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光刻技術簡介ppt課件-文庫吧資料

2025-05-12 03:51本頁面
  

【正文】 1:具有優(yōu)良的選擇性。 刻蝕就是將涂膠前所沉積的薄膜中沒有被光刻膠覆蓋和保護的那部分去除掉,達到將光刻膠上的圖形轉移到其下層材料上的目的。 堅膜也是一個熱處理步驟。 顯影就是用顯影液溶解掉不需要的光刻膠,將光刻掩模板上的圖形轉移到光刻膠上。 掩模板 光刻膠膜 增粘層 底膜 曝光 光源 曝光就是對涂有光刻膠的基片進行選擇性的光化學反應,使接受到光照的光刻膠的光學特性發(fā)生改變。在光刻膠表面張力和旋轉離心力的共同作用下,最終形成光刻膠膜。 步驟: 1 清洗 2 烘干 3 增粘處理 增粘層 光刻膠膜 底膜 涂膠 進行底模處理后,便可進行涂膠,即在底模上涂一層粘附良好厚度適當,均勻的光刻膠。 負膠在光刻工藝上應用最早,其工藝成本低,產量高,但由于它吸收顯
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