【摘要】第四單元:薄膜技術(shù)第8章:晶體外延生長技術(shù)第9章:薄膜物理淀積技術(shù)第10章:薄膜化學(xué)汽相淀積第8章:晶體外延生長技術(shù)–SiCl4的氫化還原——成核——長大–一般認(rèn)為反應(yīng)過程是多形式的兩步過程–如:–(1)
2025-05-13 13:43
【摘要】緒論1電子薄膜技術(shù)主講教師:徐進(jìn)辦公室:F410電話:83432236郵箱:緒論2第一堂課主要內(nèi)容?課程情況介紹?課程考核方式?薄膜材料的定義?薄膜技術(shù)的發(fā)展?課程教學(xué)內(nèi)容緒論3課程性質(zhì):微電子制造方向?qū)I(yè)課課程特點(diǎn):內(nèi)容豐富、概
2025-05-11 02:56
【摘要】薄膜物理與技術(shù)教材:唐偉忠.《薄膜材料制備原理、技術(shù)及應(yīng)用》冶金工業(yè)出版社32學(xué)時,選修課緒論?薄膜科學(xué)的發(fā)展歷史?薄膜的分類?薄膜科學(xué)的研究內(nèi)容?薄膜科學(xué)的基本概念?本課程的主要內(nèi)容?教材及參考書①two-dimensionmateria
2025-05-09 06:00
【摘要】薄膜材料與薄膜技術(shù)王成新薄膜材料的簡單分類薄膜材料涂層或厚膜薄膜(1um)(力,熱,磁,生物等)薄膜材料的制備技術(shù)薄膜材料的制備技術(shù)機(jī)械或化學(xué)方法真空技術(shù)(薄膜)噴涂
2025-01-22 06:34
【摘要】第四章薄膜成膜技術(shù)本章重點(diǎn)介紹了常用的薄膜材料性能;干式薄膜成膜方法;電路圖形形成技術(shù)等。?常用薄膜材料一、薄膜導(dǎo)體材料導(dǎo)體薄膜的主要用途是形成電路圖形,為半導(dǎo)體元件、半導(dǎo)體芯片、電阻、電容等電路部件提供電極及相互引線,以及金屬化等。應(yīng)具有以下特性:;,為歐姆連接;、機(jī)械強(qiáng)度高;,電氣特性也不發(fā)生
2025-05-18 13:55
【摘要】薄膜的性質(zhì)薄膜的性質(zhì)進(jìn)入20世紀(jì)以來.薄膜技術(shù)無論在學(xué)術(shù)上還是在實(shí)際應(yīng)用中都取得了豐碩的成果。其中特別應(yīng)該指出的是下述三個方面。第一是以防反射膜、干涉濾波器等為代表的光學(xué)薄膜的研究開發(fā)及其應(yīng)用。這種薄膜在學(xué)術(shù)上有重要意義,同時,具有十分廣泛的實(shí)用性,對此人們寄予了很大的希望。
【摘要】第九章:薄膜物理淀積技術(shù)MetalLayersinaChipMultilevelMetallizationonaULSIWaferPassivationlayerBondingpadmetalp+SiliconsubstrateViaILD-2ILD-3ILD-4ILD-5M-1M-2M-3
2025-05-13 13:44
【摘要】薄膜技術(shù)及應(yīng)用ThinFilmTechnologyandApplications于永強(qiáng)電子科學(xué)與應(yīng)用物理學(xué)院微納功能材料與器件研究室《薄膜材料制備原理、技術(shù)及應(yīng)用》唐偉忠,冶金工業(yè)出版社《薄膜物理與技術(shù)》楊邦朝,電子科技大學(xué)出版社《薄膜物理與技術(shù)》
2025-01-23 18:51
【摘要】化學(xué)氣相淀積與薄膜工藝ChemicalVaporDeposition&ThinFilmTechnology孟廣耀Tel:3603234Fax:3607627中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)材料科學(xué)與工程系固體化學(xué)與無機(jī)膜研究所2.CVD淀積過程的熱力學(xué)化學(xué)氣相淀積過程的熱力學(xué):回答該CVD系統(tǒng)為什么能
2025-05-11 12:06
【摘要】2022/5/261第二章外延及CVD工藝§1外延工藝一.外延工藝概述?定義:外延(epitaxy)是在單晶襯底上生長一層單晶膜的技術(shù)。新生單晶層按襯底晶相延伸生長,并稱此為外延層。長了外延層的襯底稱為外延片。2022/5/262CVD:ChemicalVaporDeposition
2025-05-04 22:58
【摘要】薄膜材料與納米技術(shù)ThinFilmMaterials&Nanotechnology北京科技大學(xué)材料科學(xué)學(xué)院唐偉忠Tel:62332475E-mail:課件下載網(wǎng)址:下
2025-05-10 12:08
【摘要】薄膜光學(xué)——基礎(chǔ)理論本此課的主要內(nèi)容?矢量法?對稱膜系的等效折射率?導(dǎo)納圖解法簡介薄膜光學(xué)——基礎(chǔ)理論矢量法利用組合導(dǎo)納的遞推法或矩陣法計算膜系的反射率雖然比較嚴(yán)格和精確,計算卻較為復(fù)雜,其工作量也較大。對于層數(shù)較少的減反射膜可以用矢量法作近似計算
2025-01-21 02:59
【摘要】2022/6/31半導(dǎo)體集成電路封裝技術(shù)天津工業(yè)大學(xué)主講人:張建新主樓A4152022/6/32課程概況?第1章集成電路芯片封裝概述?第2章封裝工藝流程?第3章厚膜與薄膜技術(shù)?第4章焊接材料?第5章印制電路板?第6章元器件與電路板的接合?第7
2025-05-12 18:01
【摘要】薄膜材料與薄膜技術(shù)第八章薄膜技術(shù)薄膜與高新技術(shù)?材料、信息技術(shù)與能源稱為現(xiàn)代人類文明的三大支柱。國民經(jīng)濟(jì)的各部門和高技術(shù)領(lǐng)域的發(fā)展都不可避免地受到材料發(fā)展的制約或推動。新材料的發(fā)展水平成為了衡量國家技術(shù)水平和綜合實(shí)力的重要標(biāo)志。?何謂“新材料”?簡單地說,就是那些新出現(xiàn)或已在發(fā)展中的,在成分、組織、結(jié)構(gòu)、形態(tài)等方面不同于
2025-01-25 02:49
【摘要】石墨烯的CVD法制備???CVD(chemicalvapordeposition):利用甲烷等含碳化合物作為碳源,高溫分解,在基體表面生長成石墨烯。滲碳析碳機(jī)制生長機(jī)理
2025-05-04 22:17