 3μ l 空氣 28 清洗外壁時(shí)排樣本量 00 00 未使用 29 樣本盤(pán)內(nèi)圈杯位修正量 0A 00 0A 為低位， 00 無(wú)作用 單位為步， 1 步表示 176。 30 樣本盤(pán)外圈杯位修正量 0A 00 0A 為低位， 00 無(wú)作用 單位為步， 1 步表示 176。 31 清洗位垂直極限 01 57 最高點(diǎn)距大底板為 254mm，清洗池底部距大底板為 ，則 最高 點(diǎn)到清 洗池 底距 離為=。 01 57：相當(dāng)于 215 步 215* = mm 反應(yīng)盤(pán)垂直極限位置距離杯底尚有 ，符合 12 BS300 工程師提高培訓(xùn)教材（ ） 要求。 32 注射器容量 12 60 （ 1*16+2） *128+6*16=2304+96=2400 步 相當(dāng)于 50μ l 33 復(fù)位傳感器和碼盤(pán)之間的偏移 28 00 28 為低位， 00 無(wú)作用 2*16+8=40步 40 步 *176。 /步 =12176。 此參數(shù)不影響樣本盤(pán)的定位，只影響樣本盤(pán)加速和減速的起點(diǎn)。 34 吸樣本前吸空氣量 01 10 50ul 相當(dāng)于 2400步 1*128+16=144 步，相當(dāng)于 3μ l空氣 35 吸樣本后吸空氣量 1E 00 1E 為低位， 00 無(wú)作用 1E 相當(dāng)于 30 步， 相當(dāng)于 30/48= l空氣 36 吸樣本方式 02 00 02 為低位， 00 無(wú)作用 01：多吸空氣 02：多吸 3μ l 樣本再排 2μ l樣本 03：空氣樣本均不多吸 三、試劑針單元 序號(hào) 項(xiàng) 目 默認(rèn)參數(shù) 計(jì) 算 1 清洗水平位置 00 2A 試劑 針清洗池到反應(yīng)杯 ， 轉(zhuǎn)角 176。，相當(dāng)于 步 00 2A：相當(dāng)于 42 步 而對(duì)于反應(yīng)盤(pán)水平位置而言： 40 2A：相當(dāng)于 42 步 42+42=84 步 由于清洗池的位置可調(diào)范圍比較大，因而此參數(shù)可用。 2 試劑盤(pán)內(nèi)圈水平 01 57 試劑 針清洗池到 試劑盤(pán) 內(nèi)圈 ，轉(zhuǎn)角 176。， 相當(dāng)于 步 01 57： 相當(dāng)于 215 步 00 2A： 相當(dāng)于 42 步 21542=173 步 由于清洗池的位置可調(diào)范圍比較大 ， 因而此參數(shù)可用。 3 試劑盤(pán)外圈水平位置 01 1C 試劑 針清洗池到 試劑盤(pán) 外圈，轉(zhuǎn)角 176。， 相當(dāng)于 步 01 1C： 相當(dāng)于 156 步 00 2A： 相當(dāng)于 42 步 15642=112 步 由于清洗池的位置可調(diào)范圍比較大 ， 因而此參數(shù)可用。 BS300 工程師提高培訓(xùn)教材（ ） 13 4 試劑盤(pán)區(qū)域內(nèi)邊界水平位置 00 64 此參數(shù)值本應(yīng)該小于試劑盤(pán)外圈水平 01 1C，但已無(wú)實(shí)際用途。 5 試劑盤(pán)區(qū)域外邊界水平位置 01 34 此參數(shù)值本應(yīng)該大 于試劑盤(pán)內(nèi)圈水平位置 01 57，但已無(wú)實(shí)際用途。 6 反應(yīng)盤(pán)水平位置 40 2A 試劑 針清洗池到反應(yīng)杯 ， 轉(zhuǎn)角 176。，相當(dāng)于 步 00 2A：相當(dāng)于 42 步 而對(duì)于反應(yīng)盤(pán)水平位置而言： 40 2A：相當(dāng)于 42 步 42+42=84 步 由于清洗池的位置可調(diào)范圍比較大，因而此參數(shù)可用。 7 反應(yīng)盤(pán)區(qū)域內(nèi)邊界水平位置 40 3C 此參數(shù)值本應(yīng)該小于反應(yīng)盤(pán)水平位置 40 2A，但已無(wú)實(shí)際用途。 8 反應(yīng)盤(pán)區(qū)域外邊界水平 40 64 此參數(shù)值本應(yīng)該大于反應(yīng)盤(pán)水平位置 40 2A，但已無(wú)實(shí) 際用途。 9 清洗垂直位置 01 39 最高點(diǎn)距大底板為 254mm，清洗池液面距大底板為 ，清洗池底部距大底板為 ，則最高點(diǎn)到清洗池底距離為 =。 令最高點(diǎn)到清洗池內(nèi)清洗位行程為 30mm，相當(dāng)于 步 01 39： 1*128+3*16+9=185 步 10 控制液路垂直位置 01 20 01 20： 1*128+2*16=160 步 160 步 *此參數(shù)表示當(dāng)試劑針在清洗位置下降 160 步時(shí)液路打開(kāi)，清洗池開(kāi)始注 水。 11 試劑盤(pán)內(nèi)圈吸試劑垂直位置 00 0A 10 步 *12 試劑盤(pán)外圈吸試劑垂直位置 00 0A 10 步 *13 反應(yīng)盤(pán)吸稀釋試劑垂直位置 00 0A 10 步 *14 反應(yīng)盤(pán)液面下排試劑垂直位置 00 0A 10 步 *15 反應(yīng)盤(pán)固定排試劑垂直位置 02 04 最高點(diǎn)距大底板為 254mm，反應(yīng)杯底部距大底板為 ，反應(yīng)杯杯底厚度 ，則最高點(diǎn)到應(yīng)杯杯底距離為 =。 02 33：相當(dāng)于 260 步 260* = 反應(yīng)盤(pán)垂直極限位置距離杯底尚有 ，符合要求。 16 反應(yīng)盤(pán)垂直極限位置 02 42 最高點(diǎn)距大底板為 255mm，反應(yīng)杯杯底距大底板為 200mm ， 則 最 高 點(diǎn) 到 應(yīng) 杯 杯 底 距 離 為255200=55mm。 02 42：相當(dāng)于 322 步 322* = 反應(yīng)盤(pán)垂直極限位置距離杯底尚有 ，符 14 BS300 工程師提高培訓(xùn)教材（ ） 合要求。 17 試劑盤(pán)垂直極限位置 05 5E 最高點(diǎn)距大底板為 254mm，試劑盤(pán)試管底部距大底板約為 133mm，因此試劑針在試劑盤(pán)上的極限行程為 254133=121mm。 05 5E：相當(dāng)于 734 步 734* = 反應(yīng)盤(pán)垂直極限位置距離杯底尚有約 ，符合要求。 18 排試劑方式 02 00 01 為低位， 00 無(wú)作用 01：液面檢測(cè)方式吸樣 02：固定高度吸樣 03：隨量跟蹤方式吸樣 19 清洗時(shí)間 0F 00 0F 為低位， 00 無(wú)作用 15*20=300ms 20 試劑針容積和電機(jī)步數(shù)換算系數(shù) 00 00 未使用 21 試劑盤(pán)一圈總步數(shù) 09 30 9*128+3*16=1152+48=1200 步 22 試劑盤(pán)內(nèi)圈總杯數(shù) 19 00 1*16+19=35 個(gè) 23 試劑盤(pán)外圈總杯數(shù) 19 00 1*16+19=35 個(gè) 24 試劑針正向旋轉(zhuǎn)極限位置 40 78 等同于“反應(yīng)盤(pán)區(qū)域外邊界水平” 25 試劑針?lè)聪蛐D(zhuǎn)極限位置 01 48 等同于“試劑盤(pán)區(qū)域外邊界水平位置” 26 吸空氣量 00 00 未使用 27 多吸試劑量 00 18 500ul 相當(dāng)于 2400 步 1*16+8=24步 , 相當(dāng)于 5μ l 空氣 28 清洗外壁時(shí)排試劑量 00 00 未使用 29 試劑盤(pán)內(nèi)圈杯位修正量 0A 00 0A 為低位， 00 無(wú)作用 單位為步， 1 步表示 176。 30 試劑盤(pán)外圈杯位修正量 0A 00 0A 為低位， 00 無(wú)作用 單位為步， 1 步表示 176。 31 清洗位垂直極限 01 5C 最高點(diǎn)距大底板為 254mm，清洗池底部距大底板為 ，則 最高 點(diǎn)到清 洗池 底距 離為=。 01 5C：相當(dāng)于 220 步 220* = mm 反應(yīng) 盤(pán)垂直極限位置距離杯底尚有 ，符合要求。 32 注射器容量 12 60 （ 1*16+2） *128+6*16=2304+96=2400 步 相當(dāng)于 500μ l 33 復(fù)位傳感器和碼盤(pán)之間的偏移 28 00 28 為低位， 00 無(wú)作用 2*16+8=40步 40 步 *176。 /步 =12176。 此參數(shù)不影響試劑盤(pán)的定位，只影響試劑盤(pán)加速和 BS300 工程師提高培訓(xùn)教材（ ） 15 減速的起點(diǎn)。 34 吸試劑前吸空氣量 1D 00 500ul 相當(dāng)于 2400 步 1D 為低位， 00 無(wú)作用 1*16+14=30 步，相當(dāng)于 l 空氣 35 吸試劑后吸空 氣量 1E 00 1E 為低位， 00 無(wú)作用 1E 相當(dāng)于 30 步， 相當(dāng)于 30/= l空氣 36 吸試劑方式 02 00 02 為低位， 00 無(wú)作用 01：多吸空氣 02：多吸 3μ l 試劑再排 2μ l試劑 03：空氣試劑均不多吸 四、裝載攪拌單元 序號(hào) 項(xiàng) 目 默認(rèn)參數(shù) 計(jì)算 1 攪拌桿清洗水平位置 00 44 攪拌桿 清洗池到反應(yīng)杯 ， 轉(zhuǎn)角 176。，相當(dāng)于 步 00 44：相當(dāng)于 70 步 而對(duì)于攪拌桿攪拌水平位置而言： 00 46：相當(dāng)于 72 步 70+72=144步 由于清洗池的位置可調(diào)范圍比較大，因而此參數(shù)可用。 2 攪拌桿清洗垂直位置 03 7A 最高點(diǎn)距大底板為 ，清洗池液面距大底板為 ， 而清 洗池 底部距 大底 板為， 03 7A： 3*128+7*16+9=505 步 505 步 *= 顯然，攪拌桿與清洗池不干涉。 3 攪拌桿攪拌水平位置 00 46 攪拌桿 清洗池到反應(yīng)杯 ， 轉(zhuǎn)角 176。，相當(dāng)于 步 00 44：相當(dāng)于 70 步 而對(duì)于攪拌桿 攪拌水平位置而言： 00 46：相當(dāng)于 72 步 70+72=144步 由于清洗池的位置可調(diào)范圍比較大，因而此參數(shù)可用。 4 攪拌桿攪拌垂直位置 04 32 最高點(diǎn)距大底板為 ，反應(yīng)杯底部距大底板為 ，反應(yīng)杯杯底厚度 ，則最高點(diǎn)到應(yīng)杯杯底距離為 =。 04 32：相當(dāng)于 562 步 562* = 16 BS300 工程師提高培訓(xùn)教材（ ） 反應(yīng)盤(pán)垂直極限位置距離杯底尚有 （理論值），符合要求。 5 反應(yīng)盤(pán)區(qū)域近邊界 00 28 此參數(shù)值應(yīng)小于反 應(yīng)盤(pán)水平位置 00 46，但已無(wú)實(shí)際用途。 6 反應(yīng)盤(pán)區(qū)域遠(yuǎn)邊界 01 16 此參數(shù)值應(yīng)大于反應(yīng)盤(pán)水平位置 00 46，但已無(wú)實(shí)際用途。 7 機(jī)械手取杯水平位置 02 03 02 03： 2*128+3=259 步 259 步 *8 機(jī)械手取杯垂直位置 06 00 06 00： 6*128=768 步 768 步 *9 機(jī)械手放杯水平位置 00 46 00 46： 4*16+6=70 步 70 步 *機(jī)械手抓杯水平運(yùn)動(dòng)行程為： += 與理論值 50mm 基本相符 10 機(jī)械手放杯垂直位置 15 00 15 00： (1*16+5)*128=2688 步 2688 步 *機(jī)械手抓杯上下運(yùn)動(dòng)行程為： = 與理論值 11 攪拌時(shí)間 32 00 32 為低位， 00 無(wú)作用 50*20=1000ms=1s 12 清洗時(shí)間 10 00 10 為低位， 00 無(wú)作用 16*20=320ms 13 清洗位置垂直極限 04 58 最高點(diǎn)距大底板為 ，清洗池底部距大底板為 ， 04 58： 4*128+5*16+8=600 步 600 步 *= 此參數(shù)值偏大 14 攪拌位置垂直極限 05 3C 最高點(diǎn)距大底板為 ，反應(yīng)杯底部距大底板為 ，反應(yīng)杯杯底厚度 ，則最高點(diǎn)到應(yīng)杯杯底距離為 =。 05 3C：相當(dāng)于 700 步 700* = 此參數(shù)值偏大 15 取杯位置垂直極限 10 0C