太陽能電池工藝流程培訓課件-在線瀏覽
2025-02-07 16:39本頁面
【正文】 、長袖膠皮手套。 11 擴散 太陽電池制造的核心工序 12 ?擴散的目的：形成 PN結(jié) PN結(jié) —— 太陽電池的心臟 13 １．三氯氧磷（ POCl3）液態(tài)源擴散 ２．噴涂磷酸水溶液后鏈式擴散 ３．絲網(wǎng)印刷磷漿料后鏈式擴散 本公司目前采用的是第一種方法。 3 2 2 5 24 5 2 6PO C l O P O C l? ? ? ?POCl3磷擴散原理 18 ? 由上面反應式可以看出， POCl3熱分解時，如果沒有外來的氧（ O2）參與其分解是不充分的，生成的 PCl5是不易分解的，并且對硅有腐蝕作用，破壞硅片的表面狀態(tài)。 ????? ??? 25225 10ClO2P5O4PCl 2過 量OPOCl3磷擴散原理 19 影響擴散的因素 ?管內(nèi)氣體中雜質(zhì)源的濃度 ?擴散溫度 ?擴散時間 20 ?在太陽電池擴散工藝中，擴散層薄層電阻（方塊電阻）是反映擴散層質(zhì)量是否符合設計要求的重要工藝指標之一。 擴散層薄層電阻及其測量 21 方塊電阻的定義 ?考慮一塊長為 l、寬為 a、厚為 t的薄層如右圖?？梢?， （ ρ/t） 代表一個方塊的電阻，故稱為方塊電阻，特記為 R□= ρ/t (Ω/□) ))(( altat lR ?? ???22 等離子體刻蝕 23 等離子體刻蝕模型 PSG n+ Si Before edge isolation After edge isolation 24 等離子體刻蝕原理 ?等離子體刻蝕是采用高頻輝光放電反應，使反應氣體激活成活性粒子，如原子或游離基，這些活性粒子擴散到需刻蝕的部位，在那里與被刻蝕材料進行反應，形成揮發(fā)性生成物而被去除。（這是各向同性反應） ?這種腐蝕方法也叫做干法腐蝕。 ?其次，這些活性粒子由于擴散或者在電場作用下到達 SiO2表面，并在表面上發(fā)生化學反應。 等離子體刻蝕反應 它們的離子以及CF,CF,CF,CF23e4 ? ??26 等離子體刻蝕反應 27 邊緣刻蝕控制 ? 短路形成途徑 由于在擴散過程中，即使采用背靠背擴散，硅片的所有表面（包括邊緣）都將不可避免地擴散上磷。此短路通道等效于降低并聯(lián)電阻。 28 去 PSG 29 去磷硅玻璃模型 PSG Before PSG removal After PSG removal 30 什么是磷硅玻璃？ ?在擴散過程中發(fā)生如下反應： ?POCl3分解產(chǎn)生的 P2O5淀積在硅片表面， P2O5與 Si反應生成 SiO2和磷原子： ?這樣就在硅片表面形成一層含有磷元素的 SiO2，稱之為磷硅玻璃。 ?若氫氟酸過量，反應生成的四氟化硅會進一步與氫氟酸反應生成可溶性的絡和物六氟
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