光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑(已修改)
2025-01-08 13:35 本頁(yè)面
【正文】 引言 光學(xué)投影平版印刷術(shù) ●集成電路的誕生與摩爾定律； ●光學(xué)投影平版印刷術(shù)原理與工藝； ●光學(xué)投影平版印刷術(shù)材料與功能； 光致抗蝕劑 ●成膜樹(shù)脂； ●光敏化合物 ●溶劑與添加劑 化學(xué)增幅抗蝕劑 ●原理 ● 光致產(chǎn)酸劑 提高分辨率的途徑 光學(xué)投影平板印刷的極限 結(jié)束語(yǔ) 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 ? 引言 晶體管引起的技術(shù)革命 —— 集成電路； 半導(dǎo)體工業(yè)； 信息（ IT)產(chǎn)業(yè) 超凈高純電子化學(xué)品。 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 一、光學(xué)平板印刷術(shù) ●集成電路的誕生： 1947年 —— William Shockley, John Bardeen 和 Walter Brattain（ Bell實(shí)驗(yàn)室） ；晶體管 1956年 —— 諾貝爾獎(jiǎng) 1959年 —— Jach Kilby /Robert Noyce ●摩爾（ Moore)定律：芯片集成度每 18個(gè)月翻一番；器件尺寸每 3年縮小 ； ●摩爾定律的幕后推手：光刻技術(shù) —— 利用光致抗蝕劑（或稱光刻膠）感光后因光化學(xué)反應(yīng)而形成溶解性不同的特點(diǎn)，將掩模板上的圖形刻制到被加工表面上。 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 一、光學(xué)平板印刷術(shù) ●光學(xué)投影平版印刷術(shù)原理與工藝 平板印刷概念 —— 被印物與底板或非印物同在一個(gè)平面上；印刷時(shí)，底板以水浸濕，利用油水不沾原理，以油墨將印物印刷； 光學(xué)投影平版印刷 —— 將通過(guò)掩膜的光圖案，經(jīng)過(guò)光學(xué)系統(tǒng)，投影在涂有光致抗蝕劑的晶片上，后者發(fā)生內(nèi)部反應(yīng)后，經(jīng)顯影，刻蝕后，將掩膜圖案留在晶片上 一、光學(xué)平板印刷術(shù) 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 一、光學(xué)平板印刷術(shù) ●光學(xué)投影平版印刷術(shù)原理 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 一、光學(xué)平板印刷術(shù) ? 光學(xué)投影平版印刷術(shù)工藝 ●利用旋涂工藝將光致抗蝕劑均勻旋涂在底板或硅片上； ●套準(zhǔn)曝光 —— 將掩膜套準(zhǔn)已旋涂了光致抗蝕劑的底板或硅片并曝光。 ●顯影 —— 用顯影液浸泡，光致抗蝕劑的曝光部分被溶解掉； ●刻蝕，轉(zhuǎn)移 —— 腐蝕液繼續(xù)作用于顯露出的底板或硅片，將圖形轉(zhuǎn)移到底板或硅片上； ●剝?nèi)ノ锤泄獾目刮g基層。 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 一、光學(xué)平板印刷術(shù) ? 光學(xué)投影平版印刷術(shù)原理與工藝 學(xué)投影光平版印刷與光致抗蝕劑 學(xué)投影光平版印刷與光致抗蝕劑 光學(xué)投影平版印刷與光致抗蝕劑 一、光學(xué)平板印刷術(shù) ? 光學(xué)投影平版印刷術(shù)材料與功能 底板或硅片或稱硅圓片 （ wafer）；光學(xué)投影平版印刷的承接物 —— 通過(guò)刻蝕，在硅片上生成集成電
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