【正文】 組成： ICP 高頻發(fā)生器 + 炬管 + 樣品引入系統(tǒng) ICP光源特點 1） 低檢測限：蒸發(fā)和激發(fā)溫度高； 2） 穩(wěn)定 ， 精度高： 3） 基體效應小 4） 背景?。? 5） 自吸效應?。? ? 6）分析線性范圍寬 : ? 7）眾多元素同時測定： ? 不足：對非金屬測定的靈敏度低；儀器昂貴；維持費高。 直流電弧：接觸引燃，二次電子發(fā)射放電 V A E L G 220~380V 5~30A R 直流電弧特點： a） 樣品蒸發(fā)能力強 （ 陽極斑 ） 進入電弧的待測物多 絕對靈敏度高 尤其適于定性分析；同時也適于部分礦物 、 巖石等難熔樣品及稀土難熔元素定量； ? b）電弧不穩(wěn) 分析重現(xiàn)性差； ? c）弧層厚，自吸嚴重； ? d）安全性差。 原子的能級圖： ? 三 ． 光譜分析的特點： ? 1． 相當高的靈敏度： ? 2． 有較好的選擇性： ? 3． 準確度較高： ? 4． 能同時測定多種元素 ， 分析速度快 。 四 .光譜種類 （ 一 ） 依外形分類 ： 線狀光譜 : 帶狀光譜 : 連續(xù)光譜： ? 線光譜 :由若干條強度不同的譜線和暗區(qū)相間而成的光譜 。 ?二、物質與光的相互作用： ? 折射和反射 ? 散射 ? 吸收和發(fā)射 光學分析法可分為 光譜法 和 非光譜法 兩大類。 ? 波長（ λ）：表示相鄰兩個光波各相應點間的直線距離（或相應兩個波峰或波谷間的直線距離）。 操作簡便，分析速度快，容易實現(xiàn)自動化。三、儀器分析的分類 1. 光分析法 2. 電化學分析方法 3. 色譜法 4. 其它儀器分析方法 四、儀器分析的特點（與化學分析比較） 靈敏度高，檢出限量低。 相對誤差較大。 ? 波數(shù)（ ω）：指在單位長度內波的數(shù)目。 三、光學分析法分類 ? １．光譜法 ? 光譜法是基于物質與輻射能作用時，測量由物質內部發(fā)生量子化的能級之間的躍遷而產生的發(fā)射、吸收或散射輻射的波長和強度進行分析的方法。 ? 帶狀光譜 :由幾個光帶和暗區(qū)相間而成的光譜 。 5． 用樣量少： ?167。 ? 交流電弧：高頻高壓引燃、低壓放電 A ~ 220V l1 l2 G1 G2 L1 C1 L2 C2 B1 B2 R1 R2 低壓交流電弧特點： 1） 蒸發(fā)溫度比直流電弧略低；電弧溫度比直流電弧略高； 2）電弧穩(wěn)定，重現(xiàn)性好，適于大多數(shù)元素的定量分析； ? 3）放電溫度較高，激發(fā)能力較強； ? 4）電極溫度相對較低，樣品蒸發(fā)能力比直流電弧差，因而對難熔鹽分析的靈敏度略差于直流電弧。 ? 二 、 分光系統(tǒng) ? 構成：狹縫、準直鏡、棱鏡或光柵、會聚透鏡。 167。 ?將上式取對數(shù) ， 得： ? lgI=lga+blgc ?譜線強度的對數(shù)與被測元素濃度的對數(shù)具有線性關系。 ?2） 內標法進行定量分析的原理 ? lgR=lgA+ b1lg c1 ? R = I1/ I0 ? A = a1 / a0 c0b0 ， ? 3） 內標元素及內標線的選擇原則： ? 內標元素 ? 1） 外加內標元素在分析試樣品中應不存在或含量極微；如樣品基體元素的含量較穩(wěn)時 ， 亦可用該基體元素作內標 。 ? 2） 輻射的強度應足夠大 ?；鹧嫘偷脑踊到y(tǒng)我們把它叫做火焰原子化器。 ? 2． 原子化過程： ? MeX 脫水 MeX 蒸發(fā) MeX 分解 ? （ 溶液 ） （ 固體微粒 ） （ 氣態(tài)分子 ） ? Me ＋ X (基態(tài)原子 ) ? 3． 火焰：火焰的作用是將試液中的待測元素原子化 。但具有還原性 。 ? 石墨爐原子化器與火焰原子化器比較有如下優(yōu)點： ?1） 原子化效率高 ， 可達到90%以上 ， 而后者只有 10%左右 。 ? 2. 化學原子化（低溫原子化） ? 包括汞蒸汽原子化和氫化物原子化 。 ? （三）化學干擾：化學干擾是指在溶液中或氣相中由于待測元素與其它組分之間的化學反應而引起的干擾。而生成的化合物又很容易揮發(fā)和原子化，對測定不干擾。 ? （四）物理干擾： ? 是指試樣在轉移、蒸發(fā)和原子化過程中由于試樣任何物理因素的變化而引起的吸光度下降的效應。 ? （五）電離干擾： ? 電離干擾是指待測元素的原子電離而引入的干擾。 一、電化學分析分類： ? 電導分析法：以測量溶液的 電導 為基礎的分析方法。 ? 包括： 直接電位法和電位滴定法 ? 3．電解分析法 ? 電解分析法：應用外加電源電解試液，電解后稱量在電極上析出的金屬的質量，依此進行分析的方法。 ? 二、優(yōu)點 ? 儀器設備簡單； ? 分析速度快； ? 靈敏度高； ? 選擇性好。 ? 由于 溶液本體的 待測離子 來不及到達滴汞表面，因此，滴汞表面濃度 Cs 低于溶液本體濃度 C，即 Cs? C， 存在一個濃度梯度。 9—3 干擾電流及其消除 ? 1. 殘余電流 ： 在極譜分析時，當外加電壓未達分解電壓時所觀察到的微小電流，稱為殘余電流 (ir)。滴汞面積變化 ─雙電層變化 ─電容變化 ──充電電流。 ? 消除：通常是加入支持電解質 (或稱惰性電解質 )——類似于緩沖液。 ? 消除： a) 通入惰性氣體如 H N CO2 (CO2僅適于酸性溶液 )。 9—2 極譜定量分析的基本原理 ? 一、極限擴散電流的產生： ? 在極譜圖中，當過了 M點后，繼續(xù)增加電壓， EDME更負。 ? 此時，電解電流 i與離子擴散速度成正比，而擴散速度又與濃度差 (CCs) 成正比，與擴散層厚度 ? 成反比 , 即 ? i = k(CCs)/?。 ? ? 電容電流： 又為充電電流，是殘余電流的主要部分。 ? 扣除： ir 應從極限擴散電流中扣除：作圖法和空白試驗 。 ? 消除：加入可使表面張力均勻化的極大抑制劑，通常是一些表面活性物質如明膠、動物膠等。