電鍍工藝學(xué)ppt課件(2)-在線瀏覽
2025-06-21 06:57本頁(yè)面
【正文】 氧化處理流程 機(jī)械噴砂 → 陽(yáng)極氧化 → 染色 → 封孔 （人工修整 ① ↑ ② 振動(dòng)拋光） → 脫脂 → 化學(xué)拋光 → 陽(yáng)極氧化 → 封孔 ③ ↓ 電化學(xué)拋光 → 陽(yáng)極氧化 → 封孔 鋁合金表面工藝技術(shù)舉例 ?具有較好的導(dǎo)電能力； ?降低歐姆電阻所產(chǎn)生的熱量； ?使氧化反應(yīng)正常進(jìn)行； ?電解液對(duì)金屬鋁和氧化膜有一定的溶解能力。 硼酸、檸檬酸、戊二酸 ?溶解能力不能過(guò)強(qiáng)： 得不到膜。 例如： 鋁及合金陽(yáng)極氧化過(guò)程的電極反應(yīng) 陽(yáng)極反應(yīng)： 陰極反應(yīng)： 化學(xué)溶解反應(yīng)： 臨界電壓 陽(yáng)極氧化電壓一時(shí)間曲線分析 ◎ ◎ ◎ (1) 鋁及合金陽(yáng)極氧化膜形成機(jī)理 下降幅度為 10%15% ◎ ：無(wú)孔層形成 （阻擋層） 特點(diǎn)：氧化膜的生成速度 溶解速度。 膜具有較高的電阻， 如：普通硫酸液，采用 13～ 18V槽電壓，無(wú)孔 層厚度約為 ～ 。 電化學(xué)反應(yīng)可繼續(xù)進(jìn)行，氧化膜繼續(xù)生長(zhǎng)。氧化膜的生長(zhǎng)是 向著金屬那一面 進(jìn)行。 電滲的作用： 工藝流程： 表面前處理 → 陽(yáng)極氧化 → 著色處理 → 封閉處理 常用工藝： 普通硫酸陽(yáng)極氧化工藝 硬質(zhì)陽(yáng)極氧化 鉻酸陽(yáng)極氧化 草酸陽(yáng)極氧化 磷酸陽(yáng)極氧化 （ 2）鋁及合金陽(yáng)極氧化工藝 特點(diǎn)： 槽電壓低、維護(hù)方便，成本較低； 允許雜質(zhì)含量范圍較寬； 膜層厚度為 5～ 20μm 、 吸附性好 ； 用途： 鋁件的防護(hù)和裝飾。 ?普通硫酸陽(yáng)極氧化工藝 ? 硫酸質(zhì)量濃度的影響 濃度高，膜化學(xué)溶解速度加快，膜軟薄，空隙多，吸附力強(qiáng)，染色性能強(qiáng)。 ? 溫度的影響 1020?C，氧化膜多孔，吸附性好，有彈性，宜染色 高于 26?C，氧化膜疏松且硬度低； 低于 10?C，氧化膜厚度增大，硬度高，耐磨性好，空隙低 ? 電流密度的影響 提高電流密度，生長(zhǎng)速度較快，氧化時(shí)間縮短，膜層化學(xué)溶解量減少，膜較硬，耐磨性好。 過(guò)低，氧化時(shí)間很長(zhǎng)，膜層疏松，硬度降低 特點(diǎn)： 采用 壓縮空氣攪拌 及 較低的溫度 ； 直流 、交流、交直流疊加及脈沖電流。 ?硬質(zhì)陽(yáng)極氧化（厚層陽(yáng)極氧化） 硬質(zhì)氧化膜與普通氧化膜特征比較 特征 膜厚/μm 顯微硬度/HV 孔徑/nm 孔隙率 /% 比電阻/Ωdm2 2~4 1~5 電壓 /V 20~120 40~60 溫度 /℃ 0177。 硬質(zhì)陽(yáng)極氧化工藝 特點(diǎn)： 膜層與 有機(jī)材料 結(jié)合力好； 膜層較薄，大致在 2～ 5μm； 膜層較軟，有彈性，孔隙少，不用封閉； 抗蝕性不如硫酸陽(yáng)極氧化膜； 膜層不透明，灰白－深灰色，不易著色。 ?鉻酸陽(yáng)極氧化 1923 Chromic acid anodizing (CAA) 用途： 精密零件 ，很少作裝飾用； （保持原有精度及表面粗糙度） 可作為良好的 涂裝底層 ； 橡膠粘結(jié)件與蜂窩結(jié)構(gòu)的面板。 用于鋁線繞組的良好絕緣層 ?草酸陽(yáng)極氧化 特點(diǎn)： 膜層孔徑大； 可作為 金屬電沉積的底層，涂裝底層 ； 鋁合金成分變化對(duì)氧化膜質(zhì)
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