磁控濺射鍍膜原理與工藝(參考版)
2025-07-02 15:27本頁面
【正文】 只有你自己才能把歲月描畫成一幅難以忘懷的人生畫卷。歲月是有情的，假如你奉獻給她的是一些色彩，它奉獻給你的也是一些色彩。努力過后，才知道許多事情，堅持堅持，就過來了。有時候覺得自己像個神經(jīng)病。在紛雜的塵世里，為自己留下一片純靜的心靈空間，不管是潮起潮落，也不管是陰晴圓缺，你都可以免去浮躁，義無反顧，勇往直前，輕松自如地走好人生路上的每一步3. 花一些時間，總會看清一些事。參考文獻［1］王增福. 實用鍍膜技術(shù). 電子工業(yè)出版社，2008.［2］程守洙，江之永. 普通物理學. 北京：高等教育出版社, 1982.［3］嚴一心，林鴻海. 薄膜技術(shù). 北京：兵器工業(yè)出版社,1994. ［4］KumruM.[J ].Thin Solid .1. 若不給自己設(shè)限，則人生中就沒有限制你發(fā)揮的藩籬。在某一個最佳工作氣壓下，有一個對應的最大沉積率。（2）隨著Ar氣分子的增多，濺射原子與Ar氣分子的碰撞次數(shù)大量增加，這導致濺射原子能量在碰撞過程中大大損失，致使粒子到達基片的數(shù)量減少，沉積速率下降。而當工作氣壓過大時，沉積速率會減小，原因有如下兩點：（1）由于氣體分子平均自由程減小，濺射原子的背反射和受氣體分子散射的幾率增大，而且這一影響已經(jīng)超過了放電增強的影響。氣體分子平均自由程與壓強有如下關(guān)系其中為氣體分子平均自由程, k為玻耳茲曼常數(shù)，T為氣體溫度, d為氣體分子直徑, p為氣體壓強。靶材基底負偏壓V工作氣壓103torr傳動速度m/min鍍膜時間min厚度nm沉積率nm/min純銅陶瓷7036200純銅陶瓷7036260純銅陶瓷7036320純銅陶瓷7036310純銅陶瓷7036290純銅陶瓷7036260純銅陶瓷7036225備注：純銅含銅率≥%由工作氣壓與沉積率的關(guān)系表可以看出：在其他參數(shù)不變的條件下，隨著工作氣壓的增大，沉積速率先增大后減小。當氣罐流量變?yōu)榱愫?，關(guān)閉流量計Ⅱ，繼續(xù)抽半個小時到兩個小時。（9）鍍膜完畢后，關(guān)閉直流或射頻電源，關(guān)閉氬氣總閥門。否則查明原因），調(diào)節(jié)控制電離真空計示數(shù)約1Pa，調(diào)節(jié)直流或射頻電源到所需功率，開始鍍膜。（6）清洗完成后，按離子源參數(shù)調(diào)節(jié)相反的順序?qū)⒏鲄?shù)歸零，關(guān)閉離子源，將流量計Ⅱ置于關(guān)閉檔。（5）但真空度達到5104Pa時，關(guān)閉復合真空計，開啟電離真空計，通氬氣（流量20L/min），打開氣路閥，將流量計Ⅰ撥至閥控檔，穩(wěn)定后打開離子源，依次調(diào)節(jié)加速至200V~250V，中和到12A左右，陽極80V，陰極10V，屏極300V。（4）（選擇操作）打開加熱控溫電源。（2）基片和靶準備好后，升降機下降至真空腔密封（注意：關(guān)閉真空腔時用手扶著
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