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mems基本結(jié)構(gòu)ppt課件-wenkub

2023-05-20 18:19:24 本頁面
 

【正文】 ? 高深寬比結(jié)構(gòu)( ICP、 ECR) – 單晶硅 薄膜、梁 ? 直接腐蝕,控制反應(yīng)時間 ? 犧牲層腐蝕 ? 自停止腐蝕(重?fù)诫s) ? SOI ? 電鍍 ? 非表面薄膜的制備(體硅腐蝕) 凸臺和質(zhì)量塊 ? 體硅腐蝕 ? 梁或平面 +電鍍 ? 防削角措施 基本電子元件 ? 電容 – 單芯片形成電容 – 多芯片組裝形成電容 ? 電阻 ? 電感(平面線圈) – 基本線圈制備 – 帶軟磁材料芯的線圈 PZT壓電材料的制備 ? 濺射(厚度低) – 制作專用濺射靶,進(jìn)行濺射 – 濺射靶和
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