【總結】集成電路設計綜合技術SynthesisTechnologyforICDesign任課教師:周莉聯(lián)系電話:13006592410E-mail:QQ:12571094562教學目標?熟練掌握Verilog語法與RTL設計方法?熟練掌握綜合的基本概念?熟練掌握時序基本概念
2025-03-23 00:04
【總結】一、填空題(30分=1分*30)10題/章晶圓制備1.用來做芯片的高純硅被稱為(半導體級硅),英文簡稱(GSG),有時也被稱為(電子級硅)。2.單晶硅生長常用(CZ法)和(區(qū)熔法)兩種生長方式,生長后的單晶硅被稱為(硅錠)。3.晶圓的英文是(wafer),其常用的材料是(硅)和(鍺)。4.晶圓制
2025-03-26 05:14
【總結】集成電路CAD總學分:2上課學分:(24學時)實驗學分:(16學時)什么是集成電路CAD??ComputerAidedDesign?ComputerAidedDrafting?TodayweuseComputerAidedDraftingtoolstodraweachlayerofour
2025-08-01 14:45
【總結】集成電路工藝原理第四章光刻原理(上)1/34集成電路工藝原理仇志軍邯鄲校區(qū)物理樓435室集成電路工藝原理第四章光刻原理(上)2/34凈化的三個層次:上節(jié)課主要內容凈化級別高效凈化凈化的必要性器件:少子壽命?,VT改變,Ion?Ioff?,柵
2025-07-23 00:26
【總結】可行性研究報告2013-152/53第一章項目概論一、項目名稱及承辦單位1、項目名稱:集成電路封裝生產(chǎn)項目2、項目建設性質:新建3、項目承辦單位:****投資咨詢有限公司4、企業(yè)類型:有限責任公司二、項目可行性研究報告委托編制單位編制單位:****投資咨詢有限公司三、可行性研究的目的本可行性研究報告對
2025-05-11 12:07
【總結】1第八章雙極型集成電路2內容提要?集成電路制造工藝?電學隔離?pn結隔離集成電路工藝流程?IC中的元件結構與寄生效應?TTL門電路的工作原理和基本參數(shù)?TTL門電路的改進?雙極型數(shù)字電路的版圖設計3?集成電路設計與制造的主要流程框架設計
2025-01-14 10:46
【總結】求和運算電路積分和微分運算電路對數(shù)和指數(shù)運算電路模擬乘法器及其應用有源濾波器[引言]:運算電路是集成運算放大器的基本應用電路,它是集成運放的線性應用。討論的是模擬信號的加法、減法積分和微分、對數(shù)和反對數(shù)(指數(shù))、以及乘法和除法運算。為了分析方便,把運放均視為理想器件:
2025-05-04 18:03
【總結】19-6MOS工藝我們主要要了解各次光刻版的作用,為學習版圖設計打下基礎。(1)外延生長?外延生長為在單晶襯底(基片)上生長一層有一定要求的、與襯底晶向相同的單品層的方法。生長外延層有多種方法,但采用最多的是氣相外延工藝,常使用高頻感應爐加熱,襯底置于包有碳化硅、玻璃態(tài)石墨或熱分解石墨的高純石墨加熱體
2025-04-28 22:22
【總結】555定時器及其應用555定時器用555定時器組成施密特觸發(fā)器用555定時器組成單穩(wěn)態(tài)觸發(fā)器用555定時器組成多諧振蕩器555定時器是一種應用方便的中規(guī)模集成電路,廣泛用于信號的產(chǎn)生、變換、控制與檢測。555定時器及其應用電阻分壓器電壓比較器基本SR鎖存器輸出緩沖反相器
2025-05-05 18:18
【總結】集成電路工藝技術講座第十講CMOS集成電路工藝技術內容(一)CMOS工藝概述(二)2umP阱硅柵CMOSIC工藝流程(三)先進CMOSIC工藝(四)BiCMOS(五)功率MOSFET(六)BCD(一)CMOS工藝概述?MOSFET的開啟電壓?CMOS倒相器?CMOS結構中的阱?LOCOS技術MOSFE
2025-01-06 18:46
【總結】CMOS集成電路設計基礎-數(shù)字集成電路基礎對邏輯門的基本要求1)魯棒性(用靜態(tài)或穩(wěn)態(tài)行為來表示)靜態(tài)特性常常用電壓傳輸特性(VTC)來表示即輸出與輸入的關系),傳輸特性上具有一些重要的特征點。邏輯門的功能會因制造過程的差異而偏離設計的期望值。(2)噪聲容限:芯片內外的噪聲會使電路的響應偏離設計的期望值(電感、電容耦合,電源
2025-07-15 18:10
【總結】從沙子到芯片微電子技術?20世紀最偉大的技術?信息產(chǎn)業(yè)最重要的技術?進步最快的技術微電子技術應用芯片,現(xiàn)代社會的基石PDA:掌上電腦內存條手機計算機主板數(shù)碼相機?電子產(chǎn)品世界第一臺通用電子計算機ENIAC1946年2月14日在美國賓夕法
2025-01-07 03:31
【總結】第三章集成電路制造工藝第三章第三章§硅平面工藝§氧化絕緣層工藝§擴散摻雜工藝§光刻工藝§掩模制版技術§外延生長工藝§金屬層制備工藝§
2025-04-30 13:59
【總結】2022年5月28日星期六集成電路原理及應用能源工程學院1第8章語音和圖像集成電路收音機集成電路語音集成電路功放集成電路電視機及圖像處理集成電路家庭影院集成電路2022年5月28日星期六集成電路原理及應用能源工程學院2收音機集成電路收音
2025-04-30 12:02
【總結】集成電路工藝原理復旦大學微電子研究院於偉峰SemiconductorVLSIProcessPrinciple半導體集成電路工藝原理2第四章擴散(Diffusion)§引言§擴散機理§擴散方程及其解§影響雜質分布的其他因素§
2025-01-18 20:36