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正文內(nèi)容

北大講義-刪減(參考版)

2024-08-15 14:46本頁面
  

【正文】 注:隧道二極管也稱江崎二極管,其伏安特性有負(fù)阻區(qū)。(使圖像向下平移)應(yīng)用:太陽能電池,光電二極管167。 光生伏特效應(yīng)原理:入射光源激發(fā)電子空穴對,在距勢壘區(qū)一個擴散長度范圍內(nèi)產(chǎn)生的少子可被勢壘區(qū)強電場抽到對方,形成光致電流,顯然這個電流與反向電流方向一致。167。擴散電容的計算:與過剩少子相對應(yīng),為保持電中性,存在過剩多子分布因此總存貯電荷 QD=Qp+Qn ,對p型區(qū)同理,所以總存貯電荷由此得到擴散電容從擴散電容的表達(dá)式可以看出,CD隨正向偏壓指數(shù)增加,故反偏時極小。 擴散電容擴散電容:在正向偏壓下,空間電荷區(qū)外擴散長度范圍內(nèi)存貯有過剩載流子Δn,Δp(可參見本章167。(b) 實際可類似平行板電容得出,V越大時,d越小,電容越大。為簡化計算,我們引入“耗盡近似”,即認(rèn)為勢壘區(qū)載流子均已耗盡(空間電荷區(qū)載流子濃度趨于零)得到電荷分布如下圖:n區(qū) p區(qū)e?ND xn xp e?NA 電荷分布圖電荷分布為由電中性條件得到:eNDxn=eNAxp (即結(jié)兩側(cè)所帶正負(fù)電量之和為0)從而有,把空間電荷區(qū)厚度(xn+xp)用d表示,即d=(xn+xp)則存儲電荷 |Q|= eNDxn=eNAxp=,其中稱為約化濃度,用N*表示,故|Q|= ed N*,由于電場分布,而ρ(x)在兩側(cè)為常數(shù),因此E(x)在兩側(cè)均為線性變化,得到電場分布如下圖所示:n區(qū) p區(qū) EM xn xp 電場分布圖不難求得,而xn ,xp兩點電勢差ΔV等于兩點之間對電場的積分,因此等于電場分布圖中陰影的面積。 勢壘電容勢壘電容:外加電壓可以改變勢壘高度,使空間電荷區(qū)厚度發(fā)生變化而產(chǎn)生的電容效應(yīng)。下面分別進(jìn)行詳細(xì)介紹。2 pn結(jié)電容pn結(jié)包含兩種電容效應(yīng):勢壘電容和擴散電容。n區(qū)電子漂移電流注入到p區(qū)邊界,少子擴散電流邊擴散邊復(fù)合,擴散電流減少,與空穴復(fù)合轉(zhuǎn)化為空穴電流。另外,和都正比于,因此有:,因此ni小時(對應(yīng)于寬禁帶材料)空間電荷區(qū)復(fù)合作用大。綜上我們可以看到,反向電流很小是由于受有限的產(chǎn)生速率限制,如果在擴散長度范圍內(nèi)提供少子,將使反向電流增加。反向偏壓p區(qū)n區(qū)np0 pn0 p n xp xn 反向pn結(jié)少子分布圖EFp e(VD+VR) eVR EFn反向偏壓時仍然成立,只是式中的V在此時為負(fù)數(shù),反向偏壓下,準(zhǔn)費米能級的降落仍在空間電荷區(qū)以外,只是在反偏下勢壘升高,空間電荷區(qū)少子欠缺,由于少子擴散區(qū)Δp,Δn為負(fù)值,將有載流子不斷產(chǎn)生,并輸運到勢壘邊界,由空間電荷區(qū)的強電場掃入對方,因此反向電流實際上是少子擴散區(qū)的產(chǎn)生電流。2. 正向偏壓下中很大,則式中的“1”可以省略,近似有j隨V指數(shù)增長?!吆驮谕ǔ5膹婋婋x條件下取決于摻雜濃度,是常數(shù),而,可以看出,禁帶越寬越小,溫度越高越大。正向偏壓正向偏壓時,注入的少子依靠在勢壘兩側(cè)建立的少子濃度梯度向縱深擴散,穩(wěn)定注入下,少子電流與第五章中一維擴散問題相同,由于注入少子存在,故勢壘區(qū)附近不存在電子和空穴的統(tǒng)一費米能級(以后用EFh和EFe表示空穴和電子的準(zhǔn)費米能級,用EFn和EFp表示很遠(yuǎn)時統(tǒng)一的費米能級)p區(qū)n區(qū) Δp Δn pn0np0 xp xn 注入少子分布圖 e(VD?V) EC EFn EFp eV EV 正向pn結(jié)的能帶圖在任一點,電流可以寫作通過同一截面的電子電流和空穴電流之和,有j = jp(x) + jn(x)因此可以利用xp點的電流來表示通過pn結(jié)的電流,即j = jp(xp) + jn(xp)假設(shè)電子和空穴通過空間電荷區(qū)時不發(fā)生復(fù)合,則有jp(xp) = jp(xn) ∴j = jp(xn) + jn(xp)由第五章一維擴散結(jié)論得到由前面的推論可知費米能級主要變化在載流子濃度低的地方,又因為空間電荷區(qū)相對于電子空穴擴散長度很短,故可以認(rèn)為準(zhǔn)費米能級是在勢壘區(qū)以外降落的,據(jù)此得到上面的能帶圖。 pn結(jié)的伏安特性pn結(jié)的伏安特性概括起來就是單向?qū)щ娦裕粼趐n結(jié)上加正向電壓,電壓將主要降在勢壘區(qū),使勢壘降低,擴散電流將超過漂移電流而形成正向電流,由于這是驅(qū)使多子向?qū)Ψ搅鲃樱士尚纬奢^大的正向電流;若施加反向電壓,勢壘增高,電場增強,漂移電流超過擴散電流形成反向電流,但由于這時是驅(qū)使少子流向?qū)Ψ剑娏鱽碓词艿絿?yán)重限制,因此反向電流通常很小。在pn結(jié)中,若加偏壓,則電壓將體現(xiàn)在與勢壘相聯(lián)系得高阻區(qū)。證明:非均勻半導(dǎo)體電流可以表示為由于再代入得到,得證。廣義歐姆定律對于均勻半導(dǎo)體,有 ……式由于費米能級與帶邊之間距離恒定(均勻半導(dǎo)體,因此EF相對Ei的位置恒定)因此上面式等價于 ……式對于非均勻半導(dǎo)體,由于存在擴散電流式不再成立,但是可以證明,漂移電離和擴散電流之和仍可用式表示,因此也稱式為廣義歐姆定律表達(dá)式。從而阻止載流子向?qū)Ψ綌U散,自建場使n區(qū)能帶連同費米能級相對p區(qū)下降,直到使EF水平,形成勢壘。 平衡pn結(jié)pn結(jié)實際上是一種非均勻半導(dǎo)體,因此熱平衡時各處費米能級在同一水平上,這是依靠在界面附近形成空間電荷區(qū)和自建電場實現(xiàn)的。1 pn結(jié)及其伏安特性基本特性:單向?qū)щ娦裕琾接(+)時稱為正向?qū)?,p接(?)時稱為反向截止。l 陷阱效應(yīng)在半導(dǎo)體中,雜質(zhì)和缺陷除了起施主、受主和復(fù)合中心的作用,在有些情況下,還能起陷阱作用:即陷阱中心能顯著俘獲并收容其中一種過剩載流子,這種情況下,代替Δp=Δn有Δp=Δn+ΔntΔnt表示為過剩載流子引起中心上的電子改變量。設(shè)某點x=0處的電子濃度為n0,把該點電勢定為0,則其它點電子濃度為 ,∴擴散流為 ,∴擴散電流為由于擴散電流與漂移電流之和為零,有故得到,同理有,綜上,公式得證。(我們前面討論的情況就是這種)167。則有(Δp)0 = G/(+ Sp)167。 表面過剩載流子濃度(Δp)0光產(chǎn)生率G:由于光照每秒產(chǎn)生的過剩載流子濃度?!?如同Δp以擴散速度運動的結(jié)果,∴稱為擴散速度。 一維穩(wěn)定擴散(以N型半導(dǎo)體為例)面光照產(chǎn)生過剩載流子(Δp)0向體內(nèi)擴散,邊擴散邊復(fù)合,如光照穩(wěn)定,可形成穩(wěn)定分布Δp(x),達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài)后有:積累速率=凈復(fù)合速率∵p=p0+Δp ,而p0是常數(shù) ∴dp = dΔp ∴擴散流為:j = ?Dp(dΔp/ dx)故積累率 ,而復(fù)合率R=Δp/τ , (其中τ為壽命)從而得到微分方程:,其通解為其中Lp=,稱為擴散長度。對三維來說有擴散流公式:由擴散流所產(chǎn)生的電流為:總電流為擴散電流和漂移電流之和,因此有:對于半導(dǎo)體中的少數(shù)載流子來說,其運動的主要形式是擴散運動,漂移流很小,可以略去;而對于多子來說,擴散流和漂移流都要考慮。對簡單的一維擴散,有:電子的擴散流: ,其中比例系數(shù)Dn稱為電子擴散系數(shù)。 Ei 弱P區(qū) 高阻區(qū) Et強P區(qū) EVEF所屬區(qū)域n0,p0,n1,p1大小關(guān)系化簡的壽命強N型區(qū)n0 p1 n1 p0高阻區(qū) 弱N型區(qū)p1 n0 p0 n1弱P型區(qū)p1 p0 n0 n1強P型區(qū)p0 p1 n1 n0167。下面分區(qū)進(jìn)行說明。把禁帶分為3部分——強N區(qū)、強P區(qū)和高阻區(qū)。(但由于n1和p1隨溫度下降而減小,故在極低溫條件下,淺能級雜質(zhì)也能起到復(fù)合中心的作用)小信號下的壽命小信號即過剩載流子濃度遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于多子濃度的情況,此時有:凈復(fù)合率=則根據(jù)EF在禁帶中的位置來對壽命進(jìn)行化簡:設(shè)Et位于禁帶下半部,Et180。穩(wěn)態(tài)(存在過剩載流子)存在過剩載流子時電子的凈復(fù)合率= Cn?En ;空穴的凈復(fù)合率=Cp?Ep穩(wěn)態(tài)時有電子的凈復(fù)合率與空穴的凈復(fù)合率相同,稱為電子空穴對的凈復(fù)合率,即凈復(fù)合率=Cn?En=Cp?Ep由Cn?En=Cp?Ep 得到:從中解得代回到凈復(fù)合率的表達(dá)式得到:凈復(fù)合率= Cn-En= ∵,代入上式得到凈復(fù)合率的最終表達(dá)式:凈復(fù)合率=由凈復(fù)合率的表達(dá)式我們可以看出復(fù)合中心通常是深能級雜質(zhì),因為對淺施主能級雜質(zhì)來說,n1很大;對淺受主能級雜質(zhì)來說,p1很大。四個基本過程: 甲 乙 丙 丁(箭頭表示電子運動方向) 1. 甲過程把單位時間俘獲電子數(shù)定義為電子俘獲率,用Cn表示,有:Cn = rn?n? (Ntnt)其中Nt:復(fù)合中心濃度; nt:俘獲中心電子濃度; (Ntnt)即表示復(fù)合中心的空穴濃度; rn :電子俘獲系數(shù)即單位時間從導(dǎo)帶俘獲的電子數(shù)正比于導(dǎo)帶電子濃度,正比于復(fù)合中心的空穴濃度,比例系數(shù)是rn 2. 乙過程把單位時間激發(fā)的電子數(shù)定義為電子激發(fā)率,用En表示,有:En=sn?nt其中Sn是比例系數(shù)3. 丙過程類似定義空穴俘獲率Cp,有:Cp=rp?p?nt ,rp是空穴俘獲系數(shù)4. 丁過程 類似定義空穴激發(fā)率Ep,有:Ep=sp? (Nt?nt) , sp是空穴激發(fā)系數(shù)上述過程中定義的比例系數(shù)日rn,sn,rp,sp可以認(rèn)為是與n,p無關(guān)的常數(shù),但rn和sn,rp和sp之間是相聯(lián)系的,當(dāng)熱平衡時,甲、乙兩過程平衡,即Cn=En ,丙、丁兩過程平
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