反滲透和納濾系統(tǒng)的清洗(編輯修改稿)
2025-07-23 01:04 本頁面
【文章內容簡介】 有機和/或無機混合物)首段，前端膜逐漸增加逐漸增加輕微增加無機鹽結垢(如Ca、Mg、Ba、Sr)末段，末端膜中度增加輕微增加明顯增加聚合硅垢末段，末端膜正常到增加增加正常到增加生物污染任何位置/通常前端膜明顯增加明顯增加正常到增加有機物污染(溶解性天然有機物)所有段逐漸增加增加降低阻垢劑污染末段最嚴重正常到增加增加正常到增加膜氧化（如ClO KMnO4）首段最嚴重正常到降低降低增加膜水解(超出pH使用范圍)所有段正常到降低降低增加膜面磨損(活性炭粉等)首段最嚴重正常到降低降低增加O型圈泄漏(內連接管或適配器)無規(guī)則/通常進水端適配器正常到降低正常到降低增加膜元件泄漏（運行或備用時的產水背壓）末段最嚴重正常到降低正常到降低增加膜元件泄漏（清洗或沖洗時產水閥關閉）靠近產水閥膜元件增加（有污染且壓降高時）增加（有污染且壓降高時）增加 美國海德能公司推薦的常規(guī)清洗液介紹① 溶液1:%（W）檸檬酸（C6H8O7）的低pH清洗液。對于去除無機鹽垢（如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等），金屬氧化物或氫氧化物（鐵、錳、銅、鎳、鋅等），及無機膠體十分有效。市售檸檬酸為粉末固體。② 溶液2:（W）%STPP（三聚磷酸鈉Na5P3O10）%（W）的NaEDTA混合的高pH（pH值為10）洗液。它專用于去除硫酸鈣垢和輕微至中等程度的天然有機污染物。STPP具有無機螯合劑和洗滌劑的功用。NaEDTA是一個具有螯合性的有機螯合清洗劑，可有效去除二價和三價陽離子和金屬離子。市售STPP和NaEDTA均為粉末固體。③ 溶液3:（W）%STPP（三聚磷酸鈉Na5P3O10）%（W）的NaDDBS[十二烷基苯磺酸鈉，C6H5（CH2）12SO3Na]混合的pH值為10的溶液。該清洗液用于去除重度的天然有機物（NOM）污染。STPP具有無機螯合劑和洗滌劑的功用，NaDDBS則為陰離子洗滌劑。④ 溶液4:%（W）鹽酸低pH清洗液（），主要用于去除無機物垢（如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等），金屬氧化物/氫氧化物（鐵、錳、銅、鎳、鋁等），及無機膠體。這種清洗液比溶液1要強烈，鹽酸是強酸溶液，配制時需遵守相關注意事項。⑤ 溶液5:%（W）連二亞硫酸鈉（Na2S2O4）低pH清洗液（pH=46）。它用于去除金屬氧化物和氫氧化物，且可一定程度地去除硫酸鈣、硫酸鋇和硫酸鍶垢。連二亞硫酸鈉是強還原劑，本溶液有強烈氣味需合適通風環(huán)境。連二亞硫酸鈉為粉末固體。⑥ 溶液6:%%（W）SDS（十二烷基硫酸鈉）高pH混合液（）。它用于去除天然有機污染物、無機/有機膠體混合污染物和微生物（菌素、藻類、霉菌、真菌）污染。SDS是會產生一些泡沫的陰離子表面活性劑型的洗滌劑。⑦溶液7:%（W）氫氧化鈉高pH清洗液（）。用于去除聚合硅垢，這是一種較為強烈的堿性洗液。請注意采用此清洗液時不能超過表5中的最高pH值與溫度極限。配制藥劑時請遵守相關藥液的注意事項，做好必要的防護措施。表4污染物質和推薦的清洗溶液污染物常規(guī)化學清洗增強化學清洗碳酸鈣垢14硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢24金屬氧化物、金屬氫氧化物15無機膠體污染14無機有機混合膠體污染26聚合硅垢無7生物污染2或36天然有機污染物2或36藥品清洗時pH值的范圍受到清洗液水溫的限制。表5給出了在不同溫度下清洗不同膜元件時的pH值的限定范圍。超出這一范圍可能會造成膜元件不可恢復的損壞。表5清洗液pH值和清洗水溫的關系1膜型號清洗液pH值
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