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mems基本結(jié)構(gòu)ppt課件-展示頁

2025-05-14 18:19本頁面
  

【正文】 引線 坑、溝、槽的制備 ? 濕法體硅腐蝕 – 二氧化硅 – 單晶硅 ? 等離子干法腐蝕 – 氮化硅 – 單晶硅 ? 高深寬比結(jié)構(gòu)( ICP、 ECR) – 單晶硅 薄膜、梁 ? 直接腐蝕,控制反應(yīng)時間 ? 犧牲層腐蝕 ? 自停止腐蝕(重?fù)诫s) ? SOI ? 電鍍 ? 非表面薄膜的制備(體硅腐蝕) 凸臺和質(zhì)量塊 ? 體硅腐蝕 ? 梁或平面 +電鍍 ? 防削角措施 基本電子元件 ? 電容 – 單芯片形成電容 – 多芯片組裝形成電容 ? 電阻 ? 電感(平面線圈)
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