pss的生產(chǎn)工藝及原理(參考版)
2025-03-14 23:23本頁面
【正文】 2023年 3月 31日星期五 11時 21分 56秒 23:21:5631 March 2023 ? 1一個人即使已登上頂峰，也仍要自強(qiáng)不息。 2023年 3月 31日星期五 下午 11時 21分 56秒 23:21: ? 1最具挑戰(zhàn)性的挑戰(zhàn)莫過于提升自我。勝人者有力，自勝者強(qiáng)。 :21:5623:21Mar2331Mar23 ? 1越是無能的人，越喜歡挑剔別人的錯兒。 , March 31, 2023 ? 閱讀一切好書如同和過去最杰出的人談話。 2023年 3月 31日星期五 11時 21分 56秒 23:21:5631 March 2023 ? 1空山新雨后，天氣晚來秋。 。 :21:5623:21:56March 31, 2023 ? 1意志堅強(qiáng)的人能把世界放在手中像泥塊一樣任意揉捏。 :21:5623:21Mar2331Mar23 ? 1世間成事，不求其絕對圓滿，留一份不足，可得無限完美。 , March 31, 2023 ? 很多事情努力了未必有結(jié)果，但是不努力卻什么改變也沒有。 2023年 3月 31日星期五 11時 21分 56秒 23:21:5631 March 2023 ? 1做前，能夠環(huán)視四周；做時，你只能或者最好沿著以腳為起點(diǎn)的射線向前。 。 :21:5623:21:56March 31, 2023 ? 1他鄉(xiāng)生白發(fā)，舊國見青山。 :21:5623:21Mar2331Mar23 ? 1故人江海別，幾度隔山川。 , March 31, 2023 ? 雨中黃葉樹，燈下白頭人。 圖形底徑 B： － － 圖形間距 S： － － 片內(nèi)圖形高度、底徑均勻性 ≤5% 間距均勻性 ≤10% A2品尺寸標(biāo)準(zhǔn) （判斷時以 A品規(guī)則優(yōu)先） A3品尺寸標(biāo)準(zhǔn) （判斷時以 A品規(guī)則優(yōu)先） 死區(qū) 盲區(qū) 污染 彩紋 圖形不規(guī)則 刮傷 污染 馬賽克 彩紋數(shù)據(jù) 不同馬賽克情況 PSS襯底 LED波長均勻性比較 馬賽克效應(yīng)使波長均勻性變的相對較差。 圖形間 S： 177。 片內(nèi)圖形高度、底徑均勻性 ≤5% 間距均勻性 ≤10% 三、質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn) 圖形高度 H： 177。 圖形底 B： 177。每一種光刻膠都有其特定的前烘溫度和時間 光刻膠越厚，所需要烘烤的時間越長 熱板：直接加熱 烤箱：熱對流 前烘 烘烤過度：減少光刻膠中的感光成分的活性； 前烘不足：光刻膠中的溶劑不能完全被蒸發(fā)掉，這將阻礙光對膠的作用并且顯影 到其在顯影液中的溶解度；殘余的溶劑越多，顯影劑中溶解的速率越 高， 肌膚效應(yīng)： 應(yīng)建立前烘和曝光之間的關(guān)系， 曝光抗蝕劑的溶解速率和前烘溫度之間的關(guān)系 對準(zhǔn) 曝光 曝光工具： A、接觸式光刻機(jī) B、接近式光刻機(jī) C、步進(jìn)重復(fù)式曝光系統(tǒng) D、掃描式曝光系統(tǒng) NSR Utratech 曝光工藝控制 環(huán)境影響 光刻膠影響 曝光燈 掩膜板工藝 晶片質(zhì)量 曝光時間、強(qiáng)度分布 聚集、步進(jìn)設(shè)置等 曝光工藝 ——能量 ——DOF 曝光工藝 ——ALIGNMENT 對準(zhǔn)機(jī)制：在 wafer曝光臺上有一基準(zhǔn)標(biāo)記，可以把它看作是坐標(biāo)系的原點(diǎn)，所有其它的位置都相對該點(diǎn)來確定，分別將掩模版和硅片與該基準(zhǔn)標(biāo)記對準(zhǔn)就可
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