機(jī)械設(shè)計(jì)制造及其自動(dòng)化專(zhuān)業(yè)畢業(yè)設(shè)計(jì)(論文)外文資料翻譯(已修改)
2025-06-19 18:14 本頁(yè)面
【正文】 湖南文理學(xué)院芙蓉學(xué)院 畢業(yè)設(shè)計(jì) (論文 )外文資料翻譯 學(xué) 院 ： 機(jī)械工程 學(xué)院 專(zhuān) 業(yè)： 機(jī)械設(shè)計(jì)制造及其自動(dòng)化 姓 名： 鄧 斐 學(xué) 號(hào)： 07100202 指導(dǎo)老師 ： 張世安 附 件： ； 。 指導(dǎo)教師評(píng)語(yǔ)： 簽名： 年 月 日 附件 1：外文資料翻譯譯文 光刻投影鏡頭多閉環(huán)溫度控制系統(tǒng) 聶宏飛 1，李 曉 平 1，＊ ，何 艷 2。 1國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，數(shù)字制造裝備與工藝，華中科技大學(xué) ,武漢 430074， 中國(guó)大學(xué) 2 天華 學(xué)院，上海師范大學(xué)，上海 202115，中國(guó) 2021 年 5月 27 日 收稿 ； 2021 年 1月 8日 修 訂； 2021 年 1月 22 日 定稿； 2021 年 2 月 6 日 電子 出 版 摘要： 圖像質(zhì)量是光學(xué)光刻工具的最重要指標(biāo)之一， 尤其易 受溫度 、 振動(dòng)和投影鏡頭（ PL）污染 的影響 。本地溫度 控制的 傳統(tǒng)方法更容易引入振動(dòng)和污染， 因此研發(fā)多閉環(huán) 溫度控制系統(tǒng)來(lái)控制 PL內(nèi) 部 溫度，并隔離振動(dòng)和污染 的影響 。一個(gè)新的遠(yuǎn)程間接 溫度 控制（ RITC）方 案 ，提出了 利用 冷卻水 循環(huán)完成對(duì) PL 的間接溫度控制 。嵌入溫度 控制 單元（ TCU） 的 加熱器和冷卻器 用于控制 冷卻水的溫度 ，并且， TCU 必須遠(yuǎn)離 PL,以 避免震動(dòng)和污染的影響。 一種包 含 一個(gè) 內(nèi) 部 級(jí)聯(lián) 控制 結(jié)構(gòu)（ CCS）和 一個(gè)外部 并行 串 聯(lián) 控制 結(jié)構(gòu) （ PCCS）的 新 型 多 閉環(huán) 控制結(jié)構(gòu) 被用來(lái) 防止大慣性， 多重遲滯 ， 和 RITC 系統(tǒng)的多重干擾。 一種非線性比例積分（ PI）的算法應(yīng)用，進(jìn)一步提高收斂速度和控制過(guò)程 的 精度。不同的控制回路和算法的對(duì)比實(shí)驗(yàn) 被用來(lái)驗(yàn)證對(duì)控制性能的影響。 結(jié)果表明，精度達(dá)到 ℃ 規(guī)格 的 多閉環(huán)溫度控制系統(tǒng)收斂 率快 ，魯棒性強(qiáng) ，自我適應(yīng)能力好。 該方法已成功地應(yīng)用于光學(xué)光刻工具，制作了 臨近尺寸 （ CD） 100納米的 模型 ，其 性能 令人滿意。 關(guān)鍵詞： 投影鏡頭，遠(yuǎn)程間接溫度 串級(jí)控制結(jié)構(gòu)，并行串 連 控制結(jié)構(gòu) ，非線性比例積分（ PI）的算法 1 簡(jiǎn) 介 由于集成電路縮小，更小的臨界尺寸（ CD）要求，生產(chǎn) 過(guò)程 的控制越來(lái)越嚴(yán)格。作為最重要的制造 工藝 設(shè)備，先進(jìn)的光學(xué)光刻工具需要更 嚴(yán)格 的微控制環(huán)境 [1]， 如嚴(yán)格控制其溫度 、 潔凈度 、 氣壓 、 濕度等 。 溫度波動(dòng)，特別是導(dǎo)致圖像失真 和 平面圖像轉(zhuǎn)變，成為 了 光學(xué)光刻工具對(duì)圖像質(zhì)量影響的 一個(gè) 關(guān)鍵因素。投影鏡頭 (PL)內(nèi)的 溫度 精度要求一個(gè)光刻工具 在接近 ℃ 制造 一個(gè)小于 100 nm 的模型 。另外 需要 PL 內(nèi)部溫度 收斂 率 快 以降低光刻技術(shù)的所有權(quán)（ CoD） 的成本 . 然而，實(shí)現(xiàn)這些目標(biāo) 是 一
畢業(yè)設(shè)計(jì)相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號(hào)-1