光學投影平版印刷與光致抗蝕劑-文庫吧
2024-12-21 13:35 本頁面
【正文】 路； 光學投影平版印刷與光致抗蝕劑 光學投影平版印刷與光致抗蝕劑 一、光學平板印刷術 ? 光學投影平版印刷術材料與功能 光致抗蝕劑 （ photoresist） ,又稱光刻膠。它是由一種成膜聚合物與一種光敏化合物（ phtosensitive pound）加溶劑溶解配制而成。在紫外光作用下，光敏化合物與聚合物反應或增加其在堿性溶液（顯影液）中的溶解度被洗掉（正型聚合物）；或增加其交聯度，不能被非極性溶劑溶掉而留下（負型聚合物），從而將掩膜上的圖案轉移到硅片上。 光學投影平版印刷與光致抗蝕劑 一、光學平板印刷術 ? 光學投影平版印刷術材料與功能 掩膜 (ph0tomusk)—— 由透光襯底材料，即石英玻璃和不透光的金屬鉻吸收材料組成。其中鉻被安置成要被轉移的半導體圖案 (pattern).當紫外光照射時，光從透光的石英玻璃穿過，對其下的光抗蝕劑曝光 光學投影平版印刷與光致抗蝕劑 一、光學平板印刷術 ? 光學投影平版印刷的指標要求 分辨率（ resolution） ：指光刻系統所能分辨和加工的最小線寬；分辨率越高，則可加工的線寬就越細；芯片上的晶體管數目就可能越多； 焦深（ depth of focus） :指投影光學系統可清晰成像的尺度或距離；距離越短，則圖案可縮小的倍數越大，可以把更多的圖案投影、濃縮到晶片上； 關鍵尺寸（ critical dimension） 的控制：控制精確方可保證集成電路的性能。這與光刻膠材料的組成與性質；曝光加工工藝等緊密相關； 光學投影平版印刷與光致抗蝕劑 一、光學平板印刷術 ? 光學投影平版印刷的指標要求 對準和套刻（ alignment and overlay）精度 ：即在掩膜上安置鉻金屬圖案時要控制精確；將掩膜套住或罩住硅片時同樣要求十分精確。 產出（ throughout） ：集成電路的發(fā)展軌跡就是兩高一低，即高集成度，高產出和低成本。投影曝光工藝占整個硅片制造工藝的制造時間的 40%60%；成本占 1/3！因此十分重視高產出。 光學投影平版印刷與光致抗蝕劑 二、光致抗蝕劑 ●光致抗蝕劑 —— 又叫光刻膠；是一種物質，經過曝光后，曝光部分內部發(fā)生反應，可被堿性溶液溶去或被非極性溶劑留下的一類物質；它由成膜樹脂，光敏化合物和溶劑及添加劑（表面活性劑）組成。它分正型和負型，正型抗蝕劑在曝光后，曝光部分可被堿液溶去；負型在曝光后可被非極性溶劑留下，實現顯影。 ●對光致抗蝕劑的要求：對曝光光源敏感但不吸收；可顯影；有阻容性（反差或對比度好）。 光學投影平版印刷與光致抗蝕劑 光學投影平版印刷與光致抗蝕劑 光學投影平版印刷與光致抗蝕劑 二、光致抗蝕劑 ●成膜樹脂 —— 對曝光光源波長的光不吸收； 可溶于有機溶劑； 可顯影； 抗蝕性； 高的玻璃化溫度（ 130170℃ ）； 與基片有較好的粘結力。 光學投影平版印刷與光致抗蝕劑 光學投影平版印刷與光致抗蝕劑 二、光致抗蝕劑 ●感
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