真空濺射鍍膜技術(shù)ppt課件-展示頁(yè)
2025-05-10 22:20本頁(yè)面
【正文】 上真空 ， 然后通入 Ar作為工作氣體 ， 使真空度保持在 ? ?101Pa。 真空蒸發(fā)鍍膜原理及其基本過(guò)程 被鍍材料蒸發(fā)過(guò)程 蒸發(fā)材料粒子遷移過(guò)程 蒸發(fā)材料粒子沉積過(guò)程 蒸發(fā)材料 蒸發(fā)材料粒子 基片(工件 ) 濺射鍍膜的原理及特點(diǎn) 濺射鍍膜： 在真空室內(nèi)用正離子 (通常是 Ar+)轟擊陰極 (沉積材料做的靶 )，將其原子濺射出，遷移到基片 (工件 )上沉積形成鍍層。 主要部分有： 真空容器 (提供蒸發(fā)所需的真空環(huán)境 )， 蒸發(fā)源 (為蒸鍍材料的蒸發(fā)提供熱量 )， 基片 (即被鍍工件 ， 在它上面形成蒸發(fā)料沉積層 )，基片架 (安裝夾持基片 ) 加熱器 。 ? 因?yàn)槿萜鲀?nèi)氣壓足夠低，這些原子或分子幾乎不經(jīng)碰撞地在空間內(nèi)飛散， ? 當(dāng)?shù)竭_(dá)表面溫度相對(duì)低的被鍍工件表面時(shí)，便凝結(jié)而形成薄膜。利用濺射現(xiàn)象沉積薄膜的技術(shù)叫 (濺射鍍膜 )。 1. 真空鍍膜分為 (蒸發(fā)鍍膜 ) 、 (離子鍍膜 )、 (濺射鍍膜 )和(化學(xué)氣相
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