led檢測技術(shù)1緒論及第一講-在線瀏覽
2025-06-18 18:23本頁面
【正文】 MGa N2 NH3 SiH4 有機金屬 源： MOCVD 系統(tǒng) 尾氣收集器 Scrubber 外延片 基片 大氣 氣態(tài) 源： TEGa TMIn TMAl Cp2Mg H2 Aixtron Veeco Thomas Swan 反應(yīng)腔（ Reactor Chamber） 加熱系統(tǒng) 石墨盤 參加反應(yīng)的三 /五族氣體 反應(yīng)腔 尾氣 Pockets 旋轉(zhuǎn) 原材料的檢測技術(shù) 1. H N NH SiH4等高純氣體，純度要求達到 6個 9以上，即 %以上 2. TMGa、 TEGa、 TMAl、 TMIn、 Cp2Mg等金屬有機源，純度要求達到 6個 9以上，即 %以上（江蘇南大光電材料股份有限公司（股票代碼： 300346）） 3. 基片（藍寶石、 SiC 、 Si）對晶體質(zhì)量、表面光潔度、表面缺陷等也有很高的要求 巧婦難為無米之炊，好的原材料是生長出好產(chǎn)品的必要條件！ 怎么檢測？檢測非常困難，不檢測！相信你的供應(yīng)商吧！ 生長過程檢（監(jiān)）測技術(shù) 1 各種氣體的流量變化、調(diào)節(jié)都由主控計算機按照預(yù)設(shè)程序完成 2 反應(yīng)溫度（石墨盤）的溫度除了利用設(shè)備自帶的熱電偶之外，還可以附加紅外熱像儀進行實時監(jiān)測 紅外熱像儀是被動紅外成像。在自然界中一切溫度高于絕對零度（－ 273． 16攝氏度）的物體都不斷地輻射著紅外線。通過探測微小的溫度差別，產(chǎn)生的圖像是熱圖像。這個過程就是光致發(fā)光，即 PL。 逐點掃描檢測計算機分析計算外延片的積分光強，主波長，峰值波長
環(huán)評公示相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號-1