電子束和x射線輻照裝置食品加工劑量學(xué)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范(參考版)
2025-08-08 10:14本頁面
【正文】 。因為，電子束輻照裝置雙面輻照時加工負荷內(nèi)產(chǎn)品密度或厚度的微小改變及電子束能量的波動都會導(dǎo)致在加工負荷的中間部分產(chǎn)生不可接受 的劑量，所以必須謹(jǐn)慎地使用電子束輻照器的雙（多）面輻照技術(shù)。為了達到可以接受的劑量不均勻度，某些加工會要求采用雙面輻照技術(shù)（31，也可見ISO/ASTM 51649）。 運行參數(shù)：改變電子束特性（如：優(yōu)化電子束能量）可以改變劑量不均勻度，另外也可以采用衰減器、散射器和反散射器等方法（29， 30）改變劑量不均勻度。確定目標(biāo)劑量的詳細論述見參考文獻（3， 28）。實際中要求修改加工劑量極值，這些修改過的劑量限值被成為“目標(biāo)劑量值”。測量的吸收劑量數(shù)值的變化反應(yīng)了加工裝載模式（源于加工負荷動態(tài)通過輻照器時內(nèi)裝物料移動）、加工負荷的堆積密度、加工參數(shù)值的波動以及工作劑量計的不確定度對測量結(jié)果的影響。該關(guān)系必須可重現(xiàn)，并文件歸檔 劑量變化 在對給定產(chǎn)品裝載模型劑量繪圖時，應(yīng)該關(guān)注放置在多個加工負荷內(nèi)相似位置的劑量計可能給出不同的吸收劑量值。此時，應(yīng)該通過采用劑量計與產(chǎn)品混合并隨意通過輻照區(qū)域（5）的方式評估最小和最大吸收劑量，所用劑量計的數(shù)量應(yīng)能滿足獲得具有統(tǒng)計意義結(jié)果的要求。食物加工期間的溫度必須保持相對恒定（如：使用隔熱裝置）。冷凍或凍結(jié)食物日常加工期間，應(yīng)該其參考位置放置劑量計。這要求所有在冷凍的或凍結(jié)的食物加工期間可能影響吸收劑量的參數(shù)保持不變。 冷凍的或凍結(jié)的食物 幾乎所有的劑量計的響應(yīng)都具有溫度依賴性，這種依賴性常隨吸收劑量而變化。以確保獲得充分的和可接受的吸收劑量分布特性。應(yīng)繪制這種加工負荷和幾何尺寸的劑量分布曲線，并驗證其劑量分布是令人滿意的。用于劑量計繪圖程序中使用的劑量計不必與日常劑量監(jiān)測（）用的劑量計相同。 用于劑量繪圖的劑量計必須能夠?qū)椪债a(chǎn)品中的劑量或可能產(chǎn)生的劑量變化作出反映。將較多的劑量計集中布放 在預(yù)期可能出現(xiàn)最大和最小吸收劑量的區(qū)域，而將較少的劑量計布放在可能接受中等吸收劑量值的地方。 通過在所關(guān)注的一個或多個加工負荷的體積內(nèi)布放劑量計組的方法確定選定產(chǎn)品裝載模式最大和最小吸收劑量范圍（在輻照單元中）的位置。 產(chǎn)品或產(chǎn)品包裝箱對束軸的取向。為保 證能夠滿足特定產(chǎn)品吸收劑量的要求，在性能確認(rèn)時應(yīng)使用劑量測量來決定適宜的加工參數(shù)；這些工作可通過特定產(chǎn)品和產(chǎn)品裝載模式加工負荷吸收劑量繪圖（見 ）的方法進行。 11 性能確認(rèn) 目的食品輻照加工應(yīng)用通常與要求的最小和最大吸收劑量有關(guān)。并在質(zhì)量保證計劃中確定重復(fù)此程序周 期，并及時更新以前運行確認(rèn)的基本數(shù)據(jù)。 。 工中斷對產(chǎn)品本身的影響（如時間延遲）。 在參考面上放置一排劑量計或一條薄膜劑量計，在傳輸系統(tǒng)上完成一個停止、啟動順序的照射。為了確定本確認(rèn)所需加工負荷的數(shù)量，可從已運行的相同輻照裝置的數(shù)據(jù)中可獲取有用信息。選擇輻照材料的參考幾何條件，應(yīng)將劑量計放在材料上或材料內(nèi) 不影響測量的重現(xiàn)性。 劑量可變性 確定該裝置在參考幾何條件下具有授予一個可重現(xiàn)劑量值的能力，應(yīng)測量運行參數(shù)值的波動對吸收劑量的影響。 注13：在日常生產(chǎn)加工中，加速器傳輸速度與束流強度相匹配，若其中一個參數(shù)發(fā)生變化就會自動引起另一個參數(shù)相應(yīng)改變，使表面（或參考面）的吸收劑量 保持恒定。 應(yīng)在所有其他運行參數(shù)保持恒定的條件下，建立表面吸收劑量與傳輸速度之間的關(guān)系。直徑 小的掃描電子束也會沿著束寬度產(chǎn)生劑量脈沖。注12：在相同的平均束流強度下與直接作用的（脈沖調(diào)制型）加速器相比， 間接作用的（直流高壓型）加速器輸出脈沖時可授予更高的劑量率。參考面中的劑量不均勻性依賴于束斑的幾何尺寸、傳輸速度和掃描頻率（對使用束掃描技術(shù)的加 速器）匹配。設(shè)置傳輸速度、脈沖速率和掃描頻率的運行范圍。 表面劑量：建立表面劑量（或參考面劑量）與預(yù)定運行范圍（見ISO/ASTM 51649）內(nèi)的傳輸速度、電子束特性和電子束擴展等參 數(shù)之間的關(guān)系。 面向電子束的產(chǎn)品表面劑量主要取決于產(chǎn)品傳輸速度、電子束特性和束擴展（掃描特性）。應(yīng)使用適宜的劑量測量方法在參考材料中 建立全部預(yù)定參數(shù)的吸收劑量特性。對于X射線裝置：在低原子系數(shù)均質(zhì)材料中的深度劑量分布近似為指數(shù)，5 MeV 的X射線穿透能力略大于Co60γ輻射（見ISO/ASTM 51608 的圖 ）。穿透深度依賴電
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