液態(tài)感光至抗蝕刻及圖形轉(zhuǎn)移工藝-wenkub
2023-07-09 04:44:04 本頁面
【正文】 id Photoresist） 液態(tài)感光至抗蝕劑（簡稱濕膜）是由感旋光性樹脂，配合感光劑、色料、填料及溶劑等制成，經(jīng)光照射后產(chǎn)生光聚合反應(yīng)而得到圖形，屬負性感光聚合型。圖形轉(zhuǎn)移是生產(chǎn)中的關(guān)鍵控制點，也是技術(shù)難點所在。其工藝方法有很多，如絲網(wǎng)印刷（Screen Printing）圖形轉(zhuǎn)移工藝、干膜（Dry Film）圖形轉(zhuǎn)移工藝、液態(tài)感光至抗蝕劑（Liquid Photoresist）圖形轉(zhuǎn)移工藝、電沈積光至抗蝕劑（ED膜）制作工藝以及激光直接成像技術(shù)（Laser Drect Image）。與傳統(tǒng)抗蝕油墨及干膜相比具有如下特點： a）不需要制絲網(wǎng)模版?！ ）濕膜涂布方式靈活、多樣，工藝操作性強，易于掌握。從而保證了產(chǎn)質(zhì)量量?！ ）由于是液態(tài)濕膜，可撓性強，尤其適用于撓性板（Flexible Printed Board）制作。5%，陰涼處密封保存，貯存期(Storage Life):4～6個月。因此，工作場地必須通風(fēng)良好。一般溫度≤25℃，相對濕度≤60%，無塵室黃光下操作，使用壽命為3天，最好24hr內(nèi)使用完?！ 2SO4: %?！ ∷ 海?～3kg/cm2?！ 〉湫偷幕瘜W(xué)前處理工藝： 去油→清洗→微蝕→清洗→烘干 去油： Na3PO4 40～60g/l Na2CO3 40～60g/l NaOH 40～60℃ 微蝕（Microetehing）： NaS2O8 2%V/V 溫度： 檢查方法：采用水膜試驗，水膜破裂試驗的原理是基于液相與液相或者液相與固相之間的接口化學(xué)作用。其方法有多種，如離心涂覆、浸涂、網(wǎng)印、簾幕涂覆、滾涂等。此法受到多數(shù)中小廠家的歡迎。 工作條件：無塵室黃光下操作，室溫為23～25℃，相對濕度為55177?！ ?）網(wǎng)印時若感光至涂覆層膜太厚，是因為絲網(wǎng)目數(shù)太??；膜太薄，那可能是絲網(wǎng)目數(shù)太大所至。 5）因液態(tài)感光至抗蝕劑含有溶劑，作業(yè)場所必須換氣良好。預(yù)烘的方式最常用的有烘道和烘箱兩種。這種一先一后預(yù)烘，使兩面濕膜預(yù)固化程度存在差異，顯影的效果也難保證完全一至。 控制好預(yù)烘的溫度（Temperature）和時間（Time）很重要。 ?。?）不要使用自然干燥，且干燥必須完全，否則易粘底片而至曝光不良?！ 。?）預(yù)烘后，涂膜到顯影擱置時間最多不超過48hr，濕度大時盡量在12hr內(nèi)曝光顯影。定位的方法有目視定位、活動銷釘定位，固定銷釘定位等多種方法。 活動銷釘定位系統(tǒng)包括照相膠卷沖孔器和雙圓孔脫銷定位器，其方法是：先將正面，反面兩張底版藥膜相對對準，用膠卷沖孔器在有效圖形外任意沖兩個定位孔，任取一張去編鉆孔程序，就可以利用鉆床一次性鉆孔，印制板金屬化孔及預(yù)鍍銅后，便可用雙圓孔脫銷定位器定位曝光。燈管6000W，曝光量100～300mj/cm2,密度測定采用21級光密度表(Stouffer21)，以確定最佳曝光參數(shù)，通常為6～8級?！ ∮绊懫毓鈺r間的因素： ?。?）燈光的距離越近，曝光時間越短； ?。?）液態(tài)光至抗蝕劑厚度越厚，曝光時間越長； （3）空氣濕度越大，曝光時間越長； ?。?）預(yù)烘溫度越高，曝光時間越短。 底片質(zhì)量的好壞，直接影響曝光質(zhì)量，因此，底片圖形線路清晰，不能有任何發(fā)暈、虛邊等現(xiàn)象，要
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