光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑(存儲版)
【正文】 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 三、化學(xué)增幅抗蝕劑 ●成膜樹脂 —— 248nm ：聚對羥基苯乙烯及其衍生物； 193nm : 聚酯環(huán)族丙烯酸酯及其共聚物； 改變極性基團(tuán) —— 提供可粘性 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 三、化學(xué)增幅抗蝕劑 ●成膜樹脂 —— 改變酸敏部分：提供成像能力和抗蝕性 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 三、化學(xué)增幅抗蝕劑 ●成膜樹脂 —— 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 三、化學(xué)增幅抗蝕劑 ●光致產(chǎn)酸劑 —— 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 三、化學(xué)增幅抗蝕劑 ●光致產(chǎn)酸劑 —— 苯環(huán)被稠環(huán)替代； 產(chǎn)酸效率 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 三、化學(xué)增幅抗蝕劑 ●抗蝕劑的配制工藝 配方（ 1）組成： 成膜樹脂 100% N羥基馬來海松酸酰亞胺磺酸酯產(chǎn)酸劑 5% 乙二醇單乙醚 適量 制作工藝：將配方量的成膜樹脂和產(chǎn)酸劑加入計算量的乙二醇單乙醚中，攪拌溶解為溶液。 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 三、化學(xué)增幅抗蝕劑 ★光致抗?jié)駝┑男阅軝z測 —— 以成膜樹脂為例： ●熱穩(wěn)定性與耐熱性： DSC測試； TDA測試玻璃化溫度； ●溶解性與堿溶性：顯影功能測試（按上述工藝成膜顯影）； ●成膜性與機(jī)械強(qiáng)度：膜厚，粘附力，機(jī)械強(qiáng)度測試；TFA等測厚儀； ●微顆粒檢測： ； ●金屬離子檢測：電感耦合等離子質(zhì)譜； ●微量水分：微量水分測定儀 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 四、提高分辨率的途徑 瑞利方程 R= K1λ/NA 式中 —— R；分辨率； K1：工藝因子； λ:曝光波的波長或稱工作波長； NA：光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑?！?. 新的透鏡材料；難找到對光波不吸收的材料 更高數(shù)字孔徑光學(xué)系統(tǒng)：難以加工 ●光學(xué)投影曝光波長平板印刷的極限： —— 193nm的極限分辨率： μm —— 157nm的極限分辨率： μm ●下一代光刻技術(shù)（ next generation lithography):x射線；極紫外；電子束；離子束投影光刻 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 結(jié)束語 ● 我們面對著一門龐大的化工產(chǎn)業(yè)：超凈高純電子化學(xué)品 它包括 —— 抗蝕劑或光刻膠；
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