電鏡培訓(xùn)資料ppt課件-在線瀏覽
2025-02-27 18:03本頁(yè)面
【正文】 射電子的發(fā)射范圍大，所以 X射線圖像的分辨率遠(yuǎn)低于二次電子像和背反射電子像。 ? 掃描電鏡的景深為比一般光學(xué)顯微鏡景深大 100500倍，比透射電鏡的景深大 10 倍。 ? 對(duì)于非導(dǎo)電樣品如塑料、礦物等，在電子束作用下會(huì)產(chǎn)生電荷堆積，影響入射電子束斑和樣品發(fā)射的二次電子運(yùn)動(dòng)軌跡，使圖像質(zhì)量下降。 8. 掃描電鏡應(yīng)用實(shí)例 ? 斷口形貌分析 ? 納米材料形貌分析 ? 在微電子工業(yè)方面的應(yīng)用 1018號(hào)鋼在不同溫度下的斷口形貌 斷口形貌分析 ZnO納米線的二次電子圖像 多孔氧化鋁模板制備的金納米線的形貌（ a）低倍像（ b）高倍像 （ a）芯片導(dǎo)線的表面形貌圖， （ b） CCD相機(jī)的光電二極管剖面圖。 1. 電子光學(xué)系統(tǒng) 作用 ：獲得掃描電子束。 主要包括：用于形成光柵狀掃描的 掃描系統(tǒng) ，以及使樣品上的電子束間斷性消隱或截?cái)嗟?偏轉(zhuǎn)系統(tǒng) 。 電子束在樣品表面進(jìn)行的掃描方式 (a)光柵掃描 (b)角光柵掃描 39 3．信號(hào)檢測(cè)放大系統(tǒng) ? 作用 ：收集 (探測(cè) )樣品在入射電子束作用下產(chǎn)生的各種物理信號(hào)，并進(jìn)行放大。 ? 二次電子、背散射電子和透射電子的信號(hào)都可采用 閃爍計(jì)數(shù)器 來(lái)進(jìn)行檢測(cè)。具有低噪聲、寬頻帶 (10Hz~1MHz)、高增益 (106)等特點(diǎn) 40 3．信號(hào)檢測(cè)放大系統(tǒng) ? 信號(hào)電子進(jìn)入閃爍體后即引起電離，當(dāng)離子和自由電子復(fù)合后就產(chǎn)生可見(jiàn)光。 （ 1）． 放大倍數(shù) 熒光屏上的掃描振幅 電子束在樣品上的掃描振幅 放大倍數(shù)與掃描面積的關(guān)系： (若熒光屏畫(huà)面面積為 10 10cm2) 放大倍數(shù) 掃描面積 10 (1cm)2 100 (1mm)2 1,000 (100μ m)2 10,000 (10μ m)2 100,000 (1μ m)2 AcAsK＝4. SEM的主要性能指標(biāo) 42 4. SEM的主要性能指標(biāo) （ 2） 分辨率 ： 樣品上可以分辨的兩個(gè)鄰近的質(zhì)點(diǎn)或線條間的距離。 影響 SEM圖像分辨率的主要因素有 ： ①掃描電子束斑直徑 ； ②入射電子束在樣品中的擴(kuò)展效應(yīng)； ③操作方式及其所用的調(diào)制信號(hào)； ④信號(hào)噪音比； ⑤雜散磁場(chǎng)； ⑥機(jī)械振動(dòng)將引起束斑漂流等，使分辨率下降。 43 4. SEM的主要性能指標(biāo) （ 2） 分辨率 ： 樣品上可以分辨的兩個(gè)鄰近的質(zhì)點(diǎn)或線條間 的距離。 影響 SEM圖像分辨率的主要因素有 ： ①掃描電子束斑直徑 ； ②入射電子束在樣品中的擴(kuò)展效應(yīng)； ③信號(hào)噪音比； ④雜散磁場(chǎng)； ⑤機(jī)械振動(dòng)將引起束斑漂流等，使分辨率下降。 ? SEM可以用二次電子、背散射電子、吸收電子、特征 X射線（帶 EDS或 WDS）、俄歇電子（單獨(dú)的俄歇電子能譜儀）等信號(hào)成像。 ? 影響二次電子產(chǎn)額的因素主要 有： (1)入射電子的能量； (2)材料的原子序數(shù)； (3)樣品傾斜角 ?。 通常所指的掃描電鏡的分辨率，就是指二次電子像的分辨率。 元素像 形貌像 形貌與元素象的分離 52 二次電子運(yùn)動(dòng)軌跡 背散射電子運(yùn)動(dòng)軌跡 二次電子像的分辨率高、景深大，為什么？ 樣品制備 ? 一般玻璃材料，纖維材料，高分子材料以及陶瓷材料幾乎都是非導(dǎo)電性的物質(zhì)。 ? 在樣品表面鍍金屬層不僅可以防止荷電現(xiàn)象，換可以減輕由電子束引起的樣品表面損傷；增加二次電子的產(chǎn)率，提高圖像的清晰度；并可以掩蓋基材信息，只獲得表面信息。 ? 鍍層太厚就可能會(huì)蓋住樣品表面的細(xì)微 ，得不到樣品表面的真實(shí)信息。 樣品制備 ? 表面鍍膜最常用的方法有 真空蒸發(fā) 和 離子濺射 兩種方法。 ? 一般經(jīng)常采用的是蒸鍍金屬金薄膜，但當(dāng)要求高放大倍數(shù)時(shí)
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