【摘要】回路中所產(chǎn)生的電動(dòng)勢(shì),叫熱電勢(shì)。熱電勢(shì)由兩部分組成,即接觸電勢(shì)和溫差電勢(shì)。12(1)接觸電勢(shì)0()lnAABBkTnETen?(2)溫差電勢(shì)????????00000n(,)(lnln)()TAAABABTBBTnTkETTT
2025-05-10 05:04
【摘要】利用光致抗蝕劑(或稱光刻膠)感光后因光化學(xué)反應(yīng)而形成耐蝕性的特點(diǎn),將掩模板上的圖形刻制到被加工表面上。利用照相復(fù)制與化學(xué)腐蝕相結(jié)合的技術(shù),在工件表面制取精密、微細(xì)和復(fù)雜薄層圖形的化學(xué)加工方法。多用于半導(dǎo)體器件與集成電路的制作。光刻:原理:光刻膠:也稱為光致抗蝕劑,它是由感光樹脂、增感劑和溶劑三部分組成的對(duì)光敏
2025-05-12 03:51
【摘要】半導(dǎo)體激光器光刻工藝?yán)瞽Z半導(dǎo)體激光器光刻工藝?光刻工藝步驟?808大功率激光器光刻流程?光刻質(zhì)量要求光刻工藝步驟以正型光刻膠為例:808大功率激光器光刻工藝?工藝步驟:外延材料生長?一次光刻(腐蝕臺(tái)面)?介質(zhì)膜生長?二次光刻(腐蝕介質(zhì)膜)
2025-05-05 04:29
【摘要】第七章光刻工藝前面工藝的遺留問題a.如何在一片硅片上定義、區(qū)分和制造出不同類型、不同結(jié)構(gòu)和尺寸的元件?b.如何把這些數(shù)以億計(jì)的元件集成在一起獲得我們所要求的電路功能?c.如何在同一硅片上制造出具有不同功能的集成電路。1、氧化、擴(kuò)散、離子注入
【摘要】大綱光刻工藝介紹一、光刻概述二、工藝流程三、主要工藝設(shè)備介紹四、其他清洗工藝介紹一、清洗概述二、常用濕法清洗(腐蝕)方法三、清洗機(jī)及超聲清洗四、等離子清洗機(jī)五、常用化學(xué)品理化特性光刻工藝介紹一、光刻概述二、工藝流程三、主要工藝設(shè)備介紹四、其他一、光刻概述1、什么是光刻通過曝光將掩模板(reticle)上的圖
2025-01-20 09:19
【摘要】1纏繞膜與纏繞機(jī)物流沙龍:gomelbj2022年09月03日2目錄一、纏繞膜介紹二、纏繞方式與設(shè)備三、配送中心操作現(xiàn)狀四、建議3一、纏繞膜介紹(STRETCHFILM)纏繞膜亦稱拉伸膜、
2025-05-13 00:40
【摘要】十大高端防爆膜品牌防爆膜的概念:根據(jù)car2100權(quán)威定義,防爆膜(Explosion-proof?membrane)是裝在壓力容器上部以防止容器爆炸的金屬薄膜,是一種安全裝置。又稱防爆片或爆破片。?當(dāng)容器內(nèi)壓力超過一定限度時(shí),薄膜先被沖破,因而可以降低容器內(nèi)的壓力,避免爆炸。在壓力容器中應(yīng)用極廣。?防爆膜一詞有時(shí)特指前擋風(fēng)膜。由于交通
2025-01-20 14:16
【摘要】光刻工藝■概述■掩膜版■光刻機(jī)■光刻膠■典型的光刻工藝流程參考資料:《微電子制造科學(xué)原理與工程技術(shù)》第7、8章(電子講稿中出現(xiàn)的圖號(hào)是該書中的圖號(hào))四、光刻膠由光敏化合物(PAC)、基體樹脂和有機(jī)溶劑等混合而成的膠狀液體。都是碳基有機(jī)化合物
【摘要】第八章基本光刻工藝流程光刻的目的和意義第四章已做過簡單的描述,這一章主要介紹基本光刻工藝中的表面準(zhǔn)備至曝光的工藝步驟及光刻膠的特性。簡介光刻工藝首先是在晶園表面建立盡可能接近設(shè)計(jì)規(guī)則中所要求尺寸的圖形,其次是在晶園表面正確定位圖形。晶圓晶圓晶圓
2025-01-10 19:51
【摘要】第8章光刻工藝概述2022年3月13日7時(shí)42分1第8章光刻工藝概述光刻技術(shù)的發(fā)展光刻工藝流程光刻技術(shù)第8章光刻工藝概述2022年3月13日7時(shí)42分2光刻技術(shù)的發(fā)展集成電路制造工藝流程回顧2、將硅片進(jìn)
2025-02-27 12:23
【摘要】激光器及光發(fā)射機(jī)光纖通信原理第三章光源調(diào)制器驅(qū)動(dòng)電路放大器光電二極管判決器光纖光纖中繼器光發(fā)射機(jī)將電信號(hào)轉(zhuǎn)變?yōu)楣庑盘?hào)第三章激光器及光發(fā)射機(jī)半導(dǎo)體激光器法布里-珀羅型激光器F-PLD分布反饋激光器DFBLD
2025-05-07 08:54
【摘要】第8章光刻膠一、光刻膠的類型凡是在能量束(光束、電子束、離子束等)的照射下,以交聯(lián)反應(yīng)為主的光刻膠稱為負(fù)性光刻膠,簡稱負(fù)膠。凡是在能量束(光束、電子束、離子束等)的照射下,以降解反應(yīng)為主的光刻膠稱為正性光刻膠,簡稱正膠。光刻膠的類型光刻膠也稱為光
2025-05-05 02:09
【摘要】集成電路工藝之光刻光刻?1、基本描述和過程?2、光刻膠?3、光刻機(jī)?4、光刻工藝?5、新技術(shù)簡介光刻基本介紹?在硅片表面勻膠,然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過程?將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時(shí)“復(fù)制”到硅片上的過程。?光刻在整個(gè)硅片加工成本中幾乎占三分之一。?光刻占40%到50%的
2025-01-10 19:32
【摘要】1第六章光刻工藝§1基本概念2一、光刻的定義:光刻是一種圖形復(fù)印和化學(xué)腐蝕相結(jié)合的精密表面加工技術(shù)。二、光刻的目的:光刻的目的就是在二氧化硅或金屬薄膜上面刻蝕出與掩膜版完全對(duì)應(yīng)的幾何圖形,從而實(shí)現(xiàn)選擇性擴(kuò)散和金屬薄膜布線的目的。3三、工藝流程:以負(fù)膠為例來說明這八個(gè)步驟,一般可分為
2025-05-13 07:17
【摘要】OpticalElectronics,Fall2022Lasercharacteristics?spectrallybroad?divergent?can’tbefocusedtightly?notveryintense?incoherent
2025-05-11 02:06