太陽能電池工藝培訓(xùn)資料-在線瀏覽
2025-03-06 00:16本頁面
【正文】 15 １．三氯氧磷（ POCl3）液態(tài)源擴散 ２．噴涂磷酸水溶液后鏈?zhǔn)綌U散 ３．絲網(wǎng)印刷磷漿料后鏈?zhǔn)綌U散 本公司目前采用的是第一種方法。 POCl3磷擴散原理 20 ? 由上面反應(yīng)式可以看出， POCl3熱分解時，如果沒有外來的氧（ O2）參與其分解是不充分的，生成的 PCl5是不易分解的，并且對硅有腐蝕作用，破壞硅片的表面狀態(tài)。 ????? ??? 25225 10C lO2P5O4P C l 2過 量OPOCl3磷擴散原理 21 影響擴散的因素 ?管內(nèi)氣體中雜質(zhì)源的濃度 ?擴散溫度 ?擴散時間 22 ?在太陽電池擴散工藝中，擴散層薄層電阻（方塊電阻）是反映擴散層質(zhì)量是否符合設(shè)計要求的重要工藝指標(biāo)之一。 擴散層薄層電阻及其測量 23 方塊電阻的定義 ?考慮一塊長為 l、寬為 a、厚為 t的薄層如右圖?？梢?， （ ρ/t） 代表一個方塊的電阻，故稱為方塊電阻，特記為 R□ = ρ/t (Ω/□ ) R=ρ*l/(a*t)=ρ/t*l/a 刻蝕 刻蝕的目的： ?在擴散過程中，硅片表面和四周都生長一層 PN結(jié)，若不去除邊緣的 PN結(jié)，制成的電池片因為邊緣漏電而無法使用。 26 濕法刻蝕原理 : 利用 HNO3和 HF的混合液體對硅片表面進行腐蝕 ,去除 邊緣的 N型硅 ,使得硅片的上下表面相互絕緣。 ???? PSiOSiOP 4552 2523 2 2 5 24 5 2 6P O Cl O P O Cl? ? ? ?30 磷硅玻璃的去除 ?氫氟酸能夠溶解二氧化硅是因為氫氟酸能與二氧化硅作用生成易揮發(fā)的四氟化硅氣體。 ?總反應(yīng)式為： O2HS iF4H FS iO 242 ????][ S iFH2H FS iF 624 ??O2H][ S iFH6H FSiO 2622 ???去除磷硅玻璃工藝 甩干 清洗液配制 裝片 開機 投片清洗 清洗液配制 ?將各槽中破損硅片等雜質(zhì)清除，用去離子水將各槽壁沖洗干凈。 ?向 2號槽中注滿去離子水。 ?注意，經(jīng)過磷擴散處理的表面，面向承片盒的背面放置，嚴(yán)禁裝反。 ?設(shè)定 1槽時間 1分鐘， 2槽時間 6分鐘。 ?將裝滿硅片的包塑不銹鋼提籃推至 0號位，按下控制板上“自動運行”按鈕，設(shè)備即開始自動運行 。 ?根據(jù)下表所列工藝參數(shù)設(shè)置甩干機工作條件。 循環(huán) 1 循環(huán) 2 溫度 ℃ N2壓力 (MPa) 空氣壓力 (MPa) Speed Time Speed Time 200RPM 1分鐘 550RPM 8分鐘 120℃ ~ ~ 37 去除磷硅玻璃的目的： 1) 磷硅玻璃的存在使得硅片在空氣中表面容易受潮，導(dǎo)致電流的降低和功率的衰減 2) 死層的存在大大增加了發(fā)射區(qū)電子的復(fù)合，會導(dǎo)致少子壽命的降低，進而降低了 Voc和 Isc。 38 檢驗標(biāo)準(zhǔn)
環(huán)評公示相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號-1