場地平整項(xiàng)目可行性研究報(bào)告(編輯修改稿)
2025-05-25 01:57 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 1~W9。挖方邊坡按綜合坡率1:，各邊坡形狀均為中部高，兩側(cè)漸低至場平標(biāo)高，W1~W9邊坡最高點(diǎn)高度依次為：36m、9m、15m、21m、34m、49m、16m、32m、80m。填方溝谷共計(jì)14個，從西北角開始逆時(shí)針編號為G1~G14，共計(jì)形成填方邊坡8個（場地東側(cè)G8~G14因深入場地內(nèi)，外側(cè)形成的邊坡已連為一體）。填方邊坡按綜合坡率1:2放坡考慮，采用強(qiáng)夯填筑，西側(cè)G1~G7邊坡坡形均為中部高，兩側(cè)漸低至場平標(biāo)高，東側(cè)邊坡由于地形起伏，形成多個高度極值點(diǎn)，最高點(diǎn)位于場地東北側(cè)。邊坡最高點(diǎn)高度依次為：54m（地形圖不全，尚未到底）、32m、62m、61m、51m、32m、22m、96m。由于場地平整而導(dǎo)致的挖土、填土工程量如下：挖運(yùn)土量2475萬m3（自然方）、回填夯實(shí)量975萬m3（夯實(shí)方）、（自然方）。:1考慮。 穩(wěn)定性分析 邊坡穩(wěn)定性目前尚無具體巖土設(shè)計(jì)參數(shù)，采用工程類比法，比照周邊幾個黃土區(qū)高挖填方工程，如：延安新區(qū)、呂梁機(jī)場、神頭二電廠、保德電廠等，確定挖方綜合坡率1:，填方綜合坡率1:2，應(yīng)能滿足穩(wěn)定性要求。根據(jù)挖方綜合坡率1:，填方綜合坡率1:2及穩(wěn)定性要求反算土體抗剪強(qiáng)度指標(biāo)如下：即：夯實(shí)填土與壓實(shí)填土強(qiáng)度指標(biāo)應(yīng)達(dá)到或高于上表值；原狀黃土強(qiáng)度指標(biāo)如達(dá)不到上表值，應(yīng)重新進(jìn)行穩(wěn)定性驗(yàn)算。 滑坡穩(wěn)定性場地東側(cè)G10~G14及G14以北一定范圍內(nèi)為滑坡。以場地東北角為例，根據(jù)目前勘察資料，滑坡后緣位于場地內(nèi)，距場地邊緣約100m，滑坡出口位于東側(cè)溝底，出口標(biāo)高約為溝底以下10m~15m。現(xiàn)狀滑坡處于穩(wěn)定狀態(tài)，根據(jù)現(xiàn)狀反算滑帶抗剪強(qiáng)度指標(biāo)為粘聚力15kPa，內(nèi)摩擦角10度。填方后填方體位于滑坡上部，對滑坡穩(wěn)定不利，滑坡將處于不穩(wěn)定狀態(tài)，需要采取措施?；轮卫砜刹扇」こ檀胧ㄈ缈够瑯?、格構(gòu)錨索等）或反壓措施。此處滑坡體及填方體體量巨大，工程措施難以奏效且造價(jià)昂貴，因此建議采用反壓坡腳措施，既可滿足滑坡穩(wěn)定條件，又可消耗一定棄方。反壓坡腳措施：根據(jù)反算滑帶抗剪強(qiáng)度指標(biāo)估算，東側(cè)溝填至標(biāo)高930m時(shí)，滑坡穩(wěn)定性可達(dá)到規(guī)范要求。6 邊坡初步設(shè)計(jì)方案 設(shè)計(jì)原則、經(jīng)濟(jì)合理、技術(shù)可行、方便施工：根據(jù)地質(zhì)情況、結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)要求并結(jié)合場地環(huán)境，按《建筑邊坡工程技術(shù)規(guī)范》（GB503302013），設(shè)計(jì)時(shí)按安全等級取為一級。：該邊坡為永久性邊坡，設(shè)計(jì)使用年限為50年。，設(shè)計(jì)地震分組為第三組。：根據(jù)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)各擬建建筑物荷載、廠區(qū)道路設(shè)計(jì)荷載等確定。：本工程執(zhí)行動態(tài)設(shè)計(jì)，信息化施工的原則，根據(jù)施工與監(jiān)測情況及時(shí)調(diào)整設(shè)計(jì)。 設(shè)計(jì)依據(jù)《建筑邊坡工程技術(shù)規(guī)范》（GB503302013）?！督ㄖ鼗幚砑夹g(shù)規(guī)范》（JGJ792012）；《建筑地基基礎(chǔ)工程施工質(zhì)量驗(yàn)收規(guī)范》（GB502022002）；《總平面圖》沈陽鋁鎂設(shè)計(jì)研究院；《中潤公司呂梁輕合金基地項(xiàng)目主廠房場平工程巖土工程勘察報(bào)告（專項(xiàng)可研階段）》山西省勘察設(shè)計(jì)研究院；《1:1000與1:10000地形圖》中潤公司提供。 初步設(shè)計(jì)方案 基礎(chǔ)方案（方案一）（1）填方邊坡填方邊坡總坡率1:2，單級邊坡高度6m，單級邊坡坡率1:，兩級邊坡之間分級平臺。坡面采用方格形截水骨架植物護(hù)坡。單級邊坡坡頂設(shè)護(hù)肩，坡底設(shè)護(hù)腳；分級平臺硬化。最下一級邊坡全坡面硬化，采用800厚漿砌片石。方格骨架、護(hù)肩、護(hù)腳及平臺硬化均采用漿砌片石。石料強(qiáng)度不低于MU30。坡面骨架網(wǎng)格內(nèi)可采用種草或其他輔助防護(hù)措施。草種應(yīng)根據(jù)氣候區(qū)劃進(jìn)行選型，要具有優(yōu)良的抗逆性，并采用兩種以上草種進(jìn)行混播。（2）挖方邊坡挖方邊坡總坡率1:，單級邊坡高度8m，單級邊坡坡率1:，兩級邊坡之間分級平臺。挖方邊坡坡面做法與填方邊坡相同。 基礎(chǔ)方案（方案一）圖（圖中灰色為現(xiàn)狀地形，綠色為挖方體，藍(lán)色為填方體）（3）存在的問題問題一：東側(cè)中南部填方邊坡與東側(cè)主溝關(guān)系問題東側(cè)中南部填方后，坡體掩埋了東側(cè)原有主溝，并與主溝東側(cè)山體形成新溝。新溝標(biāo)高遠(yuǎn)高于原溝標(biāo)高，且高低不平，阻擋了原溝兩側(cè)及其上游水流順溝向北排泄。最為嚴(yán)重的是G10處，原溝底深入場地以內(nèi)，填方后，坡體與對面坡體形成的新溝標(biāo)高達(dá)973m左右，即該點(diǎn)以南的新溝標(biāo)高需高于973m或在該處設(shè)置過水涵洞才能使水流排出。G10G10 填方邊坡與東側(cè)主溝關(guān)系圖問題二、G10以北的滑坡問題G10以北存在滑坡。問題三、棄方問題采取基礎(chǔ)方案后，開挖土方與回填土方未達(dá)到平衡，（自然方，*975=），需要尋找棄土場地棄置。以上問題在基礎(chǔ)方案中均未涉及，將在方案二~方案四中深入考慮，采取不通過方式解決。 方案二方案二在方案一的基礎(chǔ)上進(jìn)行優(yōu)化，如下圖所示。以G10為分界點(diǎn)。G10以南將主溝及其各支溝填平，填方標(biāo)高以G10出口處973m控制，向南按坡率3/1000升高。G10以北，將東側(cè)場地輪廓線外留80m寬平臺，標(biāo)高970m；平臺以外按1：3放坡處理。所有填方均采用強(qiáng)夯處理。 方案二圖（圖中灰色為現(xiàn)狀地形，藍(lán)色為填方體，紫色為填溝填方體）此方案解決了問題一，使原主溝匯水范圍內(nèi)的水流可以沿填方體表面自然向北側(cè)排泄，不存在阻水聚水問題。此方案未完全解決問題二，使滑坡穩(wěn)定系數(shù)提高（），但仍不能滿足規(guī)范要求，仍需反壓坡腳。此方案解決了問題三，使挖土與填土土方基本平衡，無棄方。 方案三方案三在方案一的基礎(chǔ)上進(jìn)行優(yōu)化，如下圖所示。以G10為分界點(diǎn)。G10以南將主溝及其各支溝填平，填方標(biāo)高以G10出口處973m控制，向南按坡率3/1000升高。G10以北將主溝填平，填方標(biāo)高以最北端940m控制，向南坡率3/1000升高。該部分填方體最北端標(biāo)高與原溝仍有60m高差，此處采用1:3放坡處理。所有填方均采用強(qiáng)夯處理。 方案三（填溝強(qiáng)夯）圖（圖中灰色為現(xiàn)狀地形，綠色為挖方體，藍(lán)色為填方體，紫色為填溝填方體）此方案解決了問題一，使原主溝匯水范圍內(nèi)的水流可以沿填方體表面自然向北側(cè)排泄，不存在阻水聚水問題。此方案解決問題二，填溝即為反壓坡腳，且標(biāo)高高于預(yù)估壓腳標(biāo)高930m，邊坡穩(wěn)定性滿足規(guī)范要求。此方案解決了問題三，使挖土與填土土方基本平衡，無棄方。 方案三（填溝筑壩）圖（圖中黃色為攔擋壩，紫色為棄土）如東側(cè)溝內(nèi)填方不采用強(qiáng)夯或壓實(shí)處理，應(yīng)按棄土場考慮，在北端設(shè)置攔擋壩；棄土與攔擋壩應(yīng)由有資質(zhì)的設(shè)計(jì)單位進(jìn)行專門設(shè)計(jì)。據(jù)估算，東側(cè)溝內(nèi)填方按棄土場考慮，比強(qiáng)夯處理可節(jié)約投資約5000萬元，而筑壩投資約2000萬元，綜合對比，按棄土考慮可比強(qiáng)夯處理節(jié)約投資約3000萬元。 方案四方案四將場平標(biāo)高986m調(diào)整為972m，挖方處按綜合坡率1:，填方處按綜合坡率1：2放坡處理。坡面、平臺分級、排水等處理方式與基礎(chǔ)方案（方案一）中的做法相同。場地南側(cè)主溝及其支溝填平，標(biāo)高以場地邊972m控制，向上游以3/1000坡率升高。G10以北主溝填平，標(biāo)高以G10處標(biāo)高972m控制，向
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