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正文內(nèi)容

光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑(存儲(chǔ)版)

  

【正文】 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 三、化學(xué)增幅抗蝕劑 ●成膜樹脂 —— 248nm :聚對(duì)羥基苯乙烯及其衍生物; 193nm : 聚酯環(huán)族丙烯酸酯及其共聚物; 改變極性基團(tuán) —— 提供可粘性 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 三、化學(xué)增幅抗蝕劑 ●成膜樹脂 —— 改變酸敏部分:提供成像能力和抗蝕性 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 三、化學(xué)增幅抗蝕劑 ●成膜樹脂 —— 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 三、化學(xué)增幅抗蝕劑 ●光致產(chǎn)酸劑 —— 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 三、化學(xué)增幅抗蝕劑 ●光致產(chǎn)酸劑 —— 苯環(huán)被稠環(huán)替代; 產(chǎn)酸效率 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 三、化學(xué)增幅抗蝕劑 ●抗蝕劑的配制工藝 配方( 1)組成: 成膜樹脂 100% N羥基馬來(lái)海松酸酰亞胺磺酸酯產(chǎn)酸劑 5% 乙二醇單乙醚 適量 制作工藝:將配方量的成膜樹脂和產(chǎn)酸劑加入計(jì)算量的乙二醇單乙醚中,攪拌溶解為溶液。 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 三、化學(xué)增幅抗蝕劑 ★光致抗?jié)駝┑男阅軝z測(cè) —— 以成膜樹脂為例: ●熱穩(wěn)定性與耐熱性: DSC測(cè)試; TDA測(cè)試玻璃化溫度; ●溶解性與堿溶性:顯影功能測(cè)試(按上述工藝成膜顯影); ●成膜性與機(jī)械強(qiáng)度:膜厚,粘附力,機(jī)械強(qiáng)度測(cè)試;TFA等測(cè)厚儀; ●微顆粒檢測(cè): ; ●金屬離子檢測(cè):電感耦合等離子質(zhì)譜; ●微量水分:微量水分測(cè)定儀 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 四、提高分辨率的途徑 瑞利方程 R= K1λ/NA 式中 —— R;分辨率; K1:工藝因子; λ:曝光波的波長(zhǎng)或稱工作波長(zhǎng); NA:光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑。….. 新的透鏡材料;難找到對(duì)光波不吸收的材料 更高數(shù)字孔徑光學(xué)系統(tǒng):難以加工 ●光學(xué)投影曝光波長(zhǎng)平板印刷的極限: —— 193nm的極限分辨率: μm —— 157nm的極限分辨率: μm ●下一代光刻技術(shù)( next generation lithography):x射線;極紫外;電子束;離子束投影光刻 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 結(jié)束語(yǔ) ● 我們面對(duì)著一門龐大的化工產(chǎn)業(yè):超凈高純電子化學(xué)品 它包括 —— 抗蝕劑或光刻膠;
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