半導(dǎo)體制程簡(jiǎn)介(ppt61)-經(jīng)營(yíng)管理(編輯修改稿)
2024-09-20 14:07 本頁(yè)面
【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 化學(xué)氣相沉積 (a)氣體擴(kuò)散 (b)反應(yīng)物被吸附 (c)化學(xué)反應(yīng)與沉積 (d)未參與物脫離 (e)未參與物抽離 主氣流 介面邊界層 微影製程 (Photolithography) 去水烘烤 去除光阻 光阻塗佈 軟烤 曝光 曝光後烘烤 顯影 硬烤 光阻 ◆ 光阻材料及作用 ?樹脂 : 黏合劑 ?感光材料 : 光活性強(qiáng)之化合物 ?溶劑 : 使光阻以液體方式存在 ◆ 分類 : ?正光阻 :遇光溶於顯影劑 ?負(fù)光阻 :產(chǎn)生鏈結(jié) ,使結(jié)構(gòu)增強(qiáng) ,不溶於顯影劑 光阻塗佈 曝光 ◆ 接觸式曝光 : ?解析度好 ,但光罩易被污染 ◆ 近接式曝光 : ?光罩不被污染 ,但解析度降低 ◆ 投影式曝光 : ?解析度佳 ,且光罩不被污染 ,目前工業(yè)所用 光罩 曝光概念圖 晶座 晶片 光罩 接觸式 鏡子 光源 過(guò)濾器 聚集鏡片 光罩 縮影鏡片 晶片 投影式 蝕刻 (Etching) ◆ 目的 : 除去微影製程中沒(méi)被光阻覆蓋部份的薄膜 ◆ 蝕刻技術(shù) : ?乾式蝕刻 ?濕式蝕刻 底材 薄膜 光阻 摻雜 (Doping) ◆ 目的 : 增加導(dǎo)電性 ?如 N型半導(dǎo)體加入砷離子 ,P型半導(dǎo)體加入硼離子 ◆ 常用方法 ?擴(kuò)散法 ?離子植入法 加速器 離子植入機(jī) 離子束 晶片 離子植入法示意圖 IC製程簡(jiǎn)圖 (一 ) 晶圓 二氧化矽 (SiO2) 光阻(Photoresist) 氧化反應(yīng) ,薄膜沉積 及光阻塗佈 薄膜(Si3N4) 晶圓 光罩 曝光 (A) (B) IC製程簡(jiǎn)圖 (二 ) 晶圓 晶圓 二氧化矽 已顯影光阻 蝕刻 去除光阻 顯影 離子植入 晶圓 參雜物 薄膜 晶圓 (C) (D) (E) (F) IC製程簡(jiǎn)圖 (三 ) 金屬沉積 微影製程 金屬蝕刻 去除光阻 晶圓 晶圓 晶圓 晶圓 (G) (H) (I) (J) 金屬層 晶圓針測(cè)示意圖 探針卡 針測(cè)機(jī) 晶圓針測(cè)流程圖 晶圓生產(chǎn) Wafer processing 封裝 Packaging 晶圓針測(cè) Circuit Probing 1 晶圓針測(cè) Circuit Probing 2 雷射修補(bǔ) L
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