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正文內(nèi)容

基于文檔結(jié)構(gòu)特征的碎紙片拼接復(fù)原畢業(yè)論文模板(編輯修改稿)

2025-07-03 14:38 本頁面
 

【文章內(nèi)容簡介】 行預(yù)處理,將圖片上的信息處理成便于計(jì)算機(jī)識(shí)別的值,并依次對(duì)碎片進(jìn)行相應(yīng)的自動(dòng)或半自動(dòng)拼接復(fù)原.現(xiàn)有方法大多為針對(duì)手撕碎片的拼接復(fù)原,通過計(jì)算機(jī)識(shí)別其邊緣輪廓進(jìn)行拼接,但當(dāng)碎片數(shù)量龐大且碎片邊緣輪廓相似 或由碎紙機(jī)絞碎后的紙片時(shí), 輪廓識(shí)別方法則變得不再可行. 本文結(jié)合筆畫的連續(xù)性、光滑性等文字特點(diǎn)及 字高、字寬 、行間距等 文 檔 結(jié)構(gòu)特征 設(shè)計(jì)關(guān)于規(guī)則碎紙 片的高效率復(fù)原方法. 2 問題分析 二 值處 理匹 配 度 計(jì)算結(jié) 構(gòu) 控 制校 正 匹 配 度拼 接準(zhǔn) 確 性 檢驗(yàn)紙 片復(fù) 原 圖 1 碎片的拼接復(fù)原 碎片的拼接復(fù)原過程可由上述流程圖表示:首先,對(duì)所給碎片進(jìn)行二值化處理,將文字圖像轉(zhuǎn)化為便于計(jì)算機(jī)識(shí)別的 01 值; 接著 , 根據(jù)文字特征 進(jìn)行邊緣像素點(diǎn)的匹配度計(jì)算;再由文字行間距、字間距、字高和字寬相似等 文檔 特征 校正匹配度;然后,以碎片間的最大匹配度為目標(biāo)建立優(yōu)化模型;之后,設(shè)計(jì) 貪心算法 以 每次尋求最優(yōu)解的思想,選擇與碎片邊緣匹配度最高的另一碎片進(jìn)行拼接,在拼接過程中可對(duì)結(jié)果的準(zhǔn)確性進(jìn)行檢驗(yàn) (可配合人工 檢驗(yàn) ),若檢驗(yàn)不通過,則找出錯(cuò)誤拼接碎片重新拼接,最后,所有碎片拼接完成,得到文件的復(fù)原圖. 邊緣像素點(diǎn)匹配 ( 小四號(hào)黑體不加粗 ) (二級(jí)標(biāo)題小四號(hào)黑體不加粗,段前斷后不空行.) 由文字內(nèi)部特征和書寫習(xí)慣可知,文字文件為橫向書寫,每一文字的所有筆畫均連續(xù)且外邊緣像素點(diǎn)圍成封閉圖形.因此,通過構(gòu)造匹配度函數(shù),計(jì)算任意兩碎片邊緣的文字匹配度,便可清楚地反映出這兩條碎片是否能夠正確拼接. 匹配度的計(jì)算方法并不唯一,由筆畫的連續(xù)性:若被切割的兩張碎片邊緣同一水平內(nèi)江師范學(xué)院本科畢業(yè)論文 3 線上 的像素點(diǎn)灰度值相同,則兩像素點(diǎn)可能相匹配,即可能同屬于 文字的一個(gè)筆畫,這樣便可通過統(tǒng)計(jì)匹配像素點(diǎn)個(gè)數(shù)來刻畫匹配度;由筆畫的光滑性:同一筆畫的外邊緣像素點(diǎn)構(gòu)成一個(gè)封閉的光滑曲線,因此可以連接碎片邊緣任意兩像素點(diǎn),統(tǒng)計(jì)其中能構(gòu)成圈,且內(nèi)部有像素點(diǎn)填充的個(gè)數(shù),以此來刻畫碎片邊緣的匹配度;綜合筆畫的連續(xù)性和光滑性: 若兩碎片邊緣 像素點(diǎn)斜率相同,則表示像素點(diǎn)走向一致,同屬于一個(gè)筆畫. 以下內(nèi)容省略 ?? . 3 數(shù)據(jù)預(yù)處理 ( 1) 讀取灰度值 由于題目所給原始圖片不便于計(jì)算機(jī)識(shí)別,在計(jì)算匹配度之前需要對(duì)圖片進(jìn)行預(yù)處理.本文在 , 內(nèi)存, 20xx 版本的硬件環(huán)境和 的軟件環(huán)境下利用 Imread 命令將附件中的所有圖片讀取為灰度矩陣,矩陣中的值為 0~255 的數(shù). ( 2) 二值化處理 對(duì)灰度矩陣進(jìn)行二值化處理:即在灰度矩陣中將值大于 220 的像素點(diǎn)賦值為 1,小于 220 的像素點(diǎn)賦值為 0,則經(jīng)二值化處理后的圖片空白處像素點(diǎn)灰度值為 0,文字處像素點(diǎn)灰度值為 1. 4 基于像素點(diǎn) 覆蓋 的匹配度計(jì)算方法 橫一匹配 (1) 基本原理 根據(jù)文字筆畫的連續(xù)性,對(duì)經(jīng)過二值化處理后的任意兩張碎片,可比較一張碎片左邊緣(上邊緣)與另一張碎片右邊緣(下邊緣)像素點(diǎn)的灰度值.若同一水平線上(同一垂直線上)的 灰度值相等,則認(rèn)為像素點(diǎn)可能相匹配 [3],即碎片邊緣的像素點(diǎn)可能為同一筆畫內(nèi)的像素點(diǎn),匹配過程見圖 2. p = 0p = 0p = 0p = 1p = 0p = 1p = 1p = 1 圖 2 橫一匹配過程示意圖 圖 2 中, P 表示同一水平線上的像素點(diǎn)灰度值是否相匹配,其值為 1 代表像素點(diǎn)能內(nèi)江師范學(xué)院本科畢業(yè)論文 4 匹配,值為 0 代表不能匹配. (2) 匹配度計(jì)算模型 由橫一匹配原理,引入匹配度 P 來刻畫碎片邊緣之間的匹配程度,將待匹配的兩張碎片邊緣灰度值作差,相匹配的像素點(diǎn)坐標(biāo)灰度差值為 0,不匹配的像素點(diǎn)坐標(biāo)灰度差值絕對(duì)值為 1,則任意兩張碎片的邊緣匹配度 ijP 為: 1 (1 ( ) ( ) )mij i jkP E k E k?? ? ?? (1) (1)式中 ijP 為任意第 i 張碎片和第 j 張碎片的邊緣匹配度, ()iEk為第 i 張碎片邊緣的第 k 個(gè)像素點(diǎn)坐標(biāo)灰度值. 針對(duì)左右拼接的情況,匹配度可進(jìn)一步表示為: 1 (1 ( ) ( ) )mij ir jlkP E k E k?? ? ?? 1 (1 ( ) ( ) )mji il jrkP E k E k?? ? ?? 其中 ijP 表示第 i 張碎片的右邊緣和第 j 張碎片的左邊緣拼接的匹配度, ()irEk表示第i 張碎片右邊緣第 k 個(gè)像素點(diǎn)坐標(biāo)灰度值, ()jlEk表示第 j 張碎片左邊緣第 k 個(gè)像素點(diǎn)坐標(biāo)灰度值.類似地, jiP 表示第 j 張碎片右邊緣和第 i 張碎片左邊緣拼接的匹配度, ()ilEk表示第 i 張碎片左邊緣第 k 個(gè)像素點(diǎn)坐標(biāo)灰度值, ()jrEk表示第 j 張碎片右邊緣第 k 個(gè)像素點(diǎn)坐標(biāo)灰度值. 同理,上下邊緣拼接的匹配度可表示為: 1 (1 ( ) ( ) )mij id jukQ E k E k?? ? ?? 1 (1 ( ) ( ) )mji iu jdkQ E k E k?? ? ?? 其中, ijQ 為碎片 i 下邊緣與碎片 j 上邊緣的匹配度, jiQ 為碎片 j 下邊緣與碎片 i 上邊緣的匹配度, u 代表上邊緣, d 代表下邊緣. 以下內(nèi)容省略 ?? 方向場(chǎng)匹配 (1) 基本原理 由文字筆畫的連續(xù)性可知筆畫的外邊緣輪廓線也是光滑的,為描述筆畫外邊緣輪廓線的光滑性,引入斜率的概念,若邊緣上相匹配的像素點(diǎn)有相同的斜率(如圖 3 中 b 若12kk? ,表示有相同的斜率 ),則認(rèn)為該組像素點(diǎn)屬于同一筆畫. 內(nèi)江師范學(xué)院本科畢業(yè)論文 5 DCBA 圖 3 方向場(chǎng)匹配過程示意圖 在判斷斜率是否相同之前首先應(yīng)判斷像素點(diǎn)是否匹配,如圖 3 中像素點(diǎn) A 分別與對(duì)應(yīng)碎片的像素點(diǎn) B C D、 、 的灰度值進(jìn)行比較,只有在灰度值相同的情況下,才進(jìn)一步計(jì)算兩對(duì)應(yīng)像素點(diǎn)的斜率,如在圖 3 中僅判斷 A 點(diǎn)斜率與 ,BC點(diǎn)的斜率是否相同. 以下內(nèi)容省略 ?? 5 碎紙片拼接復(fù)原模型的建立 縱切碎片的單一橫向拼接 建模思路 匹配度形象的反映了碎片拼接時(shí)的契合程度,因此可利用匹配度的高低表示碎片拼接復(fù)原的效果.哈密頓通路是經(jīng)過圖中所有頂點(diǎn)一次且僅一次的通路,而碎片的拼接復(fù)原過程就是根據(jù)起始碎片與其余各碎片的匹配度將其依次排列的過程,則以碎片為點(diǎn),碎片之間的匹配度為邊的權(quán)值,縱切碎片的拼接復(fù)原問題可轉(zhuǎn)化為尋找該有向完全圖的哈密頓通路問題. 始末碎片 根據(jù)書寫或打印規(guī)律,縱切碎片的左右邊緣有空白列,即灰度值全為 0.則可將左邊緣灰度值全為 0 的碎片作為候選的起始碎片,右邊緣灰度值全為 0 的碎片作為候選的末尾碎片,當(dāng)根據(jù)灰度值全為 1 的原則選擇始末碎片時(shí),可分為兩種情況: (1) 若邊緣灰度值全為 0 的碎片恰為兩片,則分別以這兩片為始末碎片; (2) 若邊緣灰度值全為 0 的碎片超過兩片,則將始末碎片兩兩組合,并選出所有組合進(jìn)行拼接復(fù)原,得到多個(gè)復(fù)原結(jié)果; 特別地,若縱切碎片的邊緣無空白列,即無灰度值全為 0 的邊緣,則選擇左邊緣與其他碎片邊緣匹配度總和最低的碎片為起始碎片,選擇右邊緣與 其他碎片邊緣匹配度總和最低的碎片為末尾碎片.若匹配度最低的碎片有兩片以上,仍采取兩兩組合的方式. 模型建立 假設(shè)文件僅為完全縱向切割,以碎片為點(diǎn),碎片之間的匹配度為邊的權(quán)值建立有向a b 內(nèi)江師范學(xué)院本科畢業(yè)論文 6 完全圖 ( , )G V E? ,如圖 7 所示: DECBA 圖 8 以碎片為頂點(diǎn)的有向完全圖 其中 {1,2,...,
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