反滲透和納濾系統(tǒng)的清洗-文庫吧資料
2025-07-02 01:04本頁面
【正文】 SWC4B 、SWC5 、SWC5LD、 SWC5 MAX2 – 2 – 122 – PROCPROC201 – 131 – 121 – 12注意：本表列出的是不同清洗pH范圍對應(yīng)的最高清洗水溫。表5給出了在不同溫度下清洗不同膜元件時(shí)的pH值的限定范圍。污染物質(zhì)和推薦的清洗溶液污染物常規(guī)化學(xué)清洗增強(qiáng)化學(xué)清洗碳酸鈣垢14硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢24金屬氧化物、金屬氫氧化物15無機(jī)膠體污染14無機(jī)有機(jī)混合膠體污染26聚合硅垢無7生物污染2或36天然有機(jī)污染物2或36配制藥劑時(shí)請遵守相關(guān)藥液的注意事項(xiàng)，做好必要的防護(hù)措施。用于去除聚合硅垢，這是一種較為強(qiáng)烈的堿性洗液。⑦溶液7:它用于去除天然有機(jī)污染物、無機(jī)/有機(jī)膠體混合污染物和微生物（菌素、藻類、霉菌、真菌）污染。⑥ 溶液6:連二亞硫酸鈉是強(qiáng)還原劑，本溶液有強(qiáng)烈氣味需合適通風(fēng)環(huán)境。⑤ 溶液5:%（W）連二亞硫酸鈉（Na2S2O4）低pH清洗液（pH=46）。④ 溶液4:%（W）鹽酸低pH清洗液（），主要用于去除無機(jī)物垢（如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等），金屬氧化物/氫氧化物（鐵、錳、銅、鎳、鋁等），及無機(jī)膠體。該清洗液用于去除重度的天然有機(jī)物（NOM）污染。③ 溶液3:NaEDTA是一個(gè)具有螯合性的有機(jī)螯合清洗劑，可有效去除二價(jià)和三價(jià)陽離子和金屬離子。它專用于去除硫酸鈣垢和輕微至中等程度的天然有機(jī)污染物。② 溶液2:對于去除無機(jī)鹽垢（如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等），金屬氧化物或氫氧化物（鐵、錳、銅、鎳、鋅等），及無機(jī)膠體十分有效。① 溶液1:污染的種類和系統(tǒng)顯示現(xiàn)象故障類型可能發(fā)生的位置系統(tǒng)壓降進(jìn)水壓力透鹽率金屬氧化物污染(如Fe、Mn、Cu、Ni、Zn等)首段，前端膜迅速增加迅速增加迅速增加膠體污染(有機(jī)和/或無機(jī)混合物)首段，前端膜逐漸增加逐漸增加輕微增加無機(jī)鹽結(jié)垢(如Ca、Mg、Ba、Sr)末段，末端膜中度增加輕微增加明顯增加聚合硅垢末段，末端膜正常到增加增加正常到增加生物污染任何位置/通常前端膜明顯增加明顯增加正常到增加有機(jī)物污染(溶解性天然有機(jī)物)所有段逐漸增加增加降低阻垢劑污染末段最嚴(yán)重正常到增加增加正常到增加膜氧化（如ClO KMnO4）首段最嚴(yán)重正常到降低降低增加膜水解(超出pH使用范圍)所有段正常到降低降低增加膜面磨損(活性炭粉等)首段最嚴(yán)重正常到降低降低增加O型圈泄漏(內(nèi)連接管或適配器)無規(guī)則/通常進(jìn)水端適配器正常到降低正常到降低增加膜元件泄漏（運(yùn)行或備用時(shí)的產(chǎn)水背壓）末段最嚴(yán)重正常到降低正常到降低增加膜元件泄漏（清洗或沖洗時(shí)產(chǎn)水閥關(guān)閉）靠近產(chǎn)水閥膜元件增加（有污染且壓降高時(shí)）增加（有污染且壓降高時(shí)）增加 美國海德能公司推薦的常規(guī)清洗液介紹 污染物的種類及其影響污染物的種類以及發(fā)生污染時(shí)系統(tǒng)運(yùn)行的變化列在表3中。有時(shí)清洗液中加入洗滌劑以便去除微生物和有機(jī)污染物；有些加入螯合劑如EDTA，以便更好地去除膠體、有機(jī)物、微生物和硫酸鹽垢。一般來說，應(yīng)先采用高pH清洗液清洗油類和微生物污染，然后采用低pH清洗液清洗無機(jī)垢類或金屬氧化物污染。按反滲透進(jìn)水水質(zhì)判斷；可以使用的常規(guī)化學(xué)清洗藥劑請參見表4。不同污染物應(yīng)采用不同的清洗藥劑。 清洗藥劑的選擇除了采用濁度和SDI測定之外，顆粒計(jì)數(shù)器也可以精確衡量RO/NF進(jìn)水是否合格。用戶應(yīng)確保沒有過量的絮凝劑進(jìn)入到膜系統(tǒng)中。即使系統(tǒng)長期沒有發(fā)生污染，為了能夠更好的保證系統(tǒng)正常運(yùn)行，一般可考慮每6個(gè)月進(jìn)行
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