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正文內(nèi)容

電池制造工藝硅片的化學(xué)腐蝕(編輯修改稿)

2025-02-12 19:42 本頁面
 

【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 ( H2SiF6) 反應(yīng)中間產(chǎn)物 HF/HNO3體系的緩沖添加劑選擇條件? ? 在 HF/HNO3中化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定 ? 在腐蝕過程中,不會(huì)與反應(yīng)產(chǎn)物發(fā)生進(jìn)一步反應(yīng) ? 可溶解在 HF/HNO3之中 ? 可以濕化晶片表面 ? 不會(huì)產(chǎn)生化學(xué)泡沫 堿性腐蝕的原理是什么? ? 常用的堿性腐蝕化學(xué)藥品為 KOH或 NaOH,其腐蝕的機(jī)理為: Si+2KOH+H2O ?K2SiO3+2H2↑ 堿腐蝕速率影響因素? ? 表面懸掛鍵密度,與晶向有關(guān) ? 化學(xué)濃度 ? 溫度 ? 表面機(jī)械損傷 硅片在化學(xué)腐蝕后的表面特性? ? TTV( Total Thickness Variation) ? TIR( Total Indicator Reading) ? 粗糙度
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