淺述蘭煉5萬標(biāo)米制氫裝置psa吸附時(shí)間的設(shè)定(編輯修改稿)
2025-05-28 05:06 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 T3 ）。 （ 2 ） T3 設(shè)定 T3 為一均時(shí)間（ T3 ≤ T1 ）， T3 的設(shè)定原則應(yīng)根據(jù)一均降吸附塔壓力降低至最小值時(shí)程控閥關(guān)閉為合適值。 T3 過小，一均降不能降到位，減少氫氣回收率； T3 過長，產(chǎn)品氫會(huì)回充一均降塔，也減少氫氣收率。 “ 923”程序時(shí)間設(shè)定原則 （ 3 ） T2 設(shè)定 T2 為二均時(shí)間和順放時(shí)間， T2 的最小值必須同時(shí)保證二均均等和順放完畢。 （ 4 ） 終升時(shí)間 FR 終升時(shí)間 FR 由兩部分組成，終升時(shí)間越長，則終升過程越平穩(wěn)，實(shí)際生產(chǎn)過程中應(yīng)滿足終升時(shí)間足夠。 “ 823”程序步序 步序 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 T 201A A A A A E1 D / E2 D E3 D PP /D D P P P E3 R E2 R E1 R / FR FR T 201B E3 R E2 R E1 R / FR FR A A A A E1 D / E2 D E3 D PP /D D P P P T 201C D P P P E3 R E2 R E1 R / FR FR A A A A E1 D / E2 D E3 D PP /D T 201D E1 D / E2 D E3 D PP /D D P P P E3 R E2 R E1 R / FR FR A A A A T 201E E1 R / FR FR A A A A E1 D / E2 D E3 D PP /D D P P P E3 R E2 R T 201F P P E3 R E2 R E1 R / FR FR A A A A E1 D / E2 D E3 D PP /D D P T 201G E3 D PP /D D P P P E3 R E2 R E1 R / FR FR A A A A E1 D / E2 D T 201H A A E1 D E2 D E3 D PP /D D P P P E3 R E2 R E1 R / FR FR A A “ 823”程序時(shí)間說明 吸附時(shí)間： A = （ T1+T2 ） 2 一均時(shí)間： E1D/E1R = T 3 二均時(shí)間： E2D/E2R = T 2 三均時(shí)間： E3D/E3R = T 1 順放時(shí)間： PP = T2 前段，此時(shí)順放主要由順放壓力控制。 逆放時(shí)間： D = T2 后段 +T1 沖洗時(shí)間： P = T2+T1+T 2 終升時(shí)間： FR = （ T1 T3 ） +T 2 “ 823”程序時(shí)間設(shè)定原則 當(dāng)（ T1+T2 ）確定以后，吸附時(shí)間 A 確定，主要探討如何分配 T1 、T2 、 T3 。 （ 1 ） T3 T3 為一均時(shí)間，設(shè)定原則仍然為一均降壓力降低至最低值為宜。 （ 2 ） T1 T1 須≥ T3 ，且保證三均能均等。 （ 3 ） T2 在保證 T1 ＞最小值情況下，應(yīng)盡量延長 T2 時(shí)間，因?yàn)檠娱L T2能延長沖洗時(shí)間，可以使吸附塔再生徹底且能減小解吸氣壓力波動(dòng)；T2 的最小值必須保證順放時(shí)間足夠，為吸附塔再生提供充足沖洗氣源。 “ 722”程序步序 步序 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 T 201A A A A A E1D / E2D PP D P P P E2R E1R /FR FR T 2 0 1 B P E2R E1R /FR FR A A A A E1D / E2
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