【總結(jié)】TJIC數(shù)字集成電路天津大學(xué)電子科學(xué)與技術(shù)系史再峰1TJU.ASICCenter-ArnoldShi選用教材??電子工業(yè)出版社,Jan,周潤(rùn)德翻譯?ISBN7-121-00383-X/定價(jià),蔚藍(lán)定價(jià),亞馬遜
2025-01-18 16:26
【總結(jié)】數(shù)字邏輯與數(shù)字集成電路(第2版)清華大學(xué)計(jì)算機(jī)系列教材王爾乾楊士強(qiáng)巴林風(fēng)編著數(shù)字邏輯(2022級(jí)本科生課程)清華大學(xué)計(jì)算機(jī)系楊士強(qiáng)趙有建引言?“數(shù)字邏輯”課程的地位?數(shù)字與邏輯?數(shù)字與模擬?數(shù)字邏輯領(lǐng)域
2025-08-04 16:25
【總結(jié)】集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)第九章數(shù)字集成電路基本單元華南理工大學(xué)電子與信息學(xué)院廣州集成電路設(shè)計(jì)中心殷瑞祥教授第九章數(shù)字集成電路基本單元與版圖TTL基本電路CMOS基本門(mén)電路及版圖實(shí)現(xiàn)數(shù)字電路標(biāo)準(zhǔn)單元庫(kù)設(shè)計(jì)焊盤(pán)輸入輸出單元了解CMOS存儲(chǔ)器2TTL
2025-04-30 23:56
【總結(jié)】2011年紹興文理學(xué)院校大學(xué)生電子設(shè)計(jì)競(jìng)賽數(shù)字集成電路測(cè)試儀參賽組別小組成員2011年6月5日目錄一、任務(wù) 2二、方案設(shè)計(jì)與論證比較 2 2 3 3 3三
2025-03-25 05:04
【總結(jié)】第七章動(dòng)態(tài)CMOS邏輯電路?動(dòng)態(tài)邏輯電路的特點(diǎn)?預(yù)充─求值的動(dòng)態(tài)CMOS電路?多米諾CMOS電路?時(shí)鐘同步CMOS電路靜態(tài)電路vs.動(dòng)態(tài)電路動(dòng)態(tài)電路是指電路中的一個(gè)或多個(gè)節(jié)點(diǎn)的值是由存儲(chǔ)在電容上的電荷來(lái)決定的;靜態(tài)電路是指電路的所有節(jié)點(diǎn)都有到地或到
2025-08-05 07:19
【總結(jié)】集成電路版圖設(shè)計(jì)與驗(yàn)證第三章集成電路制造工藝?雙極集成電路最主要的應(yīng)用領(lǐng)域是模擬和超高速集成電路。?每個(gè)晶體管之間必須在電學(xué)上相互隔離開(kāi),以防止器件之間的相互影響。?下圖為采用場(chǎng)氧化層隔離技術(shù)制造的NPN晶體管的截面圖,制作這種結(jié)構(gòu)晶體管的簡(jiǎn)要工藝流程如下所示:?(1)原始材料選?。褐谱鱊
2025-01-06 18:43
【總結(jié)】數(shù)字集成電路前端設(shè)計(jì)就業(yè)班第四期招生簡(jiǎn)章課程代碼:DJYB004?課程簡(jiǎn)介北京第五日IC設(shè)計(jì)培訓(xùn)中心獨(dú)家推出數(shù)字集成電路前端設(shè)計(jì)就業(yè)班,在最短的時(shí)間里讓學(xué)員學(xué)習(xí)數(shù)字IC設(shè)計(jì)流程,設(shè)計(jì)方法,常用EDA工具,更以實(shí)際專題項(xiàng)目帶領(lǐng)學(xué)員完成一個(gè)從最初的設(shè)計(jì)規(guī)范到門(mén)級(jí)網(wǎng)表實(shí)現(xiàn)的整個(gè)前端設(shè)計(jì)流程,手把手帶領(lǐng)學(xué)員完成實(shí)際項(xiàng)目作品,使學(xué)員在領(lǐng)會(huì)IC設(shè)計(jì)知識(shí)的同時(shí)具備IC設(shè)計(jì)經(jīng)驗(yàn),
2025-06-17 06:40
【總結(jié)】1/36數(shù)字集成電路課程設(shè)計(jì)題目:4bits超前加法進(jìn)位器的全定制設(shè)計(jì)姓名:席高照學(xué)號(hào):111000833學(xué)院:物理與信息工程學(xué)院專業(yè):微電子(卓越班)年級(jí):2022級(jí)
2025-07-20 04:27
【總結(jié)】目錄簡(jiǎn)易數(shù)字集成電路測(cè)試儀的設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)畢業(yè)論文目錄摘要 IABSTRACT III1緒論 1課題的研究背景及意義 1國(guó)內(nèi)外數(shù)字電路測(cè)試系統(tǒng)現(xiàn)狀 1本設(shè)計(jì)所要解決的主要問(wèn)題 3研究?jī)?nèi)容和章節(jié)安排 32測(cè)試儀的總體方案 5測(cè)試儀的方案選擇 5總體方案構(gòu)成 6硬件組成 7軟件任務(wù) 73硬件系統(tǒng)設(shè)計(jì) 9
2025-07-27 07:17
【總結(jié)】TJICTJU.ASICCenter-ArnoldShi1數(shù)字集成電路天津大學(xué)電子科學(xué)與技術(shù)系史再峰TJU.ASICCenter-ArnoldShi2選用教材??電子工業(yè)出版社,Jan,周潤(rùn)德翻譯?ISBN7-121-00
2025-01-18 17:13
【總結(jié)】數(shù)字集成電路設(shè)計(jì)入門(mén)從HDL到版圖于敦山北大微電子學(xué)系課程內(nèi)容(一)?介紹VerilogHDL,內(nèi)容包括:–Verilog應(yīng)用–Verilog語(yǔ)言的構(gòu)成元素–結(jié)構(gòu)級(jí)描述及仿真–行為級(jí)描述及仿真–延時(shí)的特點(diǎn)及說(shuō)
2025-07-19 17:39
【總結(jié)】復(fù)習(xí)1.高溫氧化工藝硅的熱氧化硅的熱氧化是指在高溫下,硅片表面同氧氣或水進(jìn)行反應(yīng),生成SiO2。硅的熱氧化有:干氧、濕氧、水汽氧化三種。如果氧化前已存在厚度為t0的氧化層,則(3-11)微分方程的解為:(tOX:是總的氧化層厚度)??????tBAttO
【總結(jié)】第三章集成電路制造工藝第三章第三章§硅平面工藝§氧化絕緣層工藝§擴(kuò)散摻雜工藝§光刻工藝§掩模制版技術(shù)§外延生長(zhǎng)工藝§金屬層制備工藝§
2025-04-30 13:59
【總結(jié)】第6章CMOS集成電路制造工藝第6章CMOS集成電路制造工藝?CMOS工藝?CMOS版圖設(shè)計(jì)?封裝技術(shù)3木版年畫(huà)?畫(huà)稿?刻版?套色印刷4半導(dǎo)體芯片制作過(guò)程5硅片(wafer)的制作6掩模版(mask,reticle)的制作7外延襯底的制作8集成電路加工的基本操作?1、形成薄膜
2025-02-09 20:38
【總結(jié)】國(guó)際微電子中心集成電路設(shè)計(jì)原理1第一章集成電路制造工藝流程集成電路(IntegratedCircuit)制造工藝是集成電路實(shí)現(xiàn)的手段,也是集成電路設(shè)計(jì)的基礎(chǔ)。國(guó)際微電子中心集成電路設(shè)計(jì)原理2?隨著集成電路發(fā)展的過(guò)程,其發(fā)展的總趨勢(shì)是革新工藝、提高集成度和速度。?設(shè)計(jì)工作由有生產(chǎn)線集成
2025-01-06 18:34