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模擬電子技術(shù)基礎(chǔ)(楊素行)第一章半導(dǎo)體器件(參考版)

2025-01-07 03:56本頁(yè)面
  

【正文】 場(chǎng)效應(yīng)管工作時(shí),柵源間 PN 結(jié)處于反偏狀態(tài),若UGS U(BR)GS , PN 將被擊穿,這種擊穿與電容擊穿的情況類似,屬于破壞性擊穿。 漏極耗散功率轉(zhuǎn)化為熱能使管子的溫度升高。一般為幾個(gè)皮法。單位: ID 毫安 (mA); UGS 伏 (V); gm 毫西門(mén)子 (mS) 這是場(chǎng)效應(yīng)管三個(gè)電極之間的等效電容,包括 CGS、CGD、 CDS。結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管一般在 107 ? 以上,絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)管更高,一般大于 109 ?。為耗盡型場(chǎng)效應(yīng)管的一個(gè)重要參數(shù)。ID/mAUGS /VOUP(a)轉(zhuǎn)移特性IDSS圖   MOS 管的符號(hào)SGDBSGDB(b)漏極特性ID/mAUDS /VO+1VUGS=0?3 V?1 V?2 V43215 10 15 20圖  特性曲線 場(chǎng)效應(yīng)管的主要參數(shù)一、直流參數(shù)1. 飽和漏極電流 IDSS2. 夾斷電壓 UP3. 開(kāi)啟電壓 UT4. 直流輸入電阻 RGS為耗盡型場(chǎng)效應(yīng)管的一個(gè)重要參數(shù)。++++++    UGS = 0, UDS 0,產(chǎn)生較大的漏極電流;    UGS 0,絕緣層中正離子感應(yīng)的負(fù)電荷減少,導(dǎo)電溝道變窄, ID 減??;    UGS = ? UP , 感應(yīng)電荷被“ 耗盡 ” , ID ? 0。UT 2UTIDOUGS /VID /mAO 圖 (a) 圖 (b)二、 N 溝道耗盡型 MOS 場(chǎng)效應(yīng)管P型襯底N+ N+BGS D++++++    制造過(guò)程中預(yù)先在二氧化硅的絕緣層中摻入正離子,這些正離子電場(chǎng)在 P 型襯底中 “ 感應(yīng) ” 負(fù)電荷,形成 “ 反型層 ” 。a. UDS UGS – UT ,即 UGD = UGS – UDS UTP 型襯底N+ N+BGS DVGGVDDP 型襯底N+ N+BS DVGGVDDP 型襯底N+ N+BGS DVGGVDD夾斷區(qū)DP型襯底N+ N+BGSVGGVDDP型襯底N+ N+BGS DVGGVDDP型襯底N+ N+BGS DVGGVDD夾斷區(qū)圖   UDS 對(duì)導(dǎo)電溝道的影響(a) UGD UT (b) UGD = UT (c) UGD UT3. 特性曲線(a)轉(zhuǎn)移特性(b)漏極特性ID/mAUDS /VO預(yù)夾斷軌跡恒流區(qū)擊穿區(qū) 可變電阻區(qū)UGS UT , ID = 0;    UGS ≥ UT,形成導(dǎo)電溝道,隨著 UGS 的增加,ID 逐漸增大。b. UDS= UGS – UT, UGD = UT    靠近漏極溝道達(dá)到臨界開(kāi)啟程度,出現(xiàn)預(yù)夾斷。(4) UDS 對(duì)導(dǎo)電溝道的影響 (UGS UT)    導(dǎo)電溝道呈現(xiàn)一個(gè)楔形。因?yàn)? UDS = 0 ,所以 ID = 0。VGG? ? ?(3) UDS = 0, UGS ≥ UT  由于吸引了足夠多的電子,會(huì)在耗盡層和 SiO2 之間形成可移動(dòng)的表面電荷層 ——? ? ?N 型溝道反型層、 N 型導(dǎo)電溝道。SBD圖 (2) UDS = 0, 0 UGS UTP 型襯底N+ N+BGS D P 型襯底中的電子被吸引靠近 SiO2 與空穴復(fù)合, 產(chǎn)生由負(fù)離子組成的耗盡層。一、 N 溝道增強(qiáng)型 MOS 場(chǎng)效應(yīng)管1. 結(jié)構(gòu)P 型襯底N+ N+BGS DSiO2源極 S 漏極 D襯底引線 B柵極 G圖   N 溝道增強(qiáng)型 MOS 場(chǎng)效應(yīng)管的結(jié)構(gòu)示意圖2. 工作原理 絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)管利用 UGS 來(lái)控制 “ 感應(yīng)電荷 ” 的多少,改變由這些 “ 感應(yīng)電荷 ” 形成的導(dǎo)電溝道的狀況,以控制漏極電流 ID。特點(diǎn):輸入電阻可達(dá) 109 ? 以上。圖  在漏極特性上用作圖法求轉(zhuǎn)移特性 絕緣柵型場(chǎng)效應(yīng)管 由金屬、氧化物和半導(dǎo)體制成。UDS = 常數(shù)ID/mA0??1? UGS /VUDS = 15 V5ID/mAUDS /V0UGS = 0? V? V? V? V10 15 20 25    結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管柵極基本不取電流,其輸入電阻很高,可達(dá) 107 ? 以上。兩個(gè)重要參數(shù) 飽和漏極電流 IDSS(UGS = 0 時(shí)的 ID)夾斷電壓 UP (ID = 0 時(shí)的 UGS)UDSIDVDDVGGDSGV?+ V?+UGS圖  特性曲線測(cè)試電路+?mA1. 轉(zhuǎn)移特性O(shè) uGS/VID/mAIDSSUP圖  轉(zhuǎn)移特性2. 漏極特性    當(dāng)柵源 之間的電壓 UGS 不變時(shí),漏極電流 ID 與漏源之間電壓 UDS 的關(guān)系,即 結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管轉(zhuǎn)移特性曲線的近似公式:≤ ≤IDSS/VID/mAUDS /VOUGS = 0V1 2 3 4 5 6 7 預(yù)夾斷軌跡 恒流區(qū)擊穿區(qū) 可變電阻區(qū)    漏極特性也有三個(gè)區(qū): 可變電阻區(qū)、恒流區(qū)和擊穿區(qū)。(a) (b)GDSP+NISIDP+ P+ VDDVGGUGS 0,UDG = |UP|, ID更小 , 預(yù)夾斷 UGS ≤UP ,UDG |UP|,ID ? 0,夾斷GDSISIDP+ VDDVGGP+P+(1) 改變 UGS , 改變了 PN 結(jié)中電場(chǎng),控制了 ID ,故稱場(chǎng)效應(yīng)管; (2)結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管柵源之間加反向偏置電壓,使 PN 反偏,柵極基本不取電流,因此,場(chǎng)效應(yīng)管輸入電阻很高。GDSP+ NISIDP+ P+ VDDVGG UGS 0, UDG , ID 較小。ID = 0GDSP+ P+N型溝道 (b) UGS 0VGGID = 0GDSP+ P+ (c) UGS = UPVGG    2. 在漏源極間加正向 VDD,使 UDS 0,在柵源間加負(fù)電源 VGG,觀察 UGS 變化時(shí)耗盡層和漏極 ID 。ID = 0GDSN型溝道P+ P+ (a) UGS = 0UGS = 0 時(shí),耗盡層比較窄,導(dǎo)電溝比較寬UGS 由零逐漸增大,耗盡層逐漸加寬,導(dǎo)電溝相應(yīng)變窄。    1. 設(shè) UDS = 0 , 在柵源之間加負(fù)電源 VGG,改變 VGG 大小。GDSNN型溝道柵極源極漏極P+ P+耗盡層     *在柵極和源極之間加反向電壓,耗盡層會(huì)變寬,導(dǎo)電溝道寬度減小,使溝道本身的電阻值增大,漏極電流 ID 減小,反之,漏極 ID 電流將增加。P 溝道場(chǎng)效應(yīng)管圖   P 溝道結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管結(jié)構(gòu)圖N+ N+P型溝道GSD P 溝道場(chǎng)效應(yīng)管是在 P 型硅棒的兩側(cè)做成高摻雜的 N 型區(qū) (N+), 導(dǎo)電溝道為 P 型 ,多數(shù)載流子為空穴。DSGN符號(hào) 結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管一、結(jié)構(gòu)圖   N 溝道結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管結(jié)構(gòu)圖N型溝道N型硅棒柵極源極漏極P+ P+P 型區(qū)耗盡層(PN 結(jié) )    在漏極和源極之間加上一個(gè)正向電壓, N 型半導(dǎo)體中多數(shù)載流子電子可以導(dǎo)電?!?chǎng)效應(yīng)三極管    只有一種載流子參與導(dǎo)電,且利用電場(chǎng)效應(yīng)來(lái)控制電流的三極管,稱為 場(chǎng)效應(yīng)管 ,也稱 單極型三極管?!?  電壓 (UBE、 UCE)實(shí)際方向與規(guī)定正方向相反。UCEUBE+?+?IEIBICeb
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