【總結(jié)】華?僑?大?學(xué)?專?用?集?成?電?路?系?統(tǒng)?實(shí)?驗(yàn)?室?IC設(shè)計(jì)基礎(chǔ)EDAC華僑大學(xué)電子工程電系2022年華?僑?大?學(xué)?專?用?集?成?電?路?系?統(tǒng)?實(shí)?驗(yàn)?室?2022/2/42第3章IC制造工藝
2025-01-08 15:42
【總結(jié)】CMOS集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)-數(shù)字集成電路基礎(chǔ)對(duì)邏輯門的基本要求1)魯棒性(用靜態(tài)或穩(wěn)態(tài)行為來(lái)表示)靜態(tài)特性常常用電壓傳輸特性(VTC)來(lái)表示即輸出與輸入的關(guān)系),傳輸特性上具有一些重要的特征點(diǎn)。邏輯門的功能會(huì)因制造過(guò)程的差異而偏離設(shè)計(jì)的期望值。(2)噪聲容限:芯片內(nèi)外的噪聲會(huì)使電路的響應(yīng)偏離設(shè)計(jì)的期望值(電感、電容耦合,電源
2025-07-15 18:10
【總結(jié)】Spectre/Virtuoso/Calibre工具使用介紹2023/3/241共88頁(yè)模擬集成電路的設(shè)計(jì)流程(spectre)(virtuoso)(DRCLVS)(calibre)(calibre)(spectre)(gdsii)全定制2023/3/
2025-03-05 06:15
【總結(jié)】集成電路設(shè)計(jì)北京大學(xué)?集成電路設(shè)計(jì)與制造的主要流程框架設(shè)計(jì)芯片檢測(cè)單晶、外延材料掩膜版芯片制造過(guò)程封裝測(cè)試系統(tǒng)需求集成電路的設(shè)計(jì)過(guò)程:設(shè)計(jì)創(chuàng)意+仿真驗(yàn)證集成電路芯片設(shè)計(jì)過(guò)程框架
2025-01-07 01:55
【總結(jié)】審定成績(jī):序號(hào):25自動(dòng)控制原理課程設(shè)計(jì)報(bào)告題目:集成電路設(shè)計(jì)認(rèn)識(shí)學(xué)生姓名顏平班級(jí)0803院別物理與電子學(xué)院專業(yè)電子科學(xué)與技術(shù)學(xué)號(hào)14072500125指導(dǎo)老師易立華設(shè)計(jì)時(shí)間。15
2025-01-17 03:13
【總結(jié)】2022/2/4共88頁(yè)1Hspice/Spectre介紹羅豪2022/2/4共88頁(yè)2模擬集成電路的設(shè)計(jì)流程(DRCLVS)全定制2022/2/4共88頁(yè)3各種仿真器簡(jiǎn)介?SPICE:由UCBerkeley開(kāi)發(fā)。用于非線性
2025-01-08 15:09
【總結(jié)】第三章集成電路制造工藝第三章第三章§硅平面工藝§氧化絕緣層工藝§擴(kuò)散摻雜工藝§光刻工藝§掩模制版技術(shù)§外延生長(zhǎng)工藝§金屬層制備工藝§
2025-04-30 13:59
【總結(jié)】第四章集成電路制造工藝?集成電路設(shè)計(jì)與制造的主要流程框架設(shè)計(jì)芯片檢測(cè)單晶、外延材料掩膜版芯片制造過(guò)程封裝測(cè)試系統(tǒng)需求集成電路的設(shè)計(jì)過(guò)程:設(shè)計(jì)創(chuàng)意+仿真驗(yàn)證集成電路芯片設(shè)計(jì)過(guò)程框架From吉利久教授
2025-05-07 07:17
【總結(jié)】集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)第十章基本數(shù)字集成電路設(shè)計(jì)(補(bǔ)充)華南理工大學(xué)電子與信息學(xué)院廣州集成電路設(shè)計(jì)中心殷瑞祥教授基本數(shù)字集成電路設(shè)計(jì)(補(bǔ)充)?靜態(tài)傳輸邏輯設(shè)計(jì)?靜態(tài)恢復(fù)邏輯設(shè)計(jì)?動(dòng)態(tài)恢復(fù)邏輯設(shè)計(jì)?時(shí)序電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)第十章基本數(shù)字集成電路設(shè)計(jì)(補(bǔ)充)CMOS靜態(tài)傳輸邏輯設(shè)計(jì)
2025-01-08 14:24
【總結(jié)】1第7章組合邏輯電路P90集成電路設(shè)計(jì)系列2本章概要?概述?靜態(tài)CMOS電路?鏡像電路?C2MOS?準(zhǔn)nMOS電路?動(dòng)態(tài)CMOS電路?多米諾邏輯?雙軌邏輯電路?CMOS邏輯電路的比較?多路選擇器?二進(jìn)制譯碼器?優(yōu)先權(quán)譯碼器3
2025-08-15 23:59
【總結(jié)】55/55PLD設(shè)計(jì)問(wèn)答1.?答:SCF文件是MAXPLUSII的仿真文件,可以在MP2中新建.1.用Altera_Cpld作了一個(gè)186(主CPU)控制sdram的控制接口,發(fā)現(xiàn)問(wèn)題:要使得sdram讀寫(xiě)正確,必須把186(主CPU)的clk送給sdram,而不能把clk經(jīng)cpld的延時(shí)送給sdram.兩者相差僅僅4ns.而時(shí)序通過(guò)邏輯分析儀
2025-07-09 12:48
【總結(jié)】半導(dǎo)體集成電路MOS集成電路的基本制造工藝半導(dǎo)體集成電路半導(dǎo)體集成電路?CMOS工藝技術(shù)是當(dāng)代VLSI工藝的主流工藝技術(shù),它是在PMOS與NMOS工藝基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的。其特點(diǎn)是將NMOS器件與PMOS器件同時(shí)制作在同一硅襯底上。?CMOS工藝技術(shù)一般可分為三類,即?P阱CMOS工藝?
2025-07-25 19:09
【總結(jié)】半導(dǎo)體集成電路2.雙極集成電路中元件結(jié)構(gòu)2022/5/24pn+n-epin+P-Sin+-BLCBESP+P+雙極集成電路的基本工藝2022/5/24P-SiTepiCBEpn+n-epin+P-SiP+P+Sn+-
2025-04-26 12:59
【總結(jié)】集成電路分析與設(shè)計(jì)第一章集成電路基本制造工藝本章概要?雙極工藝流程?CMOS工藝流程?CMOS先進(jìn)工藝?BiCMOS工藝流程?無(wú)源器件雙極工藝流程典型NPN管剖面圖雙極工藝流程襯底選擇(1)襯底選擇對(duì)于典型的PN結(jié)隔離雙極集成電路,襯底一
2025-01-07 01:53
【總結(jié)】第二章制造工藝本章分為四部分:紫外線光掩模版光刻膠可進(jìn)行摻雜,離子注入,擴(kuò)散等工藝n版圖是集成電路從設(shè)計(jì)走向制造的橋梁,它包含了集成電路尺寸、各層拓?fù)涠x等器件相關(guān)的物理信息數(shù)據(jù)。n版圖(Layout)集成電路制造廠家根據(jù)這些數(shù)據(jù)來(lái)制造掩膜。掩模版的作用n掩膜上的圖形決定著芯片上器件或連接物理層的尺寸
2025-01-23 10:42